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我与贝意克的故事---人物专访
大家好!我叫潘朵,现在为郑州大学的一名博士研究生。研究方向为功能纳米复合复合材料的制备和应用,现在具体从事热管理复合材料导热通路的设计和研究。

2019年开始使用贝意克的设备,作为一名科研人员,真心感觉贝意克的设备很人性化真的做到为科研精益求精服务,操作简单又很高效。这次奖学金活动的开展在一定程度上极大鼓舞了研究者的热情,真心觉得很赞!



 

                                                                                                                                 (在sciencedirect中发表的论文中提到的贝意克设备)

很高兴在这里分享我与贝意克之间的一点故事。研究的初期是想得到具有高导热率和完美形貌的氮化硼纳米管,实验的条件是在1300℃氨气氛围中反应一段时间后快速降低到室温,这就需要两路进气通道,一路用于反应气体氨气(氨气具有强腐蚀性且具有刺激性气味,需要一根专门的通路管道),令一路用于后期惰性气体降温过程。而实验室当时的设备,远不能满足实验条件的要求。



出于对贝意克设备的信任和出色的售后服务我们最终选购了贝意克BTF-1700C-CVD这套设备,它是由1700度管式炉、三路质量流量计系统和高真空系统三部分组成。此设备三路质量流量计系统可以在触摸屏幕上精准设定三路气体的流速,而真空系统的设计对我的实验可以说是如虎添翼,因为氨气和一定比例空气在1300℃高温条件下极具危险性,实验开始前的绝对真空环境是必不可少的。而且该设备用于我后期其他实验中材料的碳化处理(在惰性氛围中)也相当方便。

        最后希望贝意克企业继续不忘初心,研制出更多更好的产品为我国的科研事业助力,同时期待贝意克企业牛气冲天,助力全球材料研发!      


人民日报等20家媒体就“安巢经开区产城融合”实地采访百思新材料研究院!
2021年9月14日,人民日报、人民网、人民数字、新华社、新华网、央广网等20家媒体,就产城融合 城乡融合 区域融合--“安巢”多向融合展现发展活力这一主题,实地采访合肥百思新材料研究院有限公司,董事长孔令杰先生热情接待并全程陪同讲解。能源、信息和材料是社会发展的三大支柱,任一领域的突破,都会带来巨大的社会价值。作为信息和能源传递的载体,材料的制备离不开装备和工艺。如有机小分子发光材料、碳基复合材
2021厦门材料大会盛大召开!
万众期待的2021国际分析测试、实验室技术及设备展览会(Ciamite2021)已于2021年7月9日-11日于厦门国际会展中心隆重举办!本届展会展出规模15000平米,300余家国内外知名企业参展。已成为目前全国最大的材料科研领域专业展会,汇聚高专业度供采双方。   展会现场人潮汹涌,来感受这如盛夏般的热情现场吧!
省经信厅厅长牛弩韬赴安巢经开区走访调研
6月25日上午,省经信厅厅长牛弩韬赴安巢经开区合肥百思新材料研究院有限公司走访调研,安巢经开区党工委书记、管委会主任黄卫东,合肥市经信局局长程振革,开发区党工委委员、管委会副主任戴文刚及省市经信厅(局)相关处室负责同志陪同调研。调研期间,牛弩韬一行深入合肥百思新材料研究院有限公司生产车间,认真听取企业在石墨烯及其制备设备领域产品研发、生产经营、市场前景等情况介绍,与企业负责人深入交流并进行相关政策解读。牛弩韬对百思新材料公司近年来取得的成绩表示充分认可,勉励企业继续增强原始创新能力,把握核心竞争力,加快解决国内OLED产业链关键技术“卡脖子”难题。同时,将政策机遇转化为发展动力,支持企业打造“专精特新冠军企业”,争取安徽省工业强基、首台套重大技术设备等政策支持。牛弩韬要求,省经信厅相关处室要主动做好对接服务,帮助企业围绕石墨烯领域加快创新步伐和产品应用,进一步提升产业基础能力,全方位推进产业基础再造,增强工业核心竞争力。黄卫东要求,管委会相关部门要按照牛弩韬厅长调研要求,积极主动做好企业服务,帮助企业做大做强,打造增长新空间。同时围绕公司上下游企业认真研究,开展产业链“双招双引”,厚植我区“新材料”产业基础。
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电子束、电阻蒸发系统

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产品描述
产品参数

设备技术要求:

可以用于蒸镀半导体、金属膜,纳米级单层及多层功能膜。

1、真空室:

1.1、真空室内腔尺寸:500×500×750mm

1.2、真空室材料:整个真空室采用 SUS304 不锈钢材料制造,内表面抛光,外表面喷丸处理;极限真空度高。

1.3、真空室结构:真空室四周配有不锈钢防污染屏蔽板(提供两套、一套备用);前开门后置抽气系统结构,四壁壳体外壳水冷,采用不锈钢水冷槽通水冷却。

1.4、观察窗:Φ100mm观察窗2个,观察窗内有遮挡活动板,配有两套防辐射射玻璃(一套备用)。

1.5、CF35陶瓷封接引线法兰:2个(照明及内烘烤引线1个、预留空置6芯电极法兰1个)

1.6、晶振膜厚仪接口1个

2、工件架旋转与烘烤:

2.1、采用调速电机调节转速、磁流体密封;3 到 60rpm 无级调速,

2.2、样品托盘尺寸分别为:采用悬挂式结构按放样品各一套,详细可参考加工图纸与贵方确认后再加工。

2套盘的开孔尺寸按买方需求由乙方设计并加工,双方协议。

2.3、样品台采用液氮冷却。

2.4、基片与蒸发源之间距离550~650mm可调,由腔外电动波纹管调节机构在线控制;

3、等离子体发生器

3.1、离子轰击:轰击电压3000V,电流160mA及以上。可清洗样品表面。

3.2、配轰击铝棒1根

3.3、配套质量流量计一套。

4、蒸发源:

电子束蒸发源:

4.1、用超高真空E型电子枪;

4.2、270°E型电子枪及高压电源,电子枪功率0--8KW可调;

4.3、电子枪阳极电压:8kv、10 kv;两挡

4.4、电子束可二维扫描调节,最大扫描正负15mm(X,Y);

4.5六工位水冷式电动坩埚;每穴容积11-22ml                           

4.6、可调角度气动控制蒸发挡板,采用磁流体密封;

4.7、电子枪配有触摸屏,可远控;

4.8、带有高压灭弧自动复位功能。

电阻蒸发源:

配备一套电阻蒸发源,含一套2KW数字式蒸发电源。

★5、真空抽气系统

5.1、复合分子泵与控制电源:可达6.0×10-5Pa,真空漏率≤10-7Pa.l/s,真空室从大气到抽到≤6.0×10-4Pa,小于40min。

5.2、分子泵与真空室连接采用DN250气动挡板阀门;

5.3、机械泵和分子泵连接采用不锈钢金属波纹管;

5.4系统漏率:系统停泵关机12小时后,真空室的真空度≤10Pa。

6、膜厚控制:

采用石英晶体振荡膜厚控制仪

◇用于监控镀膜蒸发速率及控制膜层物理厚度

◇配单个水冷探头

◇监测膜厚显示范围:0~99μ9999Å

◇厚度分辨率:0.1Å

◇速率显示分辨率:  0~9999.9 Å

◇控制精度:        0.1 Å

◇可与电子枪联动,自动镀膜。

 

7、真空测量系统:

复合数显真空计                               

热偶规: 1.0x103Pa ---1.0x10-1Pa                              

电离规:(CF35刀口法兰) 1.0x10-1Pa ---1.0x10-5Pa

8、水冷系统

配备水冷循环系统:满足设备需求(功率大于2kW)

9、其他:

9.1不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等              

9.2产品相关的金属密封铜圈及氟橡胶密封圈     1套

9.3电子枪灯丝                  5           

9.4坩埚                           10            

9.5 配一套质量流量计,用来控制工艺气体通断。

 

主要技术性能指标

2.1系统结构原理

该系统为单真空室配置,真空室尺寸500×500×750mm3(根据设计需要适当调整),腔体采用304不锈钢加工而成,内表面抛光,外表面喷丸处理。为便于实验操作采用侧开门形式,抽气口后置,门上配备玻璃观察窗(含防污染挡板),考虑到设备清理及维护的需要,真空室上盖可开启,镀膜过程在该真空室内完成。同时考虑到系统拓展需要,预留所需法兰接口。

电子枪及蒸发电极安装在真空底板上。电子枪选用功率为8KW、六工位水冷坩埚E型电子枪。

基片架采用焊接波纹管+磁流体结构,样品托采用拱形结构,最大直径为350mm,蒸距450-550 mm可调,利用焊接波纹管变形获得。基片转速度3-60转/分,可控可调(步进电机控制)。效果图如下所示:

此外样品台可旋转,可加液氮冷却。

2.2 真空获得原理

真空获得系统采用分子泵+机械泵机组来实现:利用涡轮分子泵作为主泵,机械旋片泵作为预抽+前级泵对真空室抽气

 

真空度控制通过和主泵相连的挡板阀来实现,各种阀门均采用超高真空阀门辅以金属密封;管道及接

口采用精密不锈钢管、压制波纹管制作而成。

沉积系统

3.1电子枪

如图3所示:

 

本设备配套电子枪的优点:

1、是仿日本焦耳电子枪可与焦耳电子枪性能相当。

2、能量分布均匀,束斑小,垂直入射,电子枪不挖坑,基本上平面整体蒸发,光斑直径¢5-¢25可调,扫描方式方形、圆环、圆面可设,并可记忆16位坩埚扫描频率、幅度大小、扫描方式及斑点位置。对操作者依耐性减少,使产品的重复性得到比较大的改善。

3、 X Y频率高,能高速扫描,10---250HZ。

4、各单元为分体式方便维修和检查。

扫描电源优点:

1采用国内先进技术智能手操器,通过串行总线I2C与扫描主机连接,运行安全可靠;能控制束斑 束流 坩埚 挡板等。

2能与计算机通讯,并有RS232(或RS485)通讯接口,对镀膜设备实现自动控制起到重要作用。

3束斑位置记忆,在人工模式下能对束斑位置及大小,频率 波形模式 16位坩埚记忆功能。

4环行面积密度可选择1---20条,X方向的上下电流可设置,从而保护光斑不打到坩埚上面。

5偏磁方式:改进型永久磁铁减少扎坑现象,可以使电子束以垂直角度入射蒸镀膜料,及增加蒸发膜料的使用面积,并使膜料更加均匀的蒸发。

高压优点:

1单独的高压柜,采用日本焦耳电源控制方式,保证安全可靠。

2电源仪器可用于50HZ 60HZ的电源;采用移相触发器控制方式,适用于阻性 感性负载,变压器一侧。

3控制装置有过流 过热 SCR保护功能,具有软启动 软关断功能,减少对电网的冲击干扰。

4 高压具有恒流恒压功能,在空载与加负载时功率不变,对镀膜起非常重要作用。

3.2 电阻蒸发系统

系统配备一套水冷蒸发电极,如下图所示,蒸发电源电压5、10V可选,电流250A,最大输出功率2Kw,配备数显电流表;

此外蒸发源配备自动控制挡板:1套;

 

3.3 膜厚控制

系统配备石英晶振膜厚控制仪一套,含水冷探头1只。用于在线监测制备膜层厚度以及膜层沉积速率等。

3.4 低温旋转样品台(选配。标配采用加热旋转样品台)

系统配备一套液氮冷却转台,转台示意图如下:

 

3.5 预留接口

为拓展真空室功能,可以按照使用方的要求预留各种接口法兰。

 

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