石墨烯生长设备系列_产品中心_安徽贝意克设备技术有限公司

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设备型号：BTF-1200C-RP-PECVD 设备简介：该款设备是全自动Plasma增强CVD系统(PECVD)，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以低压条件下实现工艺，PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-35°之间，所有物料经过的管道都选用非金属材质，如：进出料腔体选用石英材质，推料杆选用石英及聚四氟材质。

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卷对卷（RTR）连续生长石墨烯PECVD设备

设备简介：该系列设备为我司用于材料连续生长的专用设备，此款设备是快速冷却卷对卷CVD连续生长炉，它由高温生长腔体，质量流量计气路系统，真空机组，压力控制系统，石英管，冷却装置，射频装置，收放卷的密封装置，自动化控制系统组成，两端分别安装有进料进气真空腔室和出料排气真空腔室（即收放卷的密封装置），收放密封装置分别对应安装有放卷滚轮和收卷滚轮，相对于现有技术具有连续生长的优点。

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回转CVD连续生产设备

设备型号：BTF-1200C-III-R-CVD-150

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回转CVD设备

设备型号：BTF-700C-III-R

宽幅卷对卷连续生长石墨烯CVD设备

石墨烯薄膜生长设备

粉状基底石墨烯生长设备

卷对卷（RTR）连续生长石墨烯PECVD设备

回转CVD连续生产设备

回转CVD设备