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省发改委总工程师笪艺武一行调研百思集团
每一个粽要时刻,都想与你分享
每一个粽要时刻,都想与你分享   每年五月五,满城粽飘香,为弘扬传统文化,体现百思集团对员工的温暖与关怀,端午节,百思集团准备了精美的端午礼盒,以表达对员工们辛勤工作的感谢和节日的美好祝愿。   一盒粽子一片情,点滴关怀暖人心。百思集团行政部,给每位员工派发端午粽子礼盒。礼物饱含了公司对员工满满的祝福与关怀。在礼品派发过程中,员工们的喜悦之情溢于言表,大家都深深体会到公司对员工生活的关爱,大家都觉
合肥市市委书记来百思集团调研
合肥投资促进局领导调研百思集团产品研发中心
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电子束、电阻蒸发系统

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产品描述
产品参数

一 设备技术要求:

可以用于蒸镀半导体、金属膜,纳米级单层及多层功能膜。

1、真空室:

1.1、真空室内腔尺寸:500×500×750mm

1.2、真空室材料:整个真空室采用 SUS304 不锈钢材料制造,内表面抛光,外表面喷丸处理;极限真空度高。

1.3、真空室结构:真空室四周配有不锈钢防污染屏蔽板(提供两套、一套备用);前开门后置抽气系统结构,四壁壳体外壳水冷,采用不锈钢水冷槽通水冷却。

1.4、观察窗:Φ100mm观察窗2个,观察窗内有遮挡活动板,配有两套防辐射射玻璃(一套备用)。

1.5、CF35陶瓷封接引线法兰:2个(照明及内烘烤引线1个、预留空置6芯电极法兰1个)

1.6、晶振膜厚仪接口1个

2、工件架旋转与烘烤:

2.1、采用调速电机调节转速、磁流体密封;3 到 60rpm 无级调速,

2.2、样品托盘尺寸分别为:采用悬挂式结构按放样品各一套,详细可参考加工图纸与贵方确认后再加工。

2套盘的开孔尺寸按买方需求由乙方设计并加工,双方协议。

2.3、样品台采用液氮冷却。

2.4、基片与蒸发源之间距离550~650mm可调,由腔外电动波纹管调节机构在线控制;

3、等离子体发生器

3.1、离子轰击:轰击电压3000V,电流160mA及以上。可清洗样品表面。

3.2、配轰击铝棒1根

3.3、配套质量流量计一套。

4、蒸发源:

电子束蒸发源:

4.1、用超高真空E型电子枪;

4.2、270°E型电子枪及高压电源,电子枪功率0--8KW可调;

4.3、电子枪阳极电压:8kv、10 kv;两挡

4.4、电子束可二维扫描调节,最大扫描正负15mm(X,Y);

4.5六工位水冷式电动坩埚;每穴容积11-22ml                           

4.6、可调角度气动控制蒸发挡板,采用磁流体密封;

4.7、电子枪配有触摸屏,可远控;

4.8、带有高压灭弧自动复位功能。

电阻蒸发源:

配备一套电阻蒸发源,含一套2KW数字式蒸发电源。

★5、真空抽气系统

5.1、复合分子泵与控制电源:可达6.0×10-5Pa,真空漏率≤10-7Pa.l/s,真空室从大气到抽到≤6.0×10-4Pa,小于40min。

5.2、分子泵与真空室连接采用DN250气动挡板阀门;

5.3、机械泵和分子泵连接采用不锈钢金属波纹管;

5.4系统漏率:系统停泵关机12小时后,真空室的真空度≤10Pa。

6、膜厚控制:

采用石英晶体振荡膜厚控制仪

◇用于监控镀膜蒸发速率及控制膜层物理厚度

◇配单个水冷探头

◇监测膜厚显示范围:0~99μ9999Å

◇厚度分辨率:0.1Å

◇速率显示分辨率:  0~9999.9 Å

◇控制精度:        0.1 Å

◇可与电子枪联动,自动镀膜。

 

7、真空测量系统:

复合数显真空计                               

热偶规: 1.0x103Pa ---1.0x10-1Pa                              

电离规:(CF35刀口法兰) 1.0x10-1Pa ---1.0x10-5Pa

8、水冷系统

配备水冷循环系统:满足设备需求(功率大于2kW)

9、其他:

9.1不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等              

9.2产品相关的金属密封铜圈及氟橡胶密封圈     1套

9.3电子枪灯丝                  5           

9.4坩埚                           10            

9.5 配一套质量流量计,用来控制工艺气体通断。

 

二 主要技术性能指标

2.1系统结构原理

该系统为单真空室配置,真空室尺寸500×500×750mm3(根据设计需要适当调整),腔体采用304不锈钢加工而成,内表面抛光,外表面喷丸处理。为便于实验操作采用侧开门形式,抽气口后置,门上配备玻璃观察窗(含防污染挡板),考虑到设备清理及维护的需要,真空室上盖可开启,镀膜过程在该真空室内完成。同时考虑到系统拓展需要,预留所需法兰接口。

电子枪及蒸发电极安装在真空底板上。电子枪选用功率为8KW、六工位水冷坩埚E型电子枪。

基片架采用焊接波纹管+磁流体结构,样品托采用拱形结构,最大直径为350mm,蒸距450-550 mm可调,利用焊接波纹管变形获得。基片转速度3-60转/分,可控可调(步进电机控制)。效果图如下所示:

此外样品台可旋转,可加液氮冷却。

2.2 真空获得原理

真空获得系统采用分子泵+机械泵机组来实现:利用涡轮分子泵作为主泵,机械旋片泵作为预抽+前级泵对真空室抽气

 

真空度控制通过和主泵相连的挡板阀来实现,各种阀门均采用超高真空阀门辅以金属密封;管道及接

口采用精密不锈钢管、压制波纹管制作而成。

三 沉积系统

3.1电子枪

如图3所示:

 

本设备配套电子枪的优点:

1、是仿日本焦耳电子枪可与焦耳电子枪性能相当。

2、能量分布均匀,束斑小,垂直入射,电子枪不挖坑,基本上平面整体蒸发,光斑直径¢5-¢25可调,扫描方式方形、圆环、圆面可设,并可记忆16位坩埚扫描频率、幅度大小、扫描方式及斑点位置。对操作者依耐性减少,使产品的重复性得到比较大的改善。

3、 X Y频率高,能高速扫描,10---250HZ。

4、各单元为分体式方便维修和检查。

扫描电源优点:

1采用国内先进技术智能手操器,通过串行总线I2C与扫描主机连接,运行安全可靠;能控制束斑 束流 坩埚 挡板等。

2能与计算机通讯,并有RS232(或RS485)通讯接口,对镀膜设备实现自动控制起到重要作用。

3束斑位置记忆,在人工模式下能对束斑位置及大小,频率 波形模式 16位坩埚记忆功能。

4环行面积密度可选择1---20条,X方向的上下电流可设置,从而保护光斑不打到坩埚上面。

5偏磁方式:改进型永久磁铁减少扎坑现象,可以使电子束以垂直角度入射蒸镀膜料,及增加蒸发膜料的使用面积,并使膜料更加均匀的蒸发。

高压优点:

1单独的高压柜,采用日本焦耳电源控制方式,保证安全可靠。

2电源仪器可用于50HZ 60HZ的电源;采用移相触发器控制方式,适用于阻性 感性负载,变压器一侧。

3控制装置有过流 过热 SCR保护功能,具有软启动 软关断功能,减少对电网的冲击干扰。

4 高压具有恒流恒压功能,在空载与加负载时功率不变,对镀膜起非常重要作用。

3.2 电阻蒸发系统

系统配备一套水冷蒸发电极,如下图所示,蒸发电源电压5、10V可选,电流250A,最大输出功率2Kw,配备数显电流表;

此外蒸发源配备自动控制挡板:1套;

 

3.3 膜厚控制

系统配备石英晶振膜厚控制仪一套,含水冷探头1只。用于在线监测制备膜层厚度以及膜层沉积速率等。

3.4 低温旋转样品台(选配。标配采用加热旋转样品台)

系统配备一套液氮冷却转台,转台示意图如下:

 

3.5 预留接口

为拓展真空室功能,可以按照使用方的要求预留各种接口法兰。

 

 

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