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半导体专用设备

名称

红外快速退火炉系统 BTF-1200C-RTP-CVD

设备型号：BTF-1200C-RTP-CVD 设备简介：该款设备是由单端封口红外滑轨炉、高真空机组、供气系统及操作控制界面组成，内控热电偶用于控制RTP炉内的温度，出气口通过连接手动挡板阀、波纹管用于对石英舱体内的真空获取，进气口除用于通入保护气体或反应气体外，还可以用于移出炉膛后通入气体带走热量的快速降温，以此获得较高的降温速率。

名称

原子层沉积设备 BTF-ALD-100

设备型号：BTF-ALD-100

名称

高精度真空烘箱 BTF-300C-50

设备型号：BTF-300C-50

名称

红外快速退火炉系统 BTF-1200C-RTP-CVD

原子层沉积设备 BTF-ALD-100

高精度真空烘箱 BTF-300C-50

钎焊炉 BTF-1100C-45