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我与贝意克的故事---人物专访
2019年开始使用贝意克的设备，作为一名科研人员，真心感觉贝意克的设备很人性化真的做到为科研精益求精服务，操作简单又很高效。这次奖学金活动的开展在一定程度上极大鼓舞了研究者的热情，真心觉得很赞！
（在sciencedirect中发表的论文中提到的贝意克设备）
很高兴在这里分享我与贝意克之间的一点故事。研究的初期是想得到具有高导热率和完美形貌的氮化硼纳米管，实验的条件是在1300℃氨气氛围中反应一段时间后快速降低到室温，这就需要两路进气通道，一路用于反应气体氨气（氨气具有强腐蚀性且具有刺激性气味，需要一根专门的通路管道），令一路用于后期惰性气体降温过程。而实验室当时的设备，远不能满足实验条件的要求。
出于对贝意克设备的信任和出色的售后服务我们最终选购了贝意克BTF-1700C-CVD这套设备，它是由1700度管式炉、三路质量流量计系统和高真空系统三部分组成。此设备三路质量流量计系统可以在触摸屏幕上精准设定三路气体的流速，而真空系统的设计对我的实验可以说是如虎添翼，因为氨气和一定比例空气在1300℃高温条件下极具危险性，实验开始前的绝对真空环境是必不可少的。而且该设备用于我后期其他实验中材料的碳化处理（在惰性氛围中）也相当方便。
最后希望贝意克企业继续不忘初心，研制出更多更好的产品为我国的科研事业助力，同时期待贝意克企业牛气冲天，助力全球材料研发！
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产品描述
产品参数
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Stock roll |
Annealing zone |
Growth zone |
主要特点
基于广大科研界对实现大面积单层石墨烯薄膜在工业铜箔基底上卷对卷宏量制备的需求,我公司开发出一种新的卷对卷连续快速生长石墨烯薄膜的方法，设计并研制了可达到中试水平的石墨烯卷对卷化学气相沉积系统，通过对石墨烯成核与生长的调控实现高品质石墨烯薄膜生长;此款设备是快速冷却卷对卷等离子体增强CVD连续生长炉，它由高温生长腔体，三路质量流量计气路系统，真空机组，RF射频电源模块，石英管，冷却装置，收放铜箔的密封装置，自动化控制系统组成，两端分别安装有进料进气真空腔室和出料排气真空腔室(即收放铜箔的密封装置)，收放铜箔的密封装置内分别对应安装有放卷滚轮和收卷滚轮，所输出料排气腔体与炉体之间安装有冷却装置。相对于现有技术具有快速冷却、连续生长的优点，可以进行大面积、高质量石墨烯的规模化生长。
技术参数
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额定功率
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KW
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3
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额定电压
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V
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AC 208-240V 50/60 Hz
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最高温度
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℃
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1200
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持续工作温度
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℃
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≤1100℃
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推荐升温速率
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℃/min
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≤30℃/min
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炉管尺寸
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mm
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高纯石英管Φ100×1400mm（可使用基底铜箔宽度≤80mm）（其他尺寸可定制）
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加热区长度
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mm
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400
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恒温区长度
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mm
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200
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控温方式
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人机界面加PLC控制，10寸液晶屏控制，数字工控仪表双控，采用工业智能控温仪表和软件实现双控，采用模糊型PID控制。
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无纸记录
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1、内置存储记录运行工艺数据，外接USB接口，可以电脑连接一键拷贝数据。
2、系统采用自动化工艺流程，设定好工艺一键操作。降低人为因素，工艺可靠性可以达到99.9%。
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控温精度
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℃
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±1
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加热元件
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进口电阻丝
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真空进料腔
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进料进气真空腔室与出料排气腔体外壳以亚克力为主要材料，电机带动铜箔在密闭生长条件下运动，并通过冷却装置后收紧成卷。
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气路系统配制
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内部装有高精度质量流量计可准确的控制气体流量；设有静态混气室，有助于气体充分混合，按要求配比。
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射频电源配制
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RF射频电源等离子辅助模块，大大降低了石墨烯的生长温度，是铜箔的机械强度适合连续收放
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真空系统配制
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真空机组内含真空泵，数字真空计以及相关的连接调节阀，可提供一个可控的低压环境。
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认证标准
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CE
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尺寸（长X宽X高）
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mm
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2280*600*1280
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净重
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Kg
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约450
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