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大口径动态plasma辅助法卷对卷式石墨烯制备设备 RTR-150
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产品名称

大口径动态plasma辅助法卷对卷式石墨烯制备设备 RTR-150

设备型号:RTR-150 设备简介: 该设备为我司研发用于材料连续生长的专用设备,此款设备是快速冷却卷对卷等离子体增强CVD连续生长炉,它由高温生长腔体,质量流量计气路系统,真空机组,RF射频电源模块,石英管,冷却装置,收放卷的密封装置,自动化控制系统组成,两端分别安装有进料进气真空腔室和出料排气真空腔室(即收放卷的密封装置),收放密封装置内分别对应安装有放卷滚轮和收卷滚轮,所输出料排气腔体与炉体之间安装有冷却装置。相对于现有技术具有快速冷却、连续生长的优点。
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产品描述
产品参数

加热系统

最高温度

1200℃

使用温度

≤1100℃

炉管尺寸

Φ150mm(炉管直径可根据实际需求定制)

炉膛材料

氧化铝、高温纤维制品

热电偶

K型热电偶

控温精度

±1℃

控温方式

30段可编程控温,PID参数自整定,操作界面为7”工控电脑,内置PLC控制程序

加热区长度

200+200+200mm

加热元件

电阻丝

供电电源

单相,220V  50Hz

PE系统

功率输出范围

0W~1000W

最大反射功率

200W

射频输出接口

50 Ω, N-type, female

功率稳定度

≤5W

谐波分量

≤-50dbc

供电电压

单相交流(187V-253V) 频率50/60HZ

整机效率

≥70%

功率因素

≥90%

冷却方式

强制风冷

三路质子流量控制系统

连接头类型

双卡套不锈钢接头

标准量程(N2)

200sccm,500sccm、1000sccm(可根据用户要求定制)

准确度

±1.5%F.S

线性

±1%F.S

重复精度

±0.2%F.S

响应时间

气特性:1~4 Sec,电特性:10 Sec

工作压差范围

0.1~0.5 MPa

最大压力

3MPa

接口

Φ6,1/4''

显示

4位数字显示

工作环境温度

5~45高纯气体

压力真空表

-0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格

截止阀

Φ6

内外双抛不锈钢管

Φ6

低真空机组

空气相对湿度

≤85%

工作环境

5℃~40℃

工作电压

380V

功率

1KW

抽气速率

32m³/h

极限真空

5X10-1Pa(空载冷态)

工作压力范围

1.01325X105~1.33X10-2Pa

耐压值

0.03MPa

进气口口径

KF40

排气口口径

KF40

连接方式

采用波纹管,手动挡板阀与波纹管相连

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