• 产品名称: 近距离可调化合物薄膜沉积系统CSS Close Spaced Sublimation

 

  

 
       本设备采用上下两个独立红外加热体,用磨砂石英作为绝热和支架,配备样品测温点,可直接测试样品温度。可以通过调节上加热体来增加或缩短两个加热体间的距离,实现不同的可控温差范围。也可以通过石墨片阻挡热辐射的方式拉大蒸发源和乘积基体的温差,利用距离无限接近而产生巨大温差,在高真空下利用分子束缚后的活力跳动到基体表面,(分子活性较差的会被筛选)从而生长出各种高质量的薄膜。配备的异型石英样品架可以承载各种形态的基体。这是一种超纯净的薄膜生长方法。
 

   

功率
8KW
控温点
2点
样品测温点
1点
上下最大温差
600℃
上下距离调节范围
5-80mm
最高温度
1100℃
最快升温速度
150℃/s
最高真空度
5.0*10-3Pa
气体流量范围
0-500sccm(质量流量计)
最大样品装载尺寸
80*80mm

 

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