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盘点搜索引擎4大算法 如何提高内容质量

随着搜索引擎算法的不断升级,为提升网站页面内容质量,逐渐推出并完善了飓风算法3.0、劲风算法、细雨算法2.0、蓝天算法。单一的靠技术手段来做排名越来越难。可以说现在已经已经进入了内容为王的时代,站点想要流量就必须生产优质内容,逐渐的大家都在进行原创或者为原创。

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基于数字孪生的三维技术为基础,将人工智能、物联网(IOT)、大数据分……

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气源(天然气裂解)负极、渗碳包硅回转窑

设备简介:该系列设备炉管360°旋转,且有一定的角度,温度均匀,气氛均匀,适合粉体的干燥烧结,尤其适合密度较轻的硅碳负极的包碳渗硅。

石墨真空烧结炉

设备简介:此款设备采用石墨为加热体,可在真空或者惰性气氛下2000℃长期工作;可供功能陶瓷、光学材料、碳复合材料、硬质合金、粉末冶金等在高温条件下进行烧结处理,也可在充气保护情况下成型烧结。

1200℃ 18.7L真空气氛箱式炉 ZMF-1200C-M

设备型号:ZMF-1200C-M 设备简介:真空系统由真空加热室组成,系统冷态极限真空≤100Pa。真空加热室由双层钢板焊成圆筒形密封套,内装炉膛和端盖,为设备提供优良的真空加热环境;同时利用钢板夹层隔绝热量,降低了炉体表面温度,防止灼伤。选配大抽速式旋片式机械泵,可以在很短的时间内使系统达到要求的真空范围。密封元件则采用优质硅橡胶密封材料密封外带循环水冷却,既提高了密封效果,又防止了在氧化气氛下硅橡胶的加速老化,因此特别适合做高温真空气氛设备的密封使用,提高了设备的寿命和使用周期,减少了因密封元件老化而产生的气密泄露。炉膛可配置保护性气体,通过两或三次的抽真空通气氛,使炉膛内气氛置换充分,维持炉膛在升温的过程中有一个稳定的气氛环境。

1200℃ 64L真空气氛箱式炉 ZMF-1200C-L

设备型号:ZMF-1200C-L 设备简介:ZMF-1200C-L气氛箱式炉是一款在真空环境下加热的箱式马弗炉。真空系统由真空加热室组成,系统冷态极限真空≤100Pa。真空加热室由双层钢板焊成圆筒形密封套,内装炉膛和端盖,为设备提供优良的真空加热环境;同时利用钢板夹层隔绝热量,降低了炉体表面温度,防止灼伤。选配大抽速式旋片式机械泵,可以在很短的时间内使系统达到要求的真空范围。密封元件则采用优质硅橡胶密封材料密封外带循环水冷却,既提高了密封效果,又防止了在氧化气氛下硅橡胶的加速老化,因此特别适合做高温真空气氛设备的密封使用,提高了设备的寿命和使用周期,减少了因密封元件老化而产生的气密泄露。炉膛可配置保护性气体,通过两或三次的抽真空通气氛,使炉膛内气氛置换充分,维持炉膛在升温的过程中有一个稳定的气氛环境。

1200℃组合式多通道管式箱式炉 BTF-1200C-4D-4M

设备型号:BTF-1200C-4D-4M 设备简介:此款设备由2台开启式迷你型管式气氛炉、2台封闭式迷你型管式气氛炉和4台迷你马弗炉组合而成,且相互独立控制,可同时进行平行实验,整机触摸屏集中管理,操作简便,无纸记录。设备的在最大优势:功能强大体积小,很好的解决了实验室空间紧张的问题,广泛适用于各大高校研究院。

1200℃六通道管式炉 BTF-1200C-6D

设备型号:BTF-1200C-6D 设备简介:此款设备为我司研发的新一代产品,将6台管式气氛炉集成与一体,且又能独立控制,可同时进行多组平行试验;顶上二组管式炉可半盖开启,可透过石英管直接观察样品烧结时的状态;整机液晶屏集中控制,操作简便,无纸记录。设备的在最大优势:功能强大体积小,很好的解决了实验室空间紧张的问题,广泛适用于各大高校研究院。

1200℃八通道管式炉 BTF-1200C-8D

设备型号:BTF-1200C-8D 设备简介:此款设备为我司研发的新一代产品,将8台管式气氛炉集成与一体,且又能独立控制,可同时进行多组平行试验;顶上二组管式炉可半盖开启,可透过石英管直接观察样品烧结时的状态;整机液晶屏集中管理,操作简便,无纸记录。设备的在最大优势:功能强大体积小,很好的解决了实验室空间紧张的问题,广泛适用于各大高校研究院。

真空快速热压炉(VRHP)

设备型号:BTF-1700C-RHP 设备简介:BTF-1700C-RHP是一款真空快速热压炉(VRHP),专为真空(或气氛保护)环境下通过快速热压方式制备致密的复合材料而设计。感应加热电源可对石墨模具以及样品进行快速加热,最高温度可达1700℃,侧开门式真空腔体便于安装及放取模具,智能一体触屏控制方便快捷设定温度及压力。感应加热线圈以及石墨模具处于不锈钢真空腔体内部,通过电动液压机对石墨模具进行施压,最大压力可达5T,单位压强最高可达60MPa。

迷你混合箱式管式炉 BTF-1100C-S-VF

设备型号:BTF-1100C-S-VF 设备简介:BTF-1100C-S-VF是一款通过CE认证的小型混合管式/箱式炉,其炉膛尺寸为100×100×100mm,做为单纯的箱式炉可对样品在空气环境下进行热处理。此款设备配有Φ60mm石英炉管和不锈钢密封法兰,可对样品在真空或气氛保护环境下进行热处理。设备最高温度可达 1100℃,而且功率仅仅为500-700W。另外设备体积较小,可放入到手套箱里操作。

1400℃ 气氛箱式排胶炉 ZMF-1400C-GX

设备型号:ZMF-1400C-GX 设备简介:这是一款定制高精度气氛箱式排胶炉。该设备主要由开启式加热腔体、气路系统、智能控制系统、尾气处理系统组成。

双独立温场高温滑轨炉(High temperature slide furnace with double independent temperature field)

型号:BTF-1400C-II-SSL 关键词:BTF-1400C-II-SSL是一款两个完全独立温场的高温滑轨炉,采为卡箍快捷密封法兰,安装拆卸取放样品简便快捷,两个数字温度控制器可独立控制温度,并可设置30段升降温程序,加热区均采用硅碳棒进行加热,连续使用温度可达1300度;两个独立的炉体可靠近亦可分离,可以灵巧的控制整个温度分布。 适用范围:广泛用于CVD实验、荧光粉制备、真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境中。

1200℃智能型PECVD系统(含压力控制系统) PECVD-500A-D

设备型号: PECVD-500A-D 设备简介:智能PECVD-500A-D是将所有的控制部分集为一体且目前最新型的一款设备。可配备PE射频电源,将CVD系统升级为PECVD。当参与反应的气氛进入炉管在射频电源的作用下产生离子体,可使反应更加充分。同时等离子体起增强的作用,从而很大程度上优化实验的工艺条件。与传统CVD系统比较,生长温度更低。使用滑轨炉实现快速升温和降温,设备特有的专利技术使得整管辉光均匀等效,均匀生长。

1200℃智能型单温区滑轨式热处理设备 BTF-1200C-SL-4Z

设备型号:BTF-1200C-SL-4Z 设备简介:管式真空/气氛提纯分离装置主要用途是在真空条件下预先抽真空后进行惰性气体洗气。气氛流动(一进一出,维持常压)情况下对有机混合物进行升华达到纯化的目的(即蒸发后再结晶)。主要处理对象为具有升华性的有机材料或具有流动相持性混合物如有机声光产品(有机发光显示器使用的有机光电材料)或纳米材料。

分体式升华设备将热场置于手套箱 BOF-3-50V

设备型号:BOF-3-50V 设备简介:此款设备简易分体式结构,能将升华体置于手套箱内部,控制部分及真空部分置于手套箱外,操作简易。能初步满足材料进出及升华过程中的气氛保护要求。法兰为球头真空吸附方式密封,无需工具操作,大大降低了手套箱内的操作难度,整个操作过程材料与大气隔绝,避免了大气中水、氧的影响以及灰尘的污染,是制备高纯度半导体前驱体及相关材料的最佳选择。

分体式升华设备手套箱(简易款)

设备简介:此款设备简易分体式结构,能将升华体置于手套箱内部,控制部分及真空部分置于手套箱外,成本低,操作简易。能初步满足材料进出及升华过程中的气氛保护要求。法兰为球头真空吸附方式密封,无需工具操作,大大降低了手套箱内的操作难度,整个操作过程材料与大气隔绝,避免了大气中水、氧的影响以及灰尘的污染,是制备高纯度半导体前驱体及相关材料的最佳选择。

真空井式坩埚炉 BTF-1200C-VF

设备型号:BTF-1200C-VF 设备简介:BTF-1200C-VF真空井式坩埚炉,集控制系统与炉膛为一体。其炉膛保温材料采用整体真空吸附成型,程控镶嵌进口电阻丝。超大口径的石英炉腔,可以在流动气氛和真空状态下快速加热样品,能很好的替代真空箱式炉。炉体的控制面板配有智能温度调节仪,控制电源开关、主加热工作/停止按钮,工作状态指示灯,以便随时观察本系统的工作状态。 工艺应用:它是专为高等院校﹑科研院所及工矿企业对金属,非金属及其它化和物材料在气氛或真空状态下进行快速烧结﹑融化﹑分析而研制的专用设备。

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