系统功能及构成

· 该系统为多源蒸发镀膜系统， 系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜。系统主要由镀膜室、金属蒸发源（2套独立，配电源）、旋转样品台、分子泵组、真空测量系统、膜厚 仪、气路系统、电控系统等组成

· 镀膜极限真空度：≤10^-5 Pa （经烘烤除气后）

· 真空获得采用分子泵（1200L/S）和机械泵（8L/S）+CF200主阀组成，此配置具有抽速快，可获得高真空环境，提供薄膜的洁净度

· 真空泵组前配有冷凝过滤井，放置蒸发材料污染真空系统

· 系统真空检漏漏率：≤5.0x10^-7Pa.l/S

· 系统从大气开始抽气：溅射室30分钟可达到5x10^-4Pa

· 系统停泵关机1小时后真空度：≤5Pa

· 镀膜室中配有2组热蒸发源，分布在一个圆周上（下底盖位置均匀分布），各源可独立/顺次工作，配个圆形旋转挡板，挡板缺口移到哪个工位，哪个工位材料可以蒸发

· 样品台布置在真空室上部，可放置最大6英寸样品1片，样品具有连续旋转功能，旋转0-30转/分连续可调

· 真空测量采用进口INFICON全量程规进行测量

· 系统配有二路国产口MFC控制进气系统，流量分别为100sccm、50sccm

· 系统配有1个INFICON膜厚仪

溅射真空室

· 真空室为方形前开门结构，尺寸350mmx400mmx350mm(宽x高x深)全不锈钢结构

· 可内烘烤到100～150℃，选用不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行电化学抛光国内首家钝化处理

· 接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封

· 手动前开门结构

· 蒸发源安装在下盖板，基片转台在顶部，左侧面设置有光纤旋转装置

镀膜源

· 2套蒸发源

旋转转基片台

· 基片尺寸和数量：6英寸样品一次放置1片

· 基片公转由调速电机驱动，0-30转/分连续可调，转动速度

工作气路

· 100sccm、50sccm质量流量控制器（国产）

· DN6电动截止阀、管路、接头等：共2路

抽气机组及阀门、管道

· 分子泵

· 机械泵

· DN40电动截止阀：1台

· 机械泵与真空室之间的旁抽管路：1套

· CC200气动闸板阀：1台

· DN40旁抽角阀：1台

· 配备一套低温冷阱及压缩机组件

安装机台架组件

· 优质方钢型材焊接成，快卸围板表面喷塑处理

· 机台表面用不锈钢蒙皮装饰

· 四只脚轮，可固定，可移动

真空测量

· 溅射室采用进口INFICON复合规进行测量

控制方式

· 系统采用PLC+触摸屏半自动控制

质保期

· 一年质保，终身维护

· 耗材部分如密封圈等不包含在内