• 产品名称: 低真空CVD系统

 

 

 

 

     这款配置的低真空CVD系统集1200度开启式真空管式炉,多通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产(有双温区、三温区、四温区、五温区、多温区),可预抽真空(有高真空、低真空),通多种气氛(供气系统有质子流量器和浮子流量控制器)。真空泵可选用进口设备,性能可靠。控制电路选用模糊PID程控技术,具有控温精度高,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

 

 
 
真空管aa式炉BTF-1200C-IV
额定功率:5Kw
额定电压:AC220~240V  50Hz
最高温度:1200℃
额定温度:1100℃
加热区长度:150+200+150+300mm4点控温)
升温速率:≤20 ℃/min
炉管尺寸:Φ100*14000mm(可选)
外型尺寸(长×宽×高):1030×430×580mm
重量:80kg
         
供气系统GMF-3Z
 
(质子流量计)
外形尺寸:600x600x650mm
连接头类型:双卡套不锈钢接头。
标准量程(N2):100、200、500sccm; (可根据用户要求定制)
准确度:±1.5%F.S.
线性:±0.5~1.5%F.S.
重复精度:±0.2%F.S.
响应时间:气特性:1~4 Sec,电特性:10 Sec
工作压差范围:0.1~0.5 MPa
最大压力:3MPa
接口:Φ6,1/4''
显示:4位数字显示
工作环境温度:5~45高纯气体            
内外双抛不锈钢管:Φ6
压力真空表:-0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格
截止阀:Φ6
 
   低真空机组VAU-02
型号:VRD-8
抽速:8m³/h
极限真空度:5*10-1pa
电源:220v 50hz
电机功率:0.4kw 
进排气连接口:KF25
用油量:0.6-1L
电机转速:1440rpm
工作环境温度:5-40℃
噪音:≤56db

关键词: