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最新:ESI大学及材料学科排行榜发布!
近日,科睿唯安公布了ESI最新统计数据。ESI收录了12000多种学术期刊上发表的SCIE和SSCI近十年发表的论文和被引数据,具有广泛的代表性,已经被全球普遍认可。
中国大陆一共418所高校有学科进入全球前1%,其中新增9所,无退出。新增高校为:西南民族大学、上海纽约大学、江苏海洋大学、宁波工程学院、天津大学-新加坡国立大学福州联合学院、陕西中医药大学、湖南工程学院、湖北经济学院、山东工商学院。
展会邀约 | 贝意克与您相约2023中国国际先进陶瓷展览会
2023中国国际粉末冶金、硬质合金与先进陶瓷展览会将于2023年5月31日至6月2日在上海世博展览馆H1&H2举行。作为我国材料装备行业标杆企业的贝意克设备也将携旗下产品参加此次展会,展位号E662,欢迎各界朋友莅临展位参观洽谈。
印度将成为培育钻石的最大市场
培育钻石主要采用两种方法生产——CVD(化学气相沉积)和 HPHT(高压高温)。有趣的是,印度是通过CVD技术生产培育钻石的最大生产国,占全球培育钻石产量的近25%。该技术为消费者提供了所有领先的钻石认证机构认证的最纯净的IIA型钻石。即使在开采的钻石中也很难找到IIA级质量的钻石,因为只有2%的开采钻石是最纯净的钻石类型。通过HPHT方法生产的低密度钻石在中国通过不同的技术生长,其硬度与开采钻石或CVD生长钻石不同,并且还含有金属杂质。
布朗大学研究人员通过观察石墨烯中的自旋结构,找到了解决二维电子领域障碍的方法
二十年来,物理学家一直在努力直接操纵石墨烯等二维材料中的电子自旋,这可能会开启二维电子学的进步。电子自旋的标准测量技术通常在二维材料中失败,阻碍了技术进步。然而,由布朗大学的研究人员领导的一个团队已经找到了解决方案,并发表在《Nature Physics》上。该研究首次证明了二维材料中自旋电子与微波辐射光子之间的直接相互作用,为研究二维量子材料中电子自旋特性建立了一种新的实验技术。这项技术可以为基于二维材料的计算和通信技术铺平道路。

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双管式高真空管式设备
设备型号:BSL-1ZH-D80-2D 设备简介:双管式高真空管式设备BSL-1ZH-D80-2D,配备真空系统、手摇升降机构、触摸屏控制系统、气路组件、真空系统、防护组件等;设备平台可0-20度手动升降,双管高真空实验;设备左端法兰上每管配有压力表和2个截止阀控制的进气口,其中一个为备用扣;右端法兰上端配有压力保护装置,出气口对接点火装置,方便处理尾气;后部通过手动插板阀对接冷井至真空泵组合:分子泵+干泵。
摇摆管式炉(Swing tube furnace)
型号:BTF-1200C-SK 关键词:摇摆管式炉BTF-1200C-SK是一款管式摇摆炉,最高温度可达1200℃,30段可编程精密温度控制器,可根据不同的客户需求来设定升降温程序,设备可设定取放料工位(如垂直取放料),并设定摇摆起始工位(如垂直作为起始工位),可实现液晶屏一键归位,速度范围为0-30次/min,倾斜角度可达±30度。内置310不锈钢防护管,可很好的在石英样管出现特殊情况爆管的时候起到保护作用。 产品用途:可通过摇摆提高熔体均匀性、细化晶粒,广泛应用于热电材料制备工艺中。
双独立温场高温滑轨炉(High temperature slide furnace with double independent temperature field)
型号:BTF-1400C-II-SSL 关键词:BTF-1400C-II-SSL是一款两个完全独立温场的高温滑轨炉,采为卡箍快捷密封法兰,安装拆卸取放样品简便快捷,两个数字温度控制器可独立控制温度,并可设置30段升降温程序,加热区均采用硅碳棒进行加热,连续使用温度可达1300度;两个独立的炉体可靠近亦可分离,可以灵巧的控制整个温度分布。 适用范围:广泛用于CVD实验、荧光粉制备、真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境中。
智能型PECVD系统(含压力控制系统)/Intelligent PECVD system with pressure control system
型号: PECVD-500A-D 关键词:智能PECVD-500A-D是将所有的控制部分集为一体且目前最新型的一款设备;配备PE射频电源,当参与反应的气氛进入炉管在射频电源的作用下产生离子体,可使反应更加充分;同时等离子体起增强的作用,从而很大程度上优化实验的工艺条件。
定制小型立式滑轨炉BTF-700C-III-SVT
型号:BTF-700C-III-SVT
中试流化床-粉体碳纳米管生长设备
型号:BTF-1200C-5VT-D200
磁控溅射仪
磁控溅射是利用磁场束缚电子的运动(即磁控管模式),其结果导至轰击基片的高能电子的减少和轰击靶材的高能离子的增多,使其具备了“低温”、“高速”两大特点。磁控溅射法制备的薄膜厚可控性和重复性好、薄膜与基片的附着能力强,膜层纯度高。
1200℃真空气氛箱式炉
设备型号:ZMF-1200C-M
自动进料回转CVD系统
型号:BTF-1200C-R-CVD
前端预热PECVD(Front preheating PECVD)
关键词:我公司研制的滑轨式PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区,辉光均匀等效,这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态,这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍,并解决了物料不均匀堆积现象。该款设备是全自动Plasma增强CVD系统(PECVD),系统可以实现连续滑动温区,连续可控制温度及Plasma强度。PECVD是借助于辉光放电等方法产生等离子体,辉光放电等离子体中。
真空中频感应熔炼纺丝设备
设备型号:BMF-1800C-D 设备简介:真空中频感应熔炼炉为立式炉壳型的真空感应电炉。专供特殊钢、高温合金、精密合金等在真空或保护气氛下进行熔炼和铸锭之用,亦可供小型零件的真空精密铸造使用。
智能型双温区等离子化学气相沉积系统
型号:BTF-1200C-II-AS-500A
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