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产品名称
非气态源化学气相沉积系统 BTF-1200C-S-SL-CVD
所属分类
多源CVD设备
零售价
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数量
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产品描述
产品参数
此款设备由电动滑轨式管式炉、三路供气系统、真空及过滤系统、前驱体鼓泡装置，气体预热装置、软件控制等部分组成。适用于前驱体为非气态源，如固态或液态前驱体，前驱体灌温度可达400℃，且温度独立可调，固态或液态前驱体在一定温度下蒸发后通过惰性气体带入反应区域参与的一些CVD反应。
设备结构：
1、左右两端进气抽气可相互切换；提高基体上涂层的均匀性；
2、炉体底部在电机带动下可在导轨上水平移动，移动速度根据工艺需要可设置；
3、采用触摸屏和工控电脑自动控制，参数设置和操作直观方便，参数自动记录保持；
4、供气系统可以按照客户的实验需求配置几路质量流量计，流量计的量程可选，真空系统也可以根据客户的需求选择配置各种真空泵。
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加热系统 |
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供电电源 |
AC 220V，50Hz |
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额定功率 |
2KW |
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最高温度 |
1200℃（1hour） |
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使用温度 |
≤1100℃ |
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炉膛有效尺寸 |
Φ40*800mm（炉管直径可根据实际需要定制）
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炉膛材料 |
高纯氧化铝纤维 |
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热电偶类型 |
K型热电偶 |
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控温精度 |
±1℃ |
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温度控制器 |
30段可编程控温，PID参数自整定 |
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操作界面为10”工控电脑，内置PLC控制程序 |
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加热区长度 |
150mm |
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恒温区长度 |
70mm |
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加热元件 |
电阻丝 |
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三路质子流量控制系统
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连接头类型 |
Φ6mm双卡套不锈钢接头
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标准量程（N2) |
100sccm、200sccm（可根据客户要求定制） |
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准确度 |
±1.5% |
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线性 |
±0.5~1.5% |
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重复精度 |
±0.2% |
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响应时间 |
气特性 1~4Sec，电特性 10Sec |
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工作压差范围 |
0.1～0.5 MPa |
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最大压力 |
3MPa |
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接口 |
Φ6，1/4” |
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真空机组
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工作电压 |
220V±10% 50~60Hz |
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功率 |
1KW |
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抽气速率 |
10m³/h |
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极限真空 |
5x10-1Pa |
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耐压值 |
0.03MPa |
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容油量 |
1.1L |
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进排气口径 |
KF25 |
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噪音 |
50dB |
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连接方式 |
采用波纹管，手动挡板阀与波纹管相连
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无
复合氧化物氢分离膜制备用CVD设备
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