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产品名称
磁控溅射仪 BT250
所属分类
非标定制
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-
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产品描述
产品参数
系统结构及功能概述
本镀膜系统为圆形真空室结构，后部抽气，正面开门结构，采用优质奥氏体不锈钢制造。溅射沉积室顶板上安装有一只2inch磁控溅射靶，出射束流方向朝向基片架并在基片上得到薄膜。该设备结构简单，可用于研究和开发纳米级单层及多层功能膜，如硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、复合膜、铁磁膜和磁性薄膜等新型薄膜材料。
溅射沉积系统为一单靶溅射沉积系统，靶固定在真空室顶板上，靶基距可以通过基片架的升降来调节（靶基距60mm～90mm可调）。基片架可升降，采用磁流体密封装置+步进电机驱动，满足基片旋转要求。
A、真空获得及压力控制
真空获得系统利用涡轮分子泵作为主泵，机械旋片泵作为前级泵对真空系统抽气。真空度控制通过和主泵相连的节流阀来实现。
B、溅射电源
一只500W数字式直流溅射电源。
|
极限真空度 |
≤6×10-5Pa （清洁+烘烤去气条件下12小时内获得） |
|
抽真空时间 |
20分钟内，≤6×10-4Pa |
|
基片加热温度 |
≤600℃ |
|
基片尺寸 |
≤Φ2inch的圆片 |
|
基片架数量 |
1套 |
|
靶材尺寸 |
直径50mm |
|
靶数量 |
1只 |
|
真空室尺寸 |
DN220*340mm（根据实际情况可能会适当调整） |
|
基片架移动距离 |
≤50mm（轴向方向） |
|
气路系统 |
2路进气，其中1路为放气使用 |
|
项目 |
单位 |
数量 |
规格 |
备注 |
|
|
溅射真空室 |
只 |
1 |
DN220*320 |
尺寸根据设计要求适当调整上盖可开启 |
|
|
超高真空节流阀 |
只 |
1 |
DN100 |
电动控制 |
|
|
分子泵 |
台 |
1 |
110L/S |
沉积室主泵 |
|
|
机械泵 |
台 |
1 |
DVR10 |
兼起预抽泵和前级泵作用 |
|
|
挡板阀 |
只 |
1 |
DN25 |
预抽管道通断 |
|
|
截止阀 |
只 |
2 |
|
电动 |
|
|
超高真空截止阀 |
只 |
1 |
DN16 |
|
|
|
照明及烘烤装置 |
套 |
1 |
|
|
|
|
各型法兰及观察窗 |
批 |
|
DN16、35、63、100、150 |
|
|
|
不锈钢管路、管接头 |
批 |
1 |
|
各种规格精密不锈钢管、波纹管、管接头 |
|
|
其它阀门 |
批 |
1 |
|
|
|
|
真空测量 |
数显复合真空计 |
台 |
1 |
|
数字式 |
|
金属裸规 |
批 |
1 |
|
金属接口 |
|
|
质量流量控制器 |
套 |
1 |
|
100sccm |
|
|
管路及接头 |
批 |
1 |
|
|
|
|
截止阀 |
只 |
1 |
|
电动 |
|
|
进气等控制接口 |
套 |
1 |
|
|
|
|
转动样品架 |
转动基片架 |
套 |
1 |
|
基片旋转 |
|
升降装置 |
套 |
1 |
|
手动升降，磁流体密封 |
|
|
样品旋转 |
套 |
1 |
|
步进电机控制 |
|
|
磁控溅射系统 |
磁控溅射靶 |
套 |
1 |
50mm |
一体式溅射靶，带挡板 |
|
溅射电源 |
套 |
1 |
500W |
直流 |
|
|
溅射挡板系统 |
套 |
1 |
|
|
|
|
设备机架 |
套 |
1 |
|
含喷塑面板及不锈钢台面 |
|
|
标准件、配件、附件 |
套 |
1 |
|
|
|
|
水气路系统 |
套 |
1 |
|
含冷却水机 |
|
|
控制系统 |
套 |
1 |
|
|
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