• 产品名称: 小型蒸镀设备

 

这款蒸镀仪是我公司研发的一款微型高真空蒸镀薄膜生长设备,利用高真空下材料分子束缚分离后的动力实现蒸发,可通过蒸发台和基体之间的距离调节实现对分子的筛选,从而制备出高质量的薄膜。广泛用于钙钛矿电池行业,OLED行业。设备最高真空可以到5X10-4Pa,最高温度800度,蒸发台和基体之间距离可调等功能

 

 

最高温度: 800度
控温精度: +— 1度
设备最高真空度: 5X10-4Pa(配分子泵)
设备外形尺寸
基体上下位置可调行程:0-50mm
基体台旋转:可选
设备进出气口:已预留
控温方式:30段模糊型PID
通讯接口方式:232
报警功能:超温、短偶

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