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产品名称

微型PECVD系统

设备简介:微型PECVD系统,它包括小型真空管式炉,石英真空室、真空抽气与真空测量系统、气路系统、射频电源系统、物料喷射系统。电源范围宽:0-150W可调; 温度范围宽:100-1200度可调;溅射区域宽:0-600mm可调;适用范围宽:金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜,连续生长各种薄膜等。增加功能容易,可扩展等离子清洗刻蚀等功能。
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产品描述
产品参数

1、 薄膜沉积速率高:采用了甚高频技术,大大的提高了薄膜的沉积速率,沉积速率可达10Å/S;
2、 大面积均匀性高:采用了先进的多点射频馈入技术,特殊气路分布和加热技术等,使得薄膜均匀性指标达到8%;
3、一致性高:用半导体行业的先进设计理念,使得一次沉积的各基片之间偏差低于2%;
4、工艺稳定性高:高度稳定的设备保证了工艺的连续和稳定;
5、选配物料喷射系统,可将原料直接喷射到反应区;
6、专利号:ZL201320052532.0 (专利产品,防伪必究)。

 

加热系统

最高温度

1200℃

使用温度

≤1100℃

炉膛有效尺寸

Φ80mm(适用于2-3英寸样品,炉管直径可根据实际需求定制)

炉膛材料

氧化铝、高温纤维制品

热电偶

K型热电偶

控温精度

±1℃

控温方式

30段可编程控温,PID参数自整定

加热区长度

230mm

加热元件

电阻丝

供电电源

单相,220V  50Hz

PE系统

功率输出范围

0W~150W

射频输出接口

50 Ω, N-type, female

功率稳定度

≤5W

谐波分量

≤-50dbc

供电电压

单相交流(187V-253V) 频率50/60HZ

整机效率

≥70%

功率因素

≥90%

冷却方式

强制风冷

三路质子流量控制系统

连接头类型

双卡套不锈钢接头

标准量程(N2)

200sccm,500sccm、1000sccm(可根据用户要求定制)

准确度

±1.5%F.S

线性

±1%F.S

重复精度

±0.2%F.S

响应时间

气特性:1~4 Sec,电特性:10 Sec

工作压差范围

0.1~0.5 MPa

最大压力

3MPa

接口

Φ6,1/4''

显示

4位数字显示

工作环境温度

5~45高纯气体

压力真空表

-0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格

截止阀

Φ6

内外双抛不锈钢管

Φ6

低真空机组

空气相对湿度

≤85%

工作环境

5℃~40℃

工作电压

220V±10%  50~60Hz

功率

1KW

抽气速率

10m³/h

极限真空

5X10-1Pa

工作压力范围

1.01325X105~1.33X10-2Pa

耐压值

0.03MPa

容油量

1.1L

进气口口径

KF25

排气口口径

KF25

噪音

50dB

连接方式

采用波纹管,手动挡板阀与波纹管相连

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