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产品名称

小型蒸镀设备

设备简介:这款蒸镀仪是我公司研发的一款微型高真空蒸镀薄膜生长设备,利用高真空下材料分子束缚分离后的动力实现蒸发,可通过蒸发台和基体之间的距离调节实现对分子的筛选,从而制备出高质量的薄膜。广泛用于钙钛矿电池行业、OLED行业。设备最高真空可以到5x10⁻⁴Pa,最高温度800度,蒸发台和基体之间距离可调等功能。
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产品描述
产品参数

最高温度

800℃

控温精度

±1℃

设备最高真空度

5x10-4Pa(配分子泵)

基体上下位置可调行程

0-50mm

基体台旋转

可选

设备进出气口

已预留

控温方式

30段模糊型PID

通讯接口方式

232

报警功能

超温、断偶

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