设备简介:此设备特点是将硫粉放于左端冷区,当硫化过程开始时利用拉杆式将硫粉推进热场。控制电路选用模糊PID程控技术,具有控温精度高,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作。同样也适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。