TEL:400-0033-603
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细节展示
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整机工作情况
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整个管子辉光情况
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高真空下辉光情况
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PECVD 系统
微型PECVD系统，它包括小型真空管式炉，石英真空室、真空抽气与真空测量系统、气路系统、射频电源系统、物料喷射系统。电源范围宽：0-150W可调; 温度范围宽：100-1200度可调;溅射区域宽：0-600mm可调;适用范围宽:金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，连续生长各种薄膜等。增加功能容易，可扩展等离子清洗刻蚀等功能。
主要特点
1. 薄膜沉积速率高：采用了甚高频技术，大大的提高了薄膜的沉积速率，沉积速率可达10Å/S;
2. 大面积均匀性高：采用了先进的多点射频馈入技术，特殊气路分布和加热技术等，使得薄膜均匀性指标达到8%;
3. 一致性高：用半导体行业的先进设计理念，使得一次沉积的各基片之间偏差低于2%;
4. 工艺稳定性高：高度稳定的设备保证了工艺的连续和稳定;
5. 选配物料喷射系统，可将原料直接喷射到反应区;
6.专利号：ZL201320052532.0 (专利产品，防伪必究)。
1.加热系统
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最高温度 |
1200℃ |
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使用温度 |
≤1100℃ |
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炉膛有效尺寸 |
Φ80mm（适用于2-3英寸样品，炉管直径可根据实际需要定制。） |
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炉膛材料 |
氧化铝、高温纤维制品 |
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热电偶类型 |
K型热电偶 |
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控温精度 |
±1℃ |
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控温方式 |
30段可编程控温，PID参数自整定 |
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加热长度 |
230mm |
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加热原件 |
电阻丝 |
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供电电源 |
单相，220V，50Hz |
2、PE系统
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功率输出范围 |
0W~150W |
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射频输出接口 |
50 Ω, N-type, female |
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功率稳定度 |
≤5W |
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谐波分量 |
≤-50dbc |
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供电电压 |
单相交流（187V-253V） 频率50/60HZ |
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整机效率 |
>=70% |
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功率因素 |
>=90% |
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冷却方式 |
强制风冷 |
3、三路质子流量控制系统
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连接头类型 |
双卡套不锈钢接头 |
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标准量程（N2) |
200sccm，500sccm、1000sccm （可根据用户要求定制） |
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准确度 |
±1.5%F.S |
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线性 |
±1%F.S |
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重复精度 |
±0.2%F.S |
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响应时间 |
气特性：1～4 Sec，电特性：10 Sec |
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工作压差范围 |
0.1～0.5 MPa |
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最大压力 |
3MPa |
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接口 |
Φ6,1/4'' |
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显示 |
4位数字显示 |
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工作环境温度 |
5~45高纯气体 |
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压力真空表 |
－0.1～0.15 MPa, 0.01 MPa/格 |
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截止阀 |
Φ6 |
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内外双抛不锈钢管 |
Φ6 |
4、低真空机组
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空气相对湿度 |
≤85% |
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工作环境 |
5℃～40℃ |
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工作电电压 |
220V±10% 50~60HZ |
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功率 |
1KW |
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抽气速率 |
10m³/h |
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极限真空 |
5X10-1Pa |
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工作压力范围 |
1.01325X105～1.33X10-2Pa |
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耐压值 |
0.03MPa |
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容油量 |
1.1L |
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进气口口径 |
KF25 |
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排气口口径 |
KF25 |
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噪音 |
50dB |
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连接方式 |
采用波纹管，手动挡板阀与波纹管相连 |
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