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我与贝意克的故事---人物专访
最初接触贝意克是在2018年，当时我们课题组在生长石墨烯时，样品上总会吸附大量的白色污染物，极大的耽误了实验进程。经过一段时间的调研和实验摸索，
最终发现污染物来自高温下的石英管，产生该现象与石英管的品质有很大关系。在其它课题组的推荐下，我们采购了贝意克的石英管、石英舟等耗材，顺利解决了该问题。
后来，我们实验室采购了贝意克的BTF-1200C-CVD设备，在我从事的化学气相沉积法生长石墨烯材料，及生长衬底的形貌调控等研究中起到了重要的作用。相比实验室之前的CVD设备，
贝意克的设备品控很好，工作性能稳定，使用至今还未出过任何故障，不需要为设备过多操心，这台设备很快成为了实验室材料生长的主力军。因此后续实验室采购石英管等耗材、设备配
件等也都是贝意克的了。近期，我们又采购了一台MF-1600C-I高温箱式炉，用于生长衬底表面形貌的调控，相信新设备能为我们解决更多的实验问题。
（在sciencedirect中发表的论文中提到的贝意克设备）
最后我祝愿贝意克能够越办越好，尤其是在设备研发方面。平时科研中有很多设备还是依赖进口，希望贝意克能够推出更多更好的设备，助力科研！
贝意克公司现场为李博士颁发了奖学金奖杯。
我与贝意克的故事---人物专访
第一次接触贝意克是2015年，那时候我还在南方科技大学读本科，我帮实验室采购的第一台设备，也正是贝意克的BTF-1200C-PECVD，算是一种独特的缘分吧。在接下来的几年里，南科大的实验室又购买了4台贝意克BTF-1200C系列管式炉以及立式炉，在我从事的化学气相沉积法制备二氧化钒以及二维材料的相关研究中起到了重要的作用。
值得一提的是，我还有一些用水热法来制备材料的课题也用到了贝意克的设备鼓风烘箱DGG-9076AD，烘箱的额定加热温度一般在300摄氏度，而我的实验则需要把反应温度加到260摄氏度，在这样的高温加热下，实验室之前购买其他品牌的烘箱加热部件很容易被烧断，在重新连接一定次数后就无法再进行维修了，设备也就报废了。相比之下，贝意克的设备加热管工作更为稳定，保温效果更好，设备的使用寿命更长，作为实验室业余维修工的我基本不需要操心太多，所以后续实验室采购的烘箱也都是贝意克的设备了。
作为贝意克的老用户，非常感谢贝意克的设备能陪伴我那么长的时间。贝意克奖学金活动，我也觉得是一次非常好的尝试，毕竟我们科研工作者的基础工资不高，哈哈。希望之后这种活动多多益善！另外，特别感谢下贝意克的销售经理董书君女士，在过去几年里对我的照顾和帮助，希望之后能够有更多的机会合作。
最后希望贝意克越办越好，开发出更多实用高效的设备，为广大的科研工作者再添助力！
贝意克公司现场为石博士颁发了奖学金奖杯。
热烈祝贺百思集团荣获“中国隐形独角兽”500强荣誉！
11月26日，第二届中国隐形独角兽500强大会在合肥市拉开帷幕，本届大会的主题是“如何成为独角兽企业”。独角兽企业是引领新技术、新产业、新业态、新模式发展的“代名词”，是区域创新能力、创新活力、创新生态的“风向标”。
会议期间，2021中国隐形独角兽500强榜单发布，合肥市有33家企业入围，位列全国第5。其中百思集团一举拿下合肥22强。
恭喜百思集团荣获此项荣誉！集团接连获得多项荣誉，获得每一项荣誉的背后都饱含着百思人默默的付出，也代表着行业对百思集团产品品质和服务高度认可。
特此喜报、望再创佳绩。百思人，加油！
2021中国国际石墨烯创新大会盛大召开！
安徽贝意克公司作为国内顶尖设备供应商，参加了此次石墨烯创新大会。石墨烯创新大会是石墨烯行业一年一度的盛典，大会聚焦产业链供应链、国际合作、产学研用融合,携手终端用户打造多场论坛；同时，为了深化国际合作，营造全球影响力，加速国际成果对接，促进国内外石墨烯产业交流，为各国石墨烯企业联手打造一个国际展示平台，助力企业走出国门，走向世界。
贝意克现场采访和实时直播
贝意克此次位于A07号展位，此次主要展示的是石墨烯连续化设备，多通道管式炉、箱式炉等。此次设备相对于现有技术具有快速冷却、连续生长等优点，同时具备占地少，可单独控制，节约时间，高效率完成实验目标。
众人纷纷前来咨询设备如何操作，贝意克工作人员现场演示，大家都表示新技术首屈一指，值得快速推广。
贝意克荣获优秀供应商奖项（左3）
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产品描述
产品参数
细节展示
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整机工作情况
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整个管子辉光情况
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高真空下辉光情况
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PECVD 系统
微型PECVD系统，它包括小型真空管式炉，石英真空室、真空抽气与真空测量系统、气路系统、射频电源系统、物料喷射系统。电源范围宽：0-150W可调; 温度范围宽：100-1200度可调;溅射区域宽：0-600mm可调;适用范围宽:金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，连续生长各种薄膜等。增加功能容易，可扩展等离子清洗刻蚀等功能。
主要特点
1. 薄膜沉积速率高：采用了甚高频技术，大大的提高了薄膜的沉积速率，沉积速率可达10Å/S;
2. 大面积均匀性高：采用了先进的多点射频馈入技术，特殊气路分布和加热技术等，使得薄膜均匀性指标达到8%;
3. 一致性高：用半导体行业的先进设计理念，使得一次沉积的各基片之间偏差低于2%;
4. 工艺稳定性高：高度稳定的设备保证了工艺的连续和稳定;
5. 选配物料喷射系统，可将原料直接喷射到反应区;
6.专利号：ZL201320052532.0 (专利产品，防伪必究)。
1.加热系统
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最高温度 |
1200℃ |
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使用温度 |
≤1100℃ |
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炉膛有效尺寸 |
Φ80mm（适用于2-3英寸样品，炉管直径可根据实际需要定制。） |
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炉膛材料 |
氧化铝、高温纤维制品 |
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热电偶类型 |
K型热电偶 |
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控温精度 |
±1℃ |
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控温方式 |
30段可编程控温，PID参数自整定 |
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加热长度 |
230mm |
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加热原件 |
电阻丝 |
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供电电源 |
单相，220V，50Hz |
2、PE系统
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功率输出范围 |
0W~150W |
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射频输出接口 |
50 Ω, N-type, female |
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功率稳定度 |
≤5W |
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谐波分量 |
≤-50dbc |
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供电电压 |
单相交流（187V-253V） 频率50/60HZ |
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整机效率 |
>=70% |
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功率因素 |
>=90% |
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冷却方式 |
强制风冷 |
3、三路质子流量控制系统
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连接头类型 |
双卡套不锈钢接头 |
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标准量程（N2) |
200sccm，500sccm、1000sccm （可根据用户要求定制） |
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准确度 |
±1.5%F.S |
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线性 |
±1%F.S |
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重复精度 |
±0.2%F.S |
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响应时间 |
气特性：1～4 Sec，电特性：10 Sec |
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工作压差范围 |
0.1～0.5 MPa |
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最大压力 |
3MPa |
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接口 |
Φ6,1/4'' |
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显示 |
4位数字显示 |
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工作环境温度 |
5~45高纯气体 |
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压力真空表 |
－0.1～0.15 MPa, 0.01 MPa/格 |
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截止阀 |
Φ6 |
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内外双抛不锈钢管 |
Φ6 |
4、低真空机组
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空气相对湿度 |
≤85% |
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工作环境 |
5℃～40℃ |
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工作电电压 |
220V±10% 50~60HZ |
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功率 |
1KW |
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抽气速率 |
10m³/h |
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极限真空 |
5X10-1Pa |
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工作压力范围 |
1.01325X105～1.33X10-2Pa |
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耐压值 |
0.03MPa |
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容油量 |
1.1L |
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进气口口径 |
KF25 |
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排气口口径 |
KF25 |
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噪音 |
50dB |
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连接方式 |
采用波纹管，手动挡板阀与波纹管相连 |
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小型滑轨式PECVD系统BTF-1200C-S-SL-PECVD
前端预热双温区滑轨PECVD/BTF-1200C-II-SL-400C-PECVD
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