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我与贝意克的故事---人物专访
大家好!我叫潘朵,现在为郑州大学的一名博士研究生。研究方向为功能纳米复合复合材料的制备和应用,现在具体从事热管理复合材料导热通路的设计和研究。

2019年开始使用贝意克的设备,作为一名科研人员,真心感觉贝意克的设备很人性化真的做到为科研精益求精服务,操作简单又很高效。这次奖学金活动的开展在一定程度上极大鼓舞了研究者的热情,真心觉得很赞!



 

                                                                                                                                 (在sciencedirect中发表的论文中提到的贝意克设备)

很高兴在这里分享我与贝意克之间的一点故事。研究的初期是想得到具有高导热率和完美形貌的氮化硼纳米管,实验的条件是在1300℃氨气氛围中反应一段时间后快速降低到室温,这就需要两路进气通道,一路用于反应气体氨气(氨气具有强腐蚀性且具有刺激性气味,需要一根专门的通路管道),令一路用于后期惰性气体降温过程。而实验室当时的设备,远不能满足实验条件的要求。



出于对贝意克设备的信任和出色的售后服务我们最终选购了贝意克BTF-1700C-CVD这套设备,它是由1700度管式炉、三路质量流量计系统和高真空系统三部分组成。此设备三路质量流量计系统可以在触摸屏幕上精准设定三路气体的流速,而真空系统的设计对我的实验可以说是如虎添翼,因为氨气和一定比例空气在1300℃高温条件下极具危险性,实验开始前的绝对真空环境是必不可少的。而且该设备用于我后期其他实验中材料的碳化处理(在惰性氛围中)也相当方便。

        最后希望贝意克企业继续不忘初心,研制出更多更好的产品为我国的科研事业助力,同时期待贝意克企业牛气冲天,助力全球材料研发!      


人民日报等20家媒体就“安巢经开区产城融合”实地采访百思新材料研究院!
2021年9月14日,人民日报、人民网、人民数字、新华社、新华网、央广网等20家媒体,就产城融合 城乡融合 区域融合--“安巢”多向融合展现发展活力这一主题,实地采访合肥百思新材料研究院有限公司,董事长孔令杰先生热情接待并全程陪同讲解。能源、信息和材料是社会发展的三大支柱,任一领域的突破,都会带来巨大的社会价值。作为信息和能源传递的载体,材料的制备离不开装备和工艺。如有机小分子发光材料、碳基复合材
2021厦门材料大会盛大召开!
万众期待的2021国际分析测试、实验室技术及设备展览会(Ciamite2021)已于2021年7月9日-11日于厦门国际会展中心隆重举办!本届展会展出规模15000平米,300余家国内外知名企业参展。已成为目前全国最大的材料科研领域专业展会,汇聚高专业度供采双方。   展会现场人潮汹涌,来感受这如盛夏般的热情现场吧!
省经信厅厅长牛弩韬赴安巢经开区走访调研
6月25日上午,省经信厅厅长牛弩韬赴安巢经开区合肥百思新材料研究院有限公司走访调研,安巢经开区党工委书记、管委会主任黄卫东,合肥市经信局局长程振革,开发区党工委委员、管委会副主任戴文刚及省市经信厅(局)相关处室负责同志陪同调研。调研期间,牛弩韬一行深入合肥百思新材料研究院有限公司生产车间,认真听取企业在石墨烯及其制备设备领域产品研发、生产经营、市场前景等情况介绍,与企业负责人深入交流并进行相关政策解读。牛弩韬对百思新材料公司近年来取得的成绩表示充分认可,勉励企业继续增强原始创新能力,把握核心竞争力,加快解决国内OLED产业链关键技术“卡脖子”难题。同时,将政策机遇转化为发展动力,支持企业打造“专精特新冠军企业”,争取安徽省工业强基、首台套重大技术设备等政策支持。牛弩韬要求,省经信厅相关处室要主动做好对接服务,帮助企业围绕石墨烯领域加快创新步伐和产品应用,进一步提升产业基础能力,全方位推进产业基础再造,增强工业核心竞争力。黄卫东要求,管委会相关部门要按照牛弩韬厅长调研要求,积极主动做好企业服务,帮助企业做大做强,打造增长新空间。同时围绕公司上下游企业认真研究,开展产业链“双招双引”,厚植我区“新材料”产业基础。
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DM400-III方箱磁控溅射镀膜机
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DM400-III方箱磁控溅射镀膜机

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磁控溅射是利用磁场束缚电子的运动(即磁控管模式),其结果导至轰击基片的高能电子的减少和轰击靶材的高能离子的增多,使其具备了“低温”、“高速”两大特点。磁控溅射法制备的薄膜厚可控性和重复性好、薄膜与基片的附着能力强,膜层纯度高。

 

主要技术性能指标

 系统结构及功能概述

本镀膜系统为方形真空室结构,后部抽气,正面开门结构,采用优质奥氏体不锈钢制造。溅射沉积室底板上安装有三只共焦磁控溅射靶(溅射靶角度可调),出射束流方向朝向基片架并在基片上得到薄膜。该设备结构简单,可用于研究和开发纳米级单层及多层功能膜,如硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、复合膜、铁磁膜和磁性薄膜等新型薄膜材料。

工作原理

溅射沉积系统为一三靶溅射沉积系统,各靶可独立/顺次/共同工作,分布在一个圆周上。各靶固定在真空室底板上,靶基距可以通过基片架的升降来调节(靶基距60mm~90mm可调)。基片架可升降,采用磁流体密封装置+步进电机驱动,满足基片旋转要求。

 

A.基片架功能

系统设一个基片架,可旋转+升降,同时可通过卤素灯对基片在沉积涂层过程中进行加热;加热系统采用日本导电温控仪及电力组件,温度PID控制。基片旋转利用磁流体密封装置与步进电机配套实现。

B. 镀膜过程

单质薄膜的制备:在某只靶开启的情况下,可在基片上完成单质薄膜的制备。

多层膜的制备三只磁控溅射靶可根据需要,按照一定的启停顺序(辅以样品架的自转,均通过计算机控制),完成多层膜的镀制过程。

混合物薄膜的制备:三只靶中的两只/三只同时工作,可以完成具有两/三种成分组成的混合物薄膜制备。

化合物薄膜:本系统可以通过两种方式制备化合物薄膜。(1)采用射频电源,利用具有特定组成的靶材来得到化合物薄膜;(2)采用直流/射频溅射电源,利用单质靶材在通入反应气体的条件下制备化合物薄膜。

此外,磁控溅射系统充分考虑加热、低压溅射、偏压溅射等要求。可以在上述各种薄膜的制备过程中将偏压、加热等条件引入到镀膜过程中。与此同时,上述镀膜过程均可以在手动、自动两种方式下完成。

C. 真空获得及压力控制

 

真空获得系统利用涡轮分子泵作为主泵,机械旋片泵作为前级泵对真空系统抽气。真空度控制通过和主泵相连的插板阀来实现。

D.电源

二只500W直流电源、一只500W射频电源(含自动匹配器)

2KW加热温控电源一套。

 

 

系统主要参数

  1. 极限真空度:≤5×10-5Pa(清洁+烘烤去气条件下12小时内获得);
  2. 抽真空时间:40分钟内,≤5×10-4Pa;
  3. 基片加热温度:≤600℃(碘钨灯加热);
  4. 基片尺寸:≤Φ2inch的圆片;
  5. 基片架数量:1套;
  6. 靶材尺寸:直径60mm;
  7. 靶数量:3只;
  8. 真空室烘烤温度:≤150℃;
  9. 真空室尺寸:400×400×H450(根据实际情况可能会适当调整);
  10. 基片架移动距离:≤50mm(轴向方向);
  11. 靶轴线和基片旋转轴线夹角:共溅射;
  12. 气路系统:4路进气,其中1路为放气使用;
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