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我与贝意克的故事---人物专访
文章链接https://www.webofscience.com/wos/alldb/fullrecord/WOS:000806627900002
本次发表的论文《Fungus-sourced filament-array anode facilitates Geobacter enrichment and promotes anodic bio-capacitance improvement for efficient power generation in microbial fuel cells》在《Science of the Total Environment》发表，该期刊分区为JCR一区，影响因子7.963。
在文章中也阐述了实验所用的设备，正是安徽贝意克设备技术有限公司提供的BTF-1200C型真空管式炉。我主要是使用该设备实现在严格无氧的条件下进行生物质的高度碳化，该过程对设备气密性要求高，对温度的要求达到700-1000℃，并需要保证精准的控温条件，贝意克设备BTF-1200C型真空管式炉完全能满足使用需求。该炉子占地面积小，价格实惠，该设备购置于2018年，目前已经使用了近5年，目前温控，真空度等性能参数仍旧稳定，为实验的顺利开展提供了保证。基于贝意克优秀的设备质量，深受组内同学的喜欢，目前本实验室已经又购置了一台贝意克管式炉，并同时推荐隔壁课题组也购买了一台相同型号的管式炉。硕士和博士期间的都在使用这台炉子，为我的科研带来了很大的帮助。有时候关于设备使用上的一些问题，贝意克的相关销售及技术人员也都会耐心地解答，非常感谢他们。
作为贝意克的老用户，非常感谢贝意克的设备能陪伴我那么长的时间。贝意克奖学金活动，我也觉得是一次非常好的尝试，毕竟我们科研工作者的基础工资不高哈哈，希望之后这种活动多多益善！
最后，希望贝意克越办越好，开发出更多实用高效的设备，为广大的科研工作者再添助力！
我与贝意克的故事---人物专访
我与贝意克的故事---人物专访
【第二期】优秀劳动楷模
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产品描述
产品参数
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Stock roll |
Annealing zone |
Growth zone |
主要特点
基于广大科研界对实现大面积单层石墨烯薄膜在工业铜箔基底上卷对卷宏量制备的需求,我公司开发出一种新的卷对卷连续快速生长石墨烯薄膜的方法，设计并研制了可达到中试水平的石墨烯卷对卷化学气相沉积系统，通过对石墨烯成核与生长的调控实现高品质石墨烯薄膜生长;此款设备是快速冷却卷对卷等离子体增强CVD连续生长炉，它由高温生长腔体，三路质量流量计气路系统，真空机组，RF射频电源模块，石英管，冷却装置，收放铜箔的密封装置，自动化控制系统组成，两端分别安装有进料进气真空腔室和出料排气真空腔室(即收放铜箔的密封装置)，收放铜箔的密封装置内分别对应安装有放卷滚轮和收卷滚轮，所输出料排气腔体与炉体之间安装有冷却装置。相对于现有技术具有快速冷却、连续生长的优点，可以进行大面积、高质量石墨烯的规模化生长。
技术参数
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额定功率
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KW
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3
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额定电压
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V
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AC 208-240V 50/60 Hz
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最高温度
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℃
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1200
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持续工作温度
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℃
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≤1100℃
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推荐升温速率
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℃/min
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≤30℃/min
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炉管尺寸
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mm
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高纯石英管Φ100×1400mm（可使用基底铜箔宽度≤80mm）（其他尺寸可定制）
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加热区长度
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mm
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400
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恒温区长度
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mm
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200
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控温方式
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人机界面加PLC控制，10寸液晶屏控制，数字工控仪表双控，采用工业智能控温仪表和软件实现双控，采用模糊型PID控制。
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无纸记录
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1、内置存储记录运行工艺数据，外接USB接口，可以电脑连接一键拷贝数据。
2、系统采用自动化工艺流程，设定好工艺一键操作。降低人为因素，工艺可靠性可以达到99.9%。
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控温精度
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℃
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±1
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加热元件
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进口电阻丝
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真空进料腔
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进料进气真空腔室与出料排气腔体外壳以亚克力为主要材料，电机带动铜箔在密闭生长条件下运动，并通过冷却装置后收紧成卷。
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气路系统配制
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内部装有高精度质量流量计可准确的控制气体流量；设有静态混气室，有助于气体充分混合，按要求配比。
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射频电源配制
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RF射频电源等离子辅助模块，大大降低了石墨烯的生长温度，是铜箔的机械强度适合连续收放
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真空系统配制
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真空机组内含真空泵，数字真空计以及相关的连接调节阀，可提供一个可控的低压环境。
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认证标准
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CE
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尺寸（长X宽X高）
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mm
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2280*600*1280
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净重
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Kg
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约450
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