我与贝意克的故事---人物专访

大家好！我叫潘朵，现在为郑州大学的一名博士研究生。研究方向为功能纳米复合复合材料的制备和应用，现在具体从事热管理复合材料导热通路的设计和研究。

2019年开始使用贝意克的设备，作为一名科研人员，真心感觉贝意克的设备很人性化真的做到为科研精益求精服务，操作简单又很高效。这次奖学金活动的开展在一定程度上极大鼓舞了研究者的热情，真心觉得很赞！

（在sciencedirect中发表的论文中提到的贝意克设备）

很高兴在这里分享我与贝意克之间的一点故事。研究的初期是想得到具有高导热率和完美形貌的氮化硼纳米管，实验的条件是在1300℃氨气氛围中反应一段时间后快速降低到室温，这就需要两路进气通道，一路用于反应气体氨气（氨气具有强腐蚀性且具有刺激性气味，需要一根专门的通路管道），令一路用于后期惰性气体降温过程。而实验室当时的设备，远不能满足实验条件的要求。

出于对贝意克设备的信任和出色的售后服务我们最终选购了贝意克BTF-1700C-CVD这套设备，它是由1700度管式炉、三路质量流量计系统和高真空系统三部分组成。此设备三路质量流量计系统可以在触摸屏幕上精准设定三路气体的流速，而真空系统的设计对我的实验可以说是如虎添翼，因为氨气和一定比例空气在1300℃高温条件下极具危险性，实验开始前的绝对真空环境是必不可少的。而且该设备用于我后期其他实验中材料的碳化处理（在惰性氛围中）也相当方便。

最后希望贝意克企业继续不忘初心，研制出更多更好的产品为我国的科研事业助力，同时期待贝意克企业牛气冲天，助力全球材料研发！

人民日报等20家媒体就“安巢经开区产城融合”实地采访百思新材料研究院！

2021年9月14日，人民日报、人民网、人民数字、新华社、新华网、央广网等20家媒体，就产城融合城乡融合区域融合--“安巢”多向融合展现发展活力这一主题，实地采访合肥百思新材料研究院有限公司，董事长孔令杰先生热情接待并全程陪同讲解。能源、信息和材料是社会发展的三大支柱，任一领域的突破，都会带来巨大的社会价值。作为信息和能源传递的载体，材料的制备离不开装备和工艺。如有机小分子发光材料、碳基复合材

2021厦门材料大会盛大召开！

万众期待的2021国际分析测试、实验室技术及设备展览会（Ciamite2021）已于2021年7月9日-11日于厦门国际会展中心隆重举办！本届展会展出规模15000平米，300余家国内外知名企业参展。已成为目前全国最大的材料科研领域专业展会，汇聚高专业度供采双方。展会现场人潮汹涌，来感受这如盛夏般的热情现场吧！

省经信厅厅长牛弩韬赴安巢经开区走访调研

6月25日上午，省经信厅厅长牛弩韬赴安巢经开区合肥百思新材料研究院有限公司走访调研，安巢经开区党工委书记、管委会主任黄卫东，合肥市经信局局长程振革，开发区党工委委员、管委会副主任戴文刚及省市经信厅（局）相关处室负责同志陪同调研。调研期间，牛弩韬一行深入合肥百思新材料研究院有限公司生产车间，认真听取企业在石墨烯及其制备设备领域产品研发、生产经营、市场前景等情况介绍，与企业负责人深入交流并进行相关政策解读。牛弩韬对百思新材料公司近年来取得的成绩表示充分认可，勉励企业继续增强原始创新能力，把握核心竞争力，加快解决国内OLED产业链关键技术“卡脖子”难题。同时，将政策机遇转化为发展动力，支持企业打造“专精特新冠军企业”，争取安徽省工业强基、首台套重大技术设备等政策支持。牛弩韬要求，省经信厅相关处室要主动做好对接服务，帮助企业围绕石墨烯领域加快创新步伐和产品应用，进一步提升产业基础能力，全方位推进产业基础再造，增强工业核心竞争力。黄卫东要求，管委会相关部门要按照牛弩韬厅长调研要求，积极主动做好企业服务，帮助企业做大做强，打造增长新空间。同时围绕公司上下游企业认真研究，开展产业链“双招双引”，厚植我区“新材料”产业基础。

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销售热线：18019970653

总经理投诉电话：18009693519

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安徽贝意克设备技术有限公司

合肥欧莱迪光电科技有限公司

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微型PECVD系统

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微型PECVD系统

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Plasma辅助法石墨烯制备设备

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整机工作情况	整个管子辉光情况	高真空下辉光情况

　　PECVD 系统

　　微型PECVD系统，它包括小型真空管式炉，石英真空室、真空抽气与真空测量系统、气路系统、射频电源系统、物料喷射系统。电源范围宽：0-150W可调; 温度范围宽：100-1200度可调;溅射区域宽：0-600mm可调;适用范围宽:金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，连续生长各种薄膜等。增加功能容易，可扩展等离子清洗刻蚀等功能。

　　主要特点

　　1. 薄膜沉积速率高：采用了甚高频技术，大大的提高了薄膜的沉积速率，沉积速率可达10Å/S;

　　2. 大面积均匀性高：采用了先进的多点射频馈入技术，特殊气路分布和加热技术等，使得薄膜均匀性指标达到8%;

　　3. 一致性高：用半导体行业的先进设计理念，使得一次沉积的各基片之间偏差低于2%;

　　4. 工艺稳定性高：高度稳定的设备保证了工艺的连续和稳定;

　　5. 选配物料喷射系统，可将原料直接喷射到反应区;

　　6.专利号：ZL201320052532.0 (专利产品，防伪必究)。

1.加热系统

最高温度	1200℃
使用温度	≤1100℃
炉膛有效尺寸	Φ80mm（适用于2-3英寸样品，炉管直径可根据实际需要定制。）
炉膛材料	氧化铝、高温纤维制品
热电偶类型	K型热电偶
控温精度	±1℃
控温方式	30段可编程控温，PID参数自整定
加热长度	230mm
加热原件	电阻丝
供电电源	单相，220V，50Hz

2、PE系统

功率输出范围	0W~150W
射频输出接口	50 Ω, N-type, female
功率稳定度	≤5W
谐波分量	≤-50dbc
供电电压	单相交流（187V-253V）频率50/60HZ
整机效率	>=70%
功率因素	>=90%
冷却方式	强制风冷

3、三路质子流量控制系统

连接头类型	双卡套不锈钢接头
标准量程（N₂)	200sccm，500sccm、1000sccm （可根据用户要求定制）
准确度	±1.5%F.S
线性	±1%F.S
重复精度	±0.2%F.S
响应时间	气特性：1～4 Sec，电特性：10 Sec
工作压差范围	0.1～0.5 MPa
最大压力	3MPa
接口	Φ6,1/4''
显示	4位数字显示
工作环境温度	5~45高纯气体
压力真空表	－0.1～0.15 MPa, 0.01 MPa/格
截止阀	Φ6
内外双抛不锈钢管	Φ6

4、低真空机组

空气相对湿度	≤85%
工作环境	5℃～40℃
工作电电压	220V±10% 50~60HZ
功率	1KW
抽气速率	10m³/h
极限真空	5X10-1Pa
工作压力范围	1.01325X105～1.33X10-2Pa
耐压值	0.03MPa
容油量	1.1L
进气口口径	KF25
排气口口径	KF25
噪音	50dB
连接方式	采用波纹管，手动挡板阀与波纹管相连

前端预热双温区滑轨PECVD/BTF-1200C-II-SL-400C-PECVD

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