TEL:400-0033-603
合肥投资促进局领导调研百思集团产品研发中心
百思集团2018年会集锦
第五届全国储能科学与技术大会
热烈祝贺北京石墨烯论坛2018启动
2
1
浏览量:
产品描述
产品参数
主要特点
这款蒸镀仪是我公司研发的一款微型高真空蒸镀薄膜生长设备，利用高真空下材料分子束缚分离后的动力实现蒸发，可通过蒸发台和基体之间的距离调节实现对分子的筛选，从而制备出高质量的薄膜。广泛用于钙钛矿电池行业，OLED行业。设备最高真空可以到5X10-4Pa，最高温度800度，蒸发台和基体之间距离可调等功能。
技术参数
最高温度： 800度
控温精度： +— 1度
设备最高真空度： 5X10-4Pa(配分子泵)
设备外形尺寸
基体上下位置可调行程：0-50mm
基体台旋转：可选
设备进出气口：已预留
控温方式：30段模糊型PID
通讯接口方式：232
报警功能：超温、短偶
上一篇
蒸镀仪 VDS-600C-120
混料机 SFM-1
下一篇
购物车浮动框
购物车中还没有商品，赶紧选购吧！