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系统结构及功能概述本镀膜系统为圆形真空室结构,后部抽气,正面开门结构,采用优质奥氏体不锈钢制造。溅射沉积室顶板上安装有一只2inch磁控溅射靶,出射束流方向朝向基片架并在基片上得到薄膜。该设备结构简单,可用于研究和开发纳米级单层及多层功能膜,如硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、复合膜、铁磁膜和磁性薄膜等新型薄膜材料。
溅射沉积系统为一单靶溅射沉积系统,靶固定在真空室顶板上,靶基距可以通过基片架的升降来调节(靶基距60mm~90mm可调)。基片架可升降,采用磁流体密封装置+步进电机驱动,满足基片旋转要求。A、真空获得及压力控制真空获得系统利用涡轮分子泵作为主泵,机械旋片泵作为前级泵对真空系统抽气。真空度控制通过和主泵相连的节流阀来实现。B、溅射电源一只500W数字式直流溅射电源。
极限真空度
≤6×10-5Pa
(清洁+烘烤去气条件下12小时内获得)
抽真空时间
20分钟内,≤6×10-4Pa
基片加热温度
≤600℃
基片尺寸
≤Φ2inch的圆片
基片架数量
1套
靶材尺寸
直径50mm
靶数量
1只
真空室尺寸
DN220*340mm(根据实际情况可能会适当调整)
基片架移动距离
≤50mm(轴向方向)
气路系统
2路进气,其中1路为放气使用

项目
单位
数量
规格
备注
溅射真空室
只
1
DN220*320
尺寸根据设计要求适当调整上盖可开启
超高真空节流阀
只
1
DN100
电动控制
分子泵
台
1
110L/S
沉积室主泵
机械泵
台
1
DVR10
兼起预抽泵和前级泵作用
挡板阀
只
1
DN25
预抽管道通断
截止阀
只
2
电动
超高真空截止阀
只
1
DN16
照明及烘烤装置
套
1
各型法兰及观察窗
批
DN16、35、63、100、150
不锈钢管路、管接头
批
1
各种规格精密不锈钢管、波纹管、管接头
其它阀门
批
1
真空测量
数显复合真空计
台
1
数字式
金属裸规
批
1
金属接口
质量流量控制器
套
1
100sccm
管路及接头
批
1
截止阀
只
1
电动
进气等控制接口
套
1
转动样品架
转动基片架
套
1
基片旋转
升降装置
套
1
手动升降,磁流体密封
样品旋转
套
1
步进电机控制
磁控溅射系统
磁控溅射靶
套
1
50mm
一体式溅射靶,带挡板
溅射电源
套
1
500W
直流
溅射挡板系统
套
1
设备机架
套
1
含喷塑面板及不锈钢台面
标准件、配件、附件
套
1
水气路系统
套
1
含冷却水机
控制系统
套
1
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