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我与贝意克的故事---人物专访
 大家好!我叫李越,现在为北京大学一名在读博士研究生,研究方向为离子注入技术在低维材料中的应用,主要从事石墨烯和碳纳米管的生长调控。

 最初接触贝意克是在2018年,当时我们课题组在生长石墨烯时,样品上总会吸附大量的白色污染物,极大的耽误了实验进程。经过一段时间的调研和实验摸索,

最终发现污染物来自高温下的石英管,产生该现象与石英管的品质有很大关系。在其它课题组的推荐下,我们采购了贝意克的石英管、石英舟等耗材,顺利解决了该问题。



 后来,我们实验室采购了贝意克的BTF-1200C-CVD设备,在我从事的化学气相沉积法生长石墨烯材料,及生长衬底的形貌调控等研究中起到了重要的作用。相比实验室之前的CVD设备,

贝意克的设备品控很好,工作性能稳定,使用至今还未出过任何故障,不需要为设备过多操心,这台设备很快成为了实验室材料生长的主力军。因此后续实验室采购石英管等耗材、设备配

件等也都是贝意克的了。近期,我们又采购了一台MF-1600C-I高温箱式炉,用于生长衬底表面形貌的调控,相信新设备能为我们解决更多的实验问题。



                                                                                               (在sciencedirect中发表的论文中提到的贝意克设备)

 最后我祝愿贝意克能够越办越好,尤其是在设备研发方面。平时科研中有很多设备还是依赖进口,希望贝意克能够推出更多更好的设备,助力科研!



                                                                                                                   贝意克公司现场为李博士颁发了奖学金奖杯。  
我与贝意克的故事---人物专访
我叫石润,博士就读于香港科技大学与南方科技大学。今年博士毕业后在清华大学从事博士后研究,研究方向为低维功能材料的可控制备、物性调制与应用研究

  第一次接触贝意克是2015年,那时候我还在南方科技大学读本科,我帮实验室采购的第一台设备,也正是贝意克的BTF-1200C-PECVD,算是一种独特的缘分吧。在接下来的几年里,南科大的实验室又购买了4台贝意克BTF-1200C系列管式炉以及立式炉,在我从事的化学气相沉积法制备二氧化钒以及二维材料的相关研究中起到了重要的作用。

 值得一提的是,我还有一些用水热法来制备材料的课题也用到了贝意克的设备鼓风烘箱DGG-9076AD,烘箱的额定加热温度一般在300摄氏度,而我的实验则需要把反应温度加到260摄氏度,在这样的高温加热下,实验室之前购买其他品牌的烘箱加热部件很容易被烧断,在重新连接一定次数后就无法再进行维修了,设备也就报废了。相比之下,贝意克的设备加热管工作更为稳定,保温效果更好,设备的使用寿命更长,作为实验室业余维修工的我基本不需要操心太多,所以后续实验室采购的烘箱也都是贝意克的设备了。



 作为贝意克的老用户,非常感谢贝意克的设备能陪伴我那么长的时间。贝意克奖学金活动,我也觉得是一次非常好的尝试,毕竟我们科研工作者的基础工资不高,哈哈。希望之后这种活动多多益善!另外,特别感谢下贝意克的销售经理董书君女士,在过去几年里对我的照顾和帮助,希望之后能够有更多的机会合作。

       最后希望贝意克越办越好,开发出更多实用高效的设备,为广大的科研工作者再添助力!



 贝意克公司现场为石博士颁发了奖学金奖杯。
热烈祝贺百思集团荣获“中国隐形独角兽”500强荣誉!

11月26日,第二届中国隐形独角兽500强大会在合肥市拉开帷幕,本届大会的主题是“如何成为独角兽企业”。独角兽企业是引领新技术、新产业、新业态、新模式发展的“代名词”,是区域创新能力、创新活力、创新生态的“风向标”。 
会议期间,2021中国隐形独角兽500强榜单发布,合肥市有33家企业入围,位列全国第5。其中百思集团一举拿下合肥22强。

恭喜百思集团荣获此项荣誉!集团接连获得多项荣誉,获得每一项荣誉的背后都饱含着百思人默默的付出,也代表着行业对百思集团产品品质和服务高度认可。

特此喜报、望再创佳绩。百思人,加油!

2021中国国际石墨烯创新大会盛大召开!
   11月12日,以“聚力双碳 烯创未来”为主题的2021(第八届)中国国际石墨烯创新大会在上海大学拉开序幕。

      安徽贝意克公司作为国内顶尖设备供应商,参加了此次石墨烯创新大会。石墨烯创新大会是石墨烯行业一年一度的盛典,大会聚焦产业链供应链、国际合作、产学研用融合,携手终端用户打造多场论坛;同时,为了深化国际合作,营造全球影响力,加速国际成果对接,促进国内外石墨烯产业交流,为各国石墨烯企业联手打造一个国际展示平台,助力企业走出国门,走向世界。 

                                                                                                                   贝意克现场采访和实时直播

贝意克此次位于A07号展位,此次主要展示的是石墨烯连续化设备,多通道管式炉、箱式炉等。此次设备相对于现有技术具有快速冷却、连续生长等优点,同时具备占地少,可单独控制,节约时间,高效率完成实验目标。

                                                                           众人纷纷前来咨询设备如何操作,贝意克工作人员现场演示,大家都表示新技术首屈一指,值得快速推广。

 

                                                                                                                                           贝意克荣获优秀供应商奖项(左3)

 

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DM250单、双靶磁控溅射仪

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  • 概述

磁控溅射是利用磁场束缚电子的运动(即磁控管模式),其结果导至轰击基片的高能电子的减少和轰击靶材的高能离子的增多,使其具备了“低温”、“高速”两大特点。磁控溅射法制备的薄膜厚可控性和重复性好、薄膜与基片的附着能力强,膜层纯度高。

  • 主要技术性能指标 
  • 系统结构及功能概述

本镀膜系统为圆形真空室结构,后部抽气,正面开门结构,采用优质奥氏体不锈钢制造。溅射沉积室顶板上安装有一只2inch(或3inch)磁控溅射靶,出射束流方向朝向基片架并在基片上得到薄膜。该设备结构简单,可用于研究和开发纳米级单层及多层功能膜,如硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、复合膜、铁磁膜和磁性薄膜等新型薄膜材料。

 

工作原理

溅射沉积系统为一单靶溅射沉积系统,靶固定在真空室顶板上,靶基距可以通过基片架的升降来调节(靶基距60mm~90mm可调)。基片架可升降,采用磁流体密封装置+步进电机驱动,满足基片旋转要求。

A. 真空获得及压力控制

真空获得系统利用涡轮分子泵作为主泵,机械旋片泵作为前级泵对真空系统抽气。真空度控制通过和主泵相连的节流阀来实现。

B.溅射电源

一只500W射频电源(带自动匹配网络),可选直流电源。

 

 

系统主要参数

  1. 极限真空度:≤6×10-5Pa(清洁+烘烤去气条件下12小时内获得);
  2. 抽真空时间:20分钟内,≤6×10-4Pa;
  3. 基片加热温度:≤600℃;
  4. 基片尺寸:≤Φ3inch的圆片;
  5. 基片架数量:1套;
  6. 靶材尺寸:直径50mm(可选3inch);
  7. 靶数量:1只或者2个;
  8. 真空室尺寸:DN220*340(根据实际情况可能会适当调整);
  9. 基片架移动距离:≤50mm(轴向方向);
  10. 靶轴线和基片旋转轴线夹角:共溅射;
  11. 气路系统:2路进气,其中1路为放气使用;

 

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