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我与贝意克的故事---人物专访
大家好!我叫潘朵,现在为郑州大学的一名博士研究生。研究方向为功能纳米复合复合材料的制备和应用,现在具体从事热管理复合材料导热通路的设计和研究。

2019年开始使用贝意克的设备,作为一名科研人员,真心感觉贝意克的设备很人性化真的做到为科研精益求精服务,操作简单又很高效。这次奖学金活动的开展在一定程度上极大鼓舞了研究者的热情,真心觉得很赞!



 

                                                                                                                                 (在sciencedirect中发表的论文中提到的贝意克设备)

很高兴在这里分享我与贝意克之间的一点故事。研究的初期是想得到具有高导热率和完美形貌的氮化硼纳米管,实验的条件是在1300℃氨气氛围中反应一段时间后快速降低到室温,这就需要两路进气通道,一路用于反应气体氨气(氨气具有强腐蚀性且具有刺激性气味,需要一根专门的通路管道),令一路用于后期惰性气体降温过程。而实验室当时的设备,远不能满足实验条件的要求。



出于对贝意克设备的信任和出色的售后服务我们最终选购了贝意克BTF-1700C-CVD这套设备,它是由1700度管式炉、三路质量流量计系统和高真空系统三部分组成。此设备三路质量流量计系统可以在触摸屏幕上精准设定三路气体的流速,而真空系统的设计对我的实验可以说是如虎添翼,因为氨气和一定比例空气在1300℃高温条件下极具危险性,实验开始前的绝对真空环境是必不可少的。而且该设备用于我后期其他实验中材料的碳化处理(在惰性氛围中)也相当方便。

        最后希望贝意克企业继续不忘初心,研制出更多更好的产品为我国的科研事业助力,同时期待贝意克企业牛气冲天,助力全球材料研发!      


人民日报等20家媒体就“安巢经开区产城融合”实地采访百思新材料研究院!
2021年9月14日,人民日报、人民网、人民数字、新华社、新华网、央广网等20家媒体,就产城融合 城乡融合 区域融合--“安巢”多向融合展现发展活力这一主题,实地采访合肥百思新材料研究院有限公司,董事长孔令杰先生热情接待并全程陪同讲解。能源、信息和材料是社会发展的三大支柱,任一领域的突破,都会带来巨大的社会价值。作为信息和能源传递的载体,材料的制备离不开装备和工艺。如有机小分子发光材料、碳基复合材
2021厦门材料大会盛大召开!
万众期待的2021国际分析测试、实验室技术及设备展览会(Ciamite2021)已于2021年7月9日-11日于厦门国际会展中心隆重举办!本届展会展出规模15000平米,300余家国内外知名企业参展。已成为目前全国最大的材料科研领域专业展会,汇聚高专业度供采双方。   展会现场人潮汹涌,来感受这如盛夏般的热情现场吧!
省经信厅厅长牛弩韬赴安巢经开区走访调研
6月25日上午,省经信厅厅长牛弩韬赴安巢经开区合肥百思新材料研究院有限公司走访调研,安巢经开区党工委书记、管委会主任黄卫东,合肥市经信局局长程振革,开发区党工委委员、管委会副主任戴文刚及省市经信厅(局)相关处室负责同志陪同调研。调研期间,牛弩韬一行深入合肥百思新材料研究院有限公司生产车间,认真听取企业在石墨烯及其制备设备领域产品研发、生产经营、市场前景等情况介绍,与企业负责人深入交流并进行相关政策解读。牛弩韬对百思新材料公司近年来取得的成绩表示充分认可,勉励企业继续增强原始创新能力,把握核心竞争力,加快解决国内OLED产业链关键技术“卡脖子”难题。同时,将政策机遇转化为发展动力,支持企业打造“专精特新冠军企业”,争取安徽省工业强基、首台套重大技术设备等政策支持。牛弩韬要求,省经信厅相关处室要主动做好对接服务,帮助企业围绕石墨烯领域加快创新步伐和产品应用,进一步提升产业基础能力,全方位推进产业基础再造,增强工业核心竞争力。黄卫东要求,管委会相关部门要按照牛弩韬厅长调研要求,积极主动做好企业服务,帮助企业做大做强,打造增长新空间。同时围绕公司上下游企业认真研究,开展产业链“双招双引”,厚植我区“新材料”产业基础。
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RIE280感应式反应刻蚀系统

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反应离子腐蚀技术是一种各向异性很强、选择性高的干法腐蚀技术。它是在真空系统中利用分子气体等离子来进行刻蚀的,利用了离子诱导化学反应来实现各向异性刻蚀,即是利用离子能量来使被刻蚀层的表面形成容易刻蚀的损伤层和促进化学反应,同时离子还可清除表面生成物以露出清洁的刻蚀表面的作用。

本设备适用于常规尺寸样片(不超过φ4英寸)的刻蚀,可刻蚀的材料主要有SiO2、Si2N4、多晶硅、硅、SiC、GaN、GaAs、ITO、AZO、光刻胶、半导体材料、部分金属等,设备具有选择比高、刻蚀速度快、重复性好等优点。装置带负偏压,可实现更多的各向异性蚀刻轮廓。装置示意及实物图如下:

 

装置参数介绍:

  • 腔体组件

    刻蚀真空腔体采用圆筒形结构,优质304不锈钢材质焊接而成,直径280mm,高度180mm,侧面开门,下方设有偏压样品台及多孔抽气口(抽气更均匀),样品台直径120mm,可最大放置直径100mm样品。主腔体上部设有带导流罩的ICP源及进气口。

  • 电源系统

一套射频电源连接缠绕在腔体外的螺旋线圈,使线圈产生感应耦合的电场,在电场作用下刻蚀气体辉光放电产生高密度等离子体,一套偏压电源连接在样品台上使得等离子体产生定向运动,获得最佳各向异性蚀刻轮廓。

  • 进气及真空抽气系统

   系统进气采用4路质量流量计控制进气,最大流量200SCCM。另外配备一路保护气体入口,用于吹扫腔体及腔体放气。真空抽气采用一台4L双级旋片式真空泵及阀门组成,真空测量采用一套数显热偶真空计。

  • 台架及控制系统

装置采用一体化设计,整机尺寸约600mm*600*700mm(高),底部设有脚轮,刻蚀腔体固定在台架上部,控制部分采用手动逻辑控制。

 

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