TEL:400-0033-603
细节展示
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整机工作情况
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整个管子辉光情况
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高真空下辉光情况
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PECVD 系统
微型PECVD系统,它包括小型真空管式炉,石英真空室、真空抽气与真空测量系统、气路系统、射频电源系统、物料喷射系统。电源范围宽:0-150W可调; 温度范围宽:100-1200度可调;溅射区域宽:0-600mm可调;适用范围宽:金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜,连续生长各种薄膜等。增加功能容易,可扩展等离子清洗刻蚀等功能。
主要特点
1. 薄膜沉积速率高:采用了甚高频技术,大大的提高了薄膜的沉积速率,沉积速率可达10Å/S;
2. 大面积均匀性高:采用了先进的多点射频馈入技术,特殊气路分布和加热技术等,使得薄膜均匀性指标达到8%;
3. 一致性高:用半导体行业的先进设计理念,使得一次沉积的各基片之间偏差低于2%;
4. 工艺稳定性高:高度稳定的设备保证了工艺的连续和稳定;
5. 选配物料喷射系统,可将原料直接喷射到反应区;
6.专利号:ZL201320052532.0 (专利产品,防伪必究)。
1.加热系统
最高温度 |
1200℃ |
使用温度 |
≤1100℃ |
炉膛有效尺寸 |
Φ80mm(适用于2-3英寸样品,炉管直径可根据实际需要定制。) |
炉膛材料 |
氧化铝、高温纤维制品 |
热电偶类型 |
K型热电偶 |
控温精度 |
±1℃ |
控温方式 |
30段可编程控温,PID参数自整定 |
加热长度 |
230mm |
加热原件 |
电阻丝 |
供电电源 |
单相,220V,50Hz |
2、PE系统
功率输出范围 |
0W~150W |
射频输出接口 |
50 Ω, N-type, female |
功率稳定度 |
≤5W |
谐波分量 |
≤-50dbc |
供电电压 |
单相交流(187V-253V) 频率50/60HZ |
整机效率 |
>=70% |
功率因素 |
>=90% |
冷却方式 |
强制风冷 |
3、三路质子流量控制系统
连接头类型 |
双卡套不锈钢接头 |
标准量程(N2) |
200sccm,500sccm、1000sccm (可根据用户要求定制) |
准确度 |
±1.5%F.S |
线性 |
±1%F.S |
重复精度 |
±0.2%F.S |
响应时间 |
气特性:1~4 Sec,电特性:10 Sec |
工作压差范围 |
0.1~0.5 MPa |
最大压力 |
3MPa |
接口 |
Φ6,1/4'' |
显示 |
4位数字显示 |
工作环境温度 |
5~45高纯气体 |
压力真空表 |
-0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格 |
截止阀 |
Φ6 |
内外双抛不锈钢管 |
Φ6 |
4、低真空机组
空气相对湿度 |
≤85% |
工作环境 |
5℃~40℃ |
工作电电压 |
220V±10% 50~60HZ |
功率 |
1KW |
抽气速率 |
10m³/h |
极限真空 |
5X10-1Pa |
工作压力范围 |
1.01325X105~1.33X10-2Pa |
耐压值 |
0.03MPa |
容油量 |
1.1L |
进气口口径 |
KF25 |
排气口口径 |
KF25 |
噪音 |
50dB |
连接方式 |
采用波纹管,手动挡板阀与波纹管相连 |
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