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连续炉之网带炉

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  • 网带炉用于:
    1)管壳封装、光电子封装元器件、压缩机端子、航空连接器、航空密封继电器、锂电池盖、压敏电阻铜浆料、片式元器件铜浆料在不同气氛环境下的高温氧化、烧结、封接、钎焊、退火等热处理工艺;
    2)功率半导体器件,如IGBT可控硅模块、GTR模块;功率控制线路与新式功率结构单元;固态继电器与高频开关模块电源;变频器交流无触电开关;汽车电子、航空航天军事技术等方面的结构单元的高温热处理;
    3)LTCC、片式器件、厚膜网络、柱形加热器、电感陶瓷体(0603、1005等)、染料敏化电池、玻璃排蜡玻化等行业的高温烧结与热处理;4)厚膜浆料、硅基板的太阳能电池片、光伏浆料(银浆、铝浆、铜浆)在空气或氮气气氛的快速干燥、烧结等热处理工艺。
     
    技术参数(可定制):
    类型
    网带宽度
    (mm)
    有效高度
    (mm)
    温区数
    (个)
    最高温度
    (℃)
    气氛
    备注
    厚膜烧结炉
    200~630
    50
    5、6、7
    1000
    空气
     
    钎焊炉
    150~200
    80
    6、8
    1100
    氮氢
    马夫
    气氛熔封炉
    150~350
    80、100
    6、7、8、9
    1100
    氮气+湿氧
    马夫
    铜浆料烧结炉
    150~400
    60
    9
    900
    氮气+氧气
    马夫
     
    干燥炉
    200~630
     
    50
    4
    400
     
    空气
    红外加热

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