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北京石墨烯论坛+武汉新材料大会盛大召开!
万众瞩目的北京石墨烯论坛和第三届中国新材料产业大会已于2021年10月22日-24日,分别在北京稻香湖酒店和武汉光谷科技会展中心隆重举办!



       北京石墨烯论坛在前三届论坛基础上,继续优化升级,特别增加标准与检测分论坛、青年科学家分论坛,旨在加快推动石墨烯领域标准建设,助力石墨烯产业健康可持续发展,同时为优秀青年科学家提供更多的交流展示机会,促进石墨烯领域人才培育。本届论坛启动全媒体传播矩阵,采用线上+线下同步论坛信息,资源共享,助力产业,打造最具行业影响的石墨烯国际会议品牌。



      第三届中国新材料产业大会---面向国家“十四五”新材料“自立自强”的新发展战略,紧紧围绕“前瞻布局”、“短板突破”和“自我保障”的国家重大需求,从基础研究、产业发展、技术应用三个维度探讨。

镜头转向展会会场,让我一起去看看两个大会的盛况吧。

第三届中国新材料产业大会-- 贝意克设备此次位于B216号展位,主要展示集成化管式炉箱式炉、连续卷对卷PECVD设备、分子提纯设备等。



贝意克展位现场人潮汹涌,分别对各式设备新材料设备进行咨询。有高校教授也有新材料企业的众多代表,对贝意克的新材料设备给予了肯定。

欢迎全球广大相关领域科技工作者、工程技术人员、企业代表及学生莅临安徽贝意克公司参观!

 
我与贝意克的故事---人物专访
大家好!我叫潘朵,现在为郑州大学的一名博士研究生。研究方向为功能纳米复合复合材料的制备和应用,现在具体从事热管理复合材料导热通路的设计和研究。

2019年开始使用贝意克的设备,作为一名科研人员,真心感觉贝意克的设备很人性化真的做到为科研精益求精服务,操作简单又很高效。这次奖学金活动的开展在一定程度上极大鼓舞了研究者的热情,真心觉得很赞!



 

                                                                                                                                 (在sciencedirect中发表的论文中提到的贝意克设备)

很高兴在这里分享我与贝意克之间的一点故事。研究的初期是想得到具有高导热率和完美形貌的氮化硼纳米管,实验的条件是在1300℃氨气氛围中反应一段时间后快速降低到室温,这就需要两路进气通道,一路用于反应气体氨气(氨气具有强腐蚀性且具有刺激性气味,需要一根专门的通路管道),令一路用于后期惰性气体降温过程。而实验室当时的设备,远不能满足实验条件的要求。



出于对贝意克设备的信任和出色的售后服务我们最终选购了贝意克BTF-1700C-CVD这套设备,它是由1700度管式炉、三路质量流量计系统和高真空系统三部分组成。此设备三路质量流量计系统可以在触摸屏幕上精准设定三路气体的流速,而真空系统的设计对我的实验可以说是如虎添翼,因为氨气和一定比例空气在1300℃高温条件下极具危险性,实验开始前的绝对真空环境是必不可少的。而且该设备用于我后期其他实验中材料的碳化处理(在惰性氛围中)也相当方便。

        最后希望贝意克企业继续不忘初心,研制出更多更好的产品为我国的科研事业助力,同时期待贝意克企业牛气冲天,助力全球材料研发!      


人民日报等20家媒体就“安巢经开区产城融合”实地采访百思新材料研究院!
2021年9月14日,人民日报、人民网、人民数字、新华社、新华网、央广网等20家媒体,就产城融合 城乡融合 区域融合--“安巢”多向融合展现发展活力这一主题,实地采访合肥百思新材料研究院有限公司,董事长孔令杰先生热情接待并全程陪同讲解。能源、信息和材料是社会发展的三大支柱,任一领域的突破,都会带来巨大的社会价值。作为信息和能源传递的载体,材料的制备离不开装备和工艺。如有机小分子发光材料、碳基复合材
2021厦门材料大会盛大召开!
万众期待的2021国际分析测试、实验室技术及设备展览会(Ciamite2021)已于2021年7月9日-11日于厦门国际会展中心隆重举办!本届展会展出规模15000平米,300余家国内外知名企业参展。已成为目前全国最大的材料科研领域专业展会,汇聚高专业度供采双方。   展会现场人潮汹涌,来感受这如盛夏般的热情现场吧!
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BZD-300 多源蒸发镀膜系统

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产品描述
产品参数

  一、系统功能及构成

  1. 该系统为多源蒸发镀膜系统, 系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜。系统主要由镀膜室、金属蒸发源(2套独立,配电源)、旋转样品台、分子泵组、真空测量系统、膜厚仪、气路系统、电控系统等组成。

  2. 镀膜极限真空度:≤10-5 Pa (经烘烤除气后);

  真空获得采用分子泵(1200L/S)和机械泵(8L/S)+CF200主阀组成,此配置具有抽速快,可获得高真空环境,提供薄膜的洁净度。

  真空泵组前配有冷凝过滤井,放置蒸发材料污染真空系统。

  系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S;

  系统从大气开始抽气:溅射室30分钟可达到5x10-4 Pa;

  系统停泵关机1小时后真空度:≤5Pa

  3. 镀膜室中配有2组热蒸发源,、分布在一个圆周上(下底盖位置均匀分布),各源可独立/顺次工作,配个圆形旋转挡板,挡板缺口移到哪个工位,哪个工位材料可以蒸发。

  4. 样品台布置在真空室上部,可放置最大6英寸样品1片,样品具有连续旋转功能,旋转0—30转/分连续可调。

  5. 真空测量采用进口INFICON 全量程规进行测量。

  6. 系统配有二路国产口MFC控制进气系统,流量分别为100SCCM、50SCCM。

  7. 系统配有1个INFICON膜厚仪。

 

  二、系统的主要组成及技术指标

  溅射室极限真空度:≤10-6Pa(经烘烤除气后);

  系统真空检漏漏率:≤5.0x10-8Pa.l/S;

  系统从大气开始抽气:溅射室35分钟可达到5x10-4 Pa;

  1、溅射真空室

  真空室为方形前开门结构,尺寸350mmx400mmx350mm(宽X高X深)全不锈钢结构。可内烘烤到100~150℃,选用不锈钢材料制造,氩弧焊接,表面进行电化学抛光国内首家钝化处理,接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封;手动前开门结构;蒸发源安装在下盖板,基片转台在顶部,左侧面设置有光纤旋转装置。

  2、镀膜源

  2套蒸发源;

  3、旋转转基片台

  3.1 基片尺寸和数量:6英寸样品一次放置1片。

  3.2、基片公转由调速电机驱动,0—30转/分连续可调,转动速度

  4、工作气路

  4.1、100SCCM、50SCCM质量流量控制器(国产)、DN6电动截止阀、管路、接头等:共2路

  5、抽气机组及阀门、管道

  5.1、分子泵;

  5.2、机械泵:;

  5.3、DN40电动截止阀:1台;

  5.4、机械泵与真空室之间的旁抽管路:1套;

  5.5、CC200气动闸板阀:1台;

  5.6、DN40旁抽角阀:1台

  5.7、配备一套低温冷阱及压缩机组件

  6、安装机台架组件

  优质方钢型材焊接成,快卸围板表面喷塑处理;机台表面用不锈钢蒙皮装饰;四只脚轮,可固定,可移动。

  7、真空测量

  溅射室采用进口INFICON 复合规进行测量。

  8、系统采用PLC+触摸屏半自动控制方式

 

BZD-300 多源蒸发镀膜系统

 

BZD-300 多源蒸发镀膜系统

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