1400℃高温管式炉 BTF-1400C-S

设备型号：BTF-1400C-S 设备简介：BTF-1400C-S是一款通过CE认证的高温管式炉，其最高工作温度为1400℃，额定功率为4KW。该设备技术成熟、质量可靠、温场均匀、结构合理，并可选用用液晶屏触摸界面，周到的界面操作提示，使得设备的操作异常简单、方便；设备的各项技术参数，温度曲线更是一目了然，使得整个实验的运行状态尽在您的掌控之中，法兰以卡箍密封，安装拆卸简便快捷，是各大材料实验室必备的理想设备之一。 设备用途：广泛用于真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。 

1400℃双温区管式炉 BTF-1400C-II

设备型号：BTF-1400C-II 设备简介：BTF-1400C-II是一款通过CE认证的高温管式炉，其最高工作温度为1400℃，额定功率为11KW。该设备技术成熟、质量可靠，温场均匀，结构合理。它不仅可以抽真空，也可以通气体保护。精确温控系统包含了30段升温和降温曲线设置，其控温精度达到±1℃，确保实验准确、方便。 应用领域：广泛用于CVD实验，荧光粉制备，真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。是各大材料实验室必备的理想设备之一。

1400°C三温区真空高温管式炉 BTF-1400C-III

设备型号：BTF-1400C-III 设备简介：BTF-1400C-III是一款通过CE认证的高温管式炉，其最高工作温度为1400℃，额定功率为13KW。该设备可三段独立控温，可根据实验需求得到三段不同的温场，或可得到超长恒温区，使用的不锈钢法兰，安装拆卸简便快捷，该设备技术成熟、质量可靠，温场均匀，结构合理。 应用领域：广泛用于CVD实验，荧光粉制备，真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。是各大材料实验室必备的理想设备之一。

1200℃大口径开启式五温区管式炉 BTF-1200C-V

设备型号：BTF-1200C-V 设备简介：大口径开启式五温区管式炉可通气氛抽真空，开启式结构使得拆装炉管方便，操作简捷；根据管径不同，法兰分为卡箍和折页两种密封方式，安装拆卸简便快捷；炉管工件横穿与多组进口电阻丝的炉膛，温场均匀，内外温差可控制在3℃左右。 工艺应用：广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。

1200℃多段精确控温管式炉 BTF-1200C-VI

设备型号：BTF-1200C-VI 设备简介：多段精确控温管式炉有六段加热区，各个加热区可独立控制，实现六段温场差异。可通气氛，抽真空，其开启式结构使得拆装炉管方便，操作便捷，使用者可直接将密封腔体移出炉体，加快降温过程;炉膛上下各多组电阻丝，温场均匀，恒温区更长。 工艺用途：多段精确控温管式炉广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。

1200℃小型双温区多工位开启式真空管式炉 BTF-1200C-II-S-H-60

设备型号：BTF-1200C-II-S-H-60 设备简介：小型双温区多工位开启式真空管式炉炉体可作0~180度旋转，(可立可卧式)多工位操作满足客户不同的实验需求。其采用电阻丝作为发热元件，额定温度1200℃，采用K型热电偶测温和双向可控硅智能化程序控温，具有较高的控温精度(±1℃)。此外该炉具有真空装置，可在不同工作角度和多种气氛下工作，大大提高了其使用范围。该炉具有使用温度高、高精度控温、操作简单、维修方便等优点。 设备用途：可广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门。

1200℃磁力拉杆管式炉 BTF-1200C-CL

设备型号：BTF-1200C-CL 设备简介：BTF-1200C-CL-是一款带磁力推拉功能的管式炉，可在实验过程中不破坏腔体气氛环境的基础下将样品移动到指定区域；其最高温度可到达1200 ℃，工作温度最高1100 ℃，额定功率为3 KW。炉管配置高纯石英炉管，炉管两端已安装一对不锈钢法兰（法兰上已安装机械压力表、不锈钢截止阀）。此款设备允许样品在真空和气体保护下进行烧结。精确温控系统包含了30段升温和降温曲线设置，其控温精度达到±1 ℃。

800℃三温区回转炉 BTF-800C-III-R

设备型号：BTF-800C-III-R 设备简介：BTF-800C-III-R是一款通过CE认证的三温区回转管式炉，其最高工作温度为800℃，额定功率为12KW。该设备炉管可360度旋转，310S耐高温不锈钢炉管放置于炉体中间，炉管一端采用磁流体密封，炉管另一端采用卡箍连接旋转密封组件，方便物料出入及管内气压监测。炉管旋转过程中粉料能均匀搅拌不堆积，出料的过程中也能一个方向完全自动出料，没有滞留。 工艺应用：该设备专业应用于电池正负极材料、无强酸碱性粉体材料、颗粒状物料的实验室煅烧及干燥，用户可根据所要烧制的材料选择在真空下或气氛保护下进行烧制。

900℃迷你管式炉 BTF-900C-SS

设备型号：BTF-900C-SS 设备简介：该设备是一款小型迷你管式炉，加热炉膛材料氧化铝纤维，加热区长度90mm，最高温度可达900℃。设备配有高纯石英管，可抽真空和通保护性气氛；另外该设备体积小巧，加热炉膛和电控箱采用分体设计，用快插航空接头连接，方便拆卸，非常适用于实验室等科研场所使用。

1700℃快速取样小型滑轨炉 BTF-1700C-SL

设备型号：BTF-1700C-SL 设备简介：BTF-1700C-S是一款通过CE认证的滑轨式高温管式炉，其最高工作温度为1700℃，额定功率为4KW。此款滑轨式高温管式炉广泛用于：真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。该设备技术成熟、质量可靠，温场均匀，结构合理，尺寸小巧，节能。周到的界面操作提示，使得设备的操作异常简单、方便;设备的各项技术参数，温度曲线更是一目了然，使得整个实验的运行状态尽在您的掌控之中，根据管径不同，法兰分为卡箍和折页两种密封方式，安装拆卸简便快捷。该设备的主要特点是样品可以通过滑轨自动划出，取放样品方便可靠，是各大材料实验室必备的理想设备之一。

气氛钎焊网带炉

可工艺定制

气源（天然气裂解）负极、渗碳包硅回转窑

设备简介：该系列设备炉管360°旋转，且有一定的角度，温度均匀，气氛均匀，适合粉体的干燥烧结，尤其适合密度较轻的硅碳负极的包碳渗硅。

石墨真空烧结炉

设备简介：此款设备采用石墨为加热体，可在真空或者惰性气氛下2000℃长期工作；可供功能陶瓷、光学材料、碳复合材料、硬质合金、粉末冶金等在高温条件下进行烧结处理，也可在充气保护情况下成型烧结。

1200℃真空密封坩埚移动管式炉

设备型号：BTF-1200C-III-D210 设备简介：该款设备是一款真空或气氛下坩埚可在炉管内移动小型开启式管式炉，最高温度1200℃，此设备可以进行材料退火处理、快速热处理，混合物理化学沉积，以及在各种气氛下进行的水平布里奇曼晶体生长等。

1200℃布里奇曼晶体生长炉（双炉移动）

设备型号：BTF-1200C-SVT-SL-II 设备简介：该设备是一款小型双炉布里奇曼单晶生长炉，配有石英管和精密炉体移动机构，此设备设计用于在气氛控制环境下生长小尺寸的单晶或材料定向凝固。

石墨热压炉

设备简介：此款设备采用石墨为加热体，可在真空或者惰性气氛下2000℃长期工作。该设备主要用于粉末冶金、陶瓷、无机化合物、纳米材料等在真空或保护气氛中加热压制成品。