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产品名称

连续回转PECVD系统 BTF-1200C-RP-PECVD

设备型号:BTF-1200C-RP-PECVD 设备简介:连续回转PECVD系统BTF-1200C-RP-PECVD是全自动Plasma增强CVD系统(PECVD),连续可控温度以及Plasma强度等,配备真空系统,可以低压条件下实现工艺,PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区,辉光相对均匀等效,很好的解决了传统等离子工作不稳定状态,该设备炉管可360°旋转,有助于粉料的烧结更均匀,可大角度倾斜,方便进出料,倾斜角度在0-35°之间,所有物料经过的管道都选用非金属材质,如:进出料腔体选用石英材质,推料杆选用石英及聚四氟材质。
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产品描述
产品参数

加热系统

功率

4KW

电压

AC 220V  50/60Hz

最高温度

1200℃

使用温度

1100℃

加热区长度

200+200mm

恒温区长度

250mm

控温精度

±1℃

控温方式

模糊PID控制和自整定调节

智能化30段可编程控制

超温和断偶报警功能

操作界面为10"液晶触屏控制

炉管尺寸

Φ60*420mm+Φ100*360mm+Φ60*420mm

炉管转速

3~60r/min

倾斜角度

0~35°

 

Plasma系统

本系统借助于辉光放电产生等离子体,辉光放电等离子体中,电子密度高,通过反应气态放电,有效利用了非平衡等离子体的反应特征,从根本上改变了反应体系的能量供给方式

进料系统

送料系统速度连续可调,停止送料且炉体倾斜最大时,物料不会从送料系统外漏,送料系统方便拆卸,拆卸后可手动加料,设备可正常运行

出料系统

出料系统在炉体倾斜出料时可自动出料

气体控制系统

该控气系统是可以控制两种气体按照不同流量进行混合配比的,也可以独立控制,质量流量计安装于密封的可移动的机柜内,由超洁双抛不锈钢管与精密双卡套接头连接组成

低真空系统

该系统配备真空机械泵,可以抽真空,可以让设备在真空环境下进行反应

气料分离系统

该系统可以让设备在充气体保护或者抽真空时,实现气体与物料的分离

过滤系统

该系统可防止物料进入真空泵,保证真空泵的正常运行

炉管转到系统

炉管转动系统可以让炉管360°匀速转动,转速在0-60r/min连续可调,且能在60r/min转速下长时间运行

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