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卷对卷连续化走丝BN沉积系统  RTR-1400C-III-60
设备型号:RTR-1400C-III-60 设备简介:该设备为我司研发用于材料连续生长的专用设备,此款设备是快速冷却卷对卷CVD连续生长炉,它由高温生长加热系统,真空密封腔室,刚玉管,SiC纤维卷绕部件,自动化控制系统组成,两端分别安装有进料进气真空腔室和出料排气真空腔室(即收放卷的密封装置),收放密封装置内分别对应安装有放卷滚轮和收卷滚轮,所输出料排气腔体与炉体之间安装有冷却装置。相对于现有技术具有快速冷却、连续生长的优点。
卷对卷连续生长PECVD设备 RTR-III-80-PE
设备型号:RTR-III-80-PE 设备简介:该设备为我司研发用于石墨烯薄膜连续生长或者线性材料的连续的专用设备,此款设备是快速冷却卷对卷CVD连续生长炉,它由高温生长腔体,三路质量流量计气路系统,真空机组,石英管,冷却装置,收放卷的密封装置,自动化控制系统组成,两端分别安装有进料进气真空腔室和出料排气真空腔室(即收放铜箔或纤维丝的密封装置),收放密封装置内分别对应安装有放卷滚轮和收卷滚轮,所输出料排气腔体与炉体之间安装有冷却装置。相对于现有技术具有快速冷却、连续生长的优点,可以进行大面积、高质量石墨烯的规模化生长或者线性材料的连续生长。(纤维生长工艺,配有纤维张力计,可以通过调节电机转速,以便达到纤维连续进出且受力均匀。)
卷对卷连续化生长CVD设备 RTR-III-80
设备型号:RTR-III-80 设备简介:该设备为我司研发用于石墨烯薄膜连续生长或者线性材料的连续的专用设备,此款设备是快速冷却卷对卷CVD连续生长炉,它由高温生长腔体,三路质量流量计气路系统,真空机组,石英管,冷却装置,收放卷的密封装置,自动化控制系统组成,两端分别安装有进料进气真空腔室和出料排气真空腔室(即收放铜箔或纤维丝的密封装置),收放密封装置内分别对应安装有放卷滚轮和收卷滚轮,所输出料排气腔体与炉体之间安装有冷却装置。相对于现有技术具有快速冷却、连续生长的优点,可以进行大面积、高质量石墨烯的规模化生长或者线性材料的连续生长。(纤维生长工艺,配有纤维张力计,可以通过调节电机转速,以便达到纤维连续进出且受力均匀)
大口径动态plasma辅助法卷对卷式石墨烯制备设备 RTR-150
设备型号:RTR-150 设备简介: 该设备为我司研发用于材料连续生长的专用设备,此款设备是快速冷却卷对卷等离子体增强CVD连续生长炉,它由高温生长腔体,质量流量计气路系统,真空机组,RF射频电源模块,石英管,冷却装置,收放卷的密封装置,自动化控制系统组成,两端分别安装有进料进气真空腔室和出料排气真空腔室(即收放卷的密封装置),收放密封装置内分别对应安装有放卷滚轮和收卷滚轮,所输出料排气腔体与炉体之间安装有冷却装置。相对于现有技术具有快速冷却、连续生长的优点。
卷对卷薄膜石墨烯生长设备 ROLL-TO-ROLL
设备简介:基于广大科研界对实现大面积单层石墨烯薄膜在工业铜箔基底上卷对卷宏量制备的需求,我公司利用一种新型等离子增强卷对卷连续快速生长石墨烯薄膜的方法,设计并研制了可达到中试水平的石墨烯卷对卷化学气相沉积系统,通过对石墨烯成核与生长的调控实现高品质石墨烯薄膜生长;卷对卷热压印-电化学快速鼓泡转移方法转移,避免了铜箔刻蚀的常规转移工艺,实现了石墨烯从铜箔生长基底直接向工业用 PET 柔性透明塑料基底的连续化无损转移。 该设备在真空条件下,通过射频电源作用于真空腔室内的稀薄气体,形成等离子体等效辉光作用(本公司PECVD专利),利用等离子体的场能部分代替了热能,从而降低石墨烯生长温度,改善工艺条件。通过对石墨烯成核与生长的调控实现高品质石墨烯薄膜生长。该方法使用铜箔作为基底,电机带动铜箔在密闭生长条件下运动,经过第一温区(退火区)处理后的铜箔;在第二、第三温区(生长区)石墨烯将沉积在铜箔上,并通过冷却装置后收紧成卷。相对于现有技术具有快速冷却、连续生长的优点,可以进行大面积、高质量石墨烯的规模化生长。
大型卷对卷连续石墨烯膜生长设备
设备简介:基于广大科研界对实现大面积单层石墨烯薄膜在工业铜箔基底上卷对卷宏量制备的需求,我公司开发出一种新的卷对卷连续快速生长石墨烯薄膜的方法,设计并研制了可达到中试水平的石墨烯卷对卷化学气相沉积系统,通过对石墨烯成核与生长的调控实现高品质石墨烯薄膜生长;此款设备是快速冷却卷对卷等离子体增强CVD连续生长炉,它由高温生长腔体,三路质量流量计气路系统,真空机组,RF射频电源模块,石英管,冷却装置,收放铜箔的密封装置,自动化控制系统组成,两端分别安装有进料进气真空腔室和出料排气真空腔室(即收放铜箔的密封装置),收放铜箔的密封装置内分别对应安装有放卷滚轮和收卷滚轮,所输出料排气腔体与炉体之间安装有冷却装置。相对于现有技术具有快速冷却、连续生长的优点,可以进行大面积、高质量石墨烯的规模化生长。
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