TEL:400-0033-603

销售热线:

400-0033-603

 

总经理投诉电话:18009693519

碳纳米管在5G物联网时代的应用
奉献爱心赠帐篷,同心抗疫筑防线——百思集团捐赠爱心防疫帐篷,协力筑起疫情防控坚实防线
11月13日,百思集团通过安巢经开区向半汤街道捐赠100顶爱心帐篷,安巢经开区党工委副书记、纪检监察工委书记杜亚斌、安巢经开区机关党委、企业党委书记杨春、半汤街道党工委书记邹健康、半汤街道办事处主任张宪等领导参加了捐赠仪式。
我与贝意克的故事---人物专访
我叫谢永辉,是福州大学物理与信息工程学院2020级博士研究生,主要从事高能量密度锂硫电池电极材料的设计及性能调控。



文章链接:https://doi.org/10.1016/j.cej.2022.139017



    该论文《Multi-functional bilayer carbon structures with micrometer-level physical encapsulation as a flexible cathode host for high-performance lithium-sulfur batteries》发表于Chemical Engineering Journal,中科院分区为SCI一区top,影响因子为16.744。



    在文章中也阐述了实验所用的设备正是安徽贝意克设备技术有限公司提供的BTF-1200C-S-SL-PECVD。所发表工作中材料的合成主要是对金属有机框架(MOF)热解及气相沉积垂直石墨烯纳米花碳层,这需要良好的真空度、控温效果及精度,贝意克设备完全满足这些使用条件。此设备购置于2020年,目前已在实验室服役第3年,其控温效果、真空度等参数仍与刚购买时相差无几。此外,贝意克的市场销售以及技术人员在仪器使用中给予我们大量的技术支持,为科研的顺利进行提供了重要的帮助,在此表示感谢!



    作为贝意克的老用户,非常感谢贝意克设备的长久陪伴和支持,让我成功发表SCI一区top文章3篇。此外,贝意克奖学金活动也是对科研工作者一种特别实在的鼓励与支持!



    最后,希望贝意克公司越办越好,开发出更多更高效的设备,为广大科研人员再添助力!
我与贝意克的故事---人物专访
 我叫邓李朋,硕士就读于浙江理工大学,在校期间研究半导体薄膜的制备及其光电性能研究。

文章链接:https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2022.154459



      本次发表的论文《Surface plasma treatment reduces oxygen vacancies defects states to control photogenerated carriers transportation for enhanced self-powered deep UV photoelectric characteristics》在《Applied surface science》上发表,该期刊分区为一区,影响因子7.392(2022)。



      在文中所阐述的薄膜制备仪器是购自于安徽贝意克公司的BTF-1200C-PECVD-500A。主要是使用该设备在不同的温度下生长氧化镓薄膜,同时需要精准的控制气体的流量。值得一提的是在长时间的使用过程中400-1200℃的高温下该设备依旧可以正常工作且气密性极好。该设备购至于2019年2月,目前以在实验室服役3年半,其温控、压强、流量显示依旧准确。这是贝意克公司良好品控的体现。此外,贝意克的市场销售以及相关技术人员在仪器的使用过程中给予了我们大量的技术支持,为科研的顺利进行提供了重要的帮助,在此表示感谢。



      作为贝意克的用户,十分感谢贝意克的设备在科研工作期间的陪伴。贝意克奖学金是回馈用户的一个很Nice的方案,同时也是对我们工作的肯定。



      最后,祝愿贝意克公司蒸蒸日上,为一线的科研人员提供更好更精密的产品。

微信公众号

 ------- 实验室预约 -------- 

安徽贝意克设备技术有限公司

合肥百思新材料研究院

合肥欧莱迪光电科技有限公司

-------    产业设备    -------

我要留言

欢迎点击留下您宝贵的意见

我们会在第一时间给您回复

--------- 实验设备     -------

Copyright 2017  安徽贝意克设备技术有限公司   皖ICP备12002778号-1   技术支持:中企动力  合肥

>
>
磁控溅射仪
浏览量:
产品名称

磁控溅射仪

磁控溅射是利用磁场束缚电子的运动(即磁控管模式),其结果导至轰击基片的高能电子的减少和轰击靶材的高能离子的增多,使其具备了“低温”、“高速”两大特点。磁控溅射法制备的薄膜厚可控性和重复性好、薄膜与基片的附着能力强,膜层纯度高。
所属分类
零售价
0.00
数量
-
+
库存
0
没有此类产品
联系我们
在线咨询
产品描述
产品参数

一、主要技术性能指标

      系统结构及功能概述

本镀膜系统为圆形真空室结构,后部抽气,正面开门结构,采用优质奥氏体不锈钢制造。溅射沉积室顶板上安装有一只2inch磁控溅射靶,出射束流方向朝向基片架并在基片上得到薄膜。该设备结构简单,可用于研究和开发纳米级单层及多层功能膜,如硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、复合膜、铁磁膜和磁性薄膜等新型薄膜材料。

 

二、工作原理

溅射沉积系统为一单靶溅射沉积系统,靶固定在真空室顶板上,靶基距可以通过基片架的升降来调节(靶基距60mm~90mm可调)。基片架可升降,采用磁流体密封装置+步进电机驱动,满足基片旋转要求。

  A、真空获得及压力控制

真空获得系统利用涡轮分子泵作为主泵,机械旋片泵作为前级泵对真空系统抽气。真空度控制通过和主泵相连的节流阀来实现。

  B溅射电源

一只500W数字式直流溅射电源。

 

三、系统主要参数

  • 极限真空度:≤6×10-5Pa(清洁+烘烤去气条件下12小时内获得);
  • 抽真空时间:20分钟内,≤6×10-4Pa;
  • 基片加热温度:≤600℃;
  • 基片尺寸:≤Φ2inch的圆片;
  • 基片架数量:1套;
  • 靶材尺寸:直径50mm;
  • 靶数量:1只;
  • 真空室尺寸:DN220*340(根据实际情况可能会适当调整);
  • 基片架移动距离:≤50mm(轴向方向);
  • 气路系统:2路进气,其中1路为放气使用;

 

四、系统主要配置清单:

 

项目

单位

数量

规格

备注

溅射真空室

溅射真空室

1

DN220*320

尺寸根据设计要求适当调整上盖可开启

超高真空节流阀

1

DN100

电动控制

分子泵

1

110L/S

沉积室主泵

机械泵

1

DVR10

兼起预抽泵和前级泵作用

挡板阀

1

DN25

预抽管道通断

截止阀

2

 

电动

超高真空截止阀

1

DN16

 

照明及烘烤装置

1

 

 

各型法兰及观察窗

 

DN16、35、63、100、150

 

不锈钢管路、管接头

1

 

各种规格精密不锈钢管、波纹管、管接头

其它阀门

1

 

 

真空测量

数显复合真空计

1

 

数字式

金属裸规

1

 

金属接口

质量流量控制器

1

 

100sccm

管路及接头

1

 

 

截止阀

1

 

电动

进气等控制接口

1

 

 

转动样品架

转动基片架

1

 

基片旋转

升降装置

1

 

手动升降,磁流体密封

样品旋转

1

 

步进电机控制

磁控溅射系统

磁控溅射靶

1

50mm

一体式溅射靶,带挡板

溅射电源

1

500W

直流

溅射挡板系统

1

 

 

设备机架

1

 

含喷塑面板及不锈钢台面

标准件、配件、附件

1

 

 

水气路系统

1

 

含冷却水机

控制系统

1

 

 

未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加
暂未实现,敬请期待
暂未实现,敬请期待
上一篇
下一篇