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产品名称
回转PECVD BTF-1200C-R-PECVD
所属分类
非标定制
零售价
0.00
数量
-
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库存
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产品描述
产品参数
1、该设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀;
2、可左右大角度倾斜，方便出放料，倾斜角度在0~35°之间；
3、该款设备是全自动Plasma增强CVD系统(PECVD)，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以实现低压条件下的实验，针对低温石墨烯、碳纳米管生长等。PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆积现象。
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供电电源 |
220V 50Hz |
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加热功率 |
3KW |
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最高温度 |
1100℃ |
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升温速率 |
10℃/min |
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控温精度 |
±1℃ |
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加热元件 |
电阻丝 |
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热电偶 |
K型 |
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控温方式 |
7"液晶触屏与工控仪表双重控温，模糊PID控制和自整定调节，人工智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能 |
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炉管尺寸 |
异型管：两端Φ60*420mm，中间Φ100*360mm
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炉管转速 |
3~13r/min |
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倾斜角度 |
0~35° |
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射频功率输出范围 |
0~500W |
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供气系统 |
标配三路质量流量计（50/100/200sccm）（量程可选）
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通讯接口 |
USB |
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外形尺寸 |
1600*650*1400mm |
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设备净重 |
约220Kg |
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