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1200℃智能型PECVD系统(含压力控制系统) PECVD-500A-D
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产品名称

1200℃智能型PECVD系统(含压力控制系统) PECVD-500A-D

设备型号: PECVD-500A-D 设备简介:智能PECVD-500A-D是将所有的控制部分集为一体且目前最新型的一款设备。可配备PE射频电源,将CVD系统升级为PECVD。当参与反应的气氛进入炉管在射频电源的作用下产生离子体,可使反应更加充分。同时等离子体起增强的作用,从而很大程度上优化实验的工艺条件。我公司研制的滑轨式PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区,辉光均匀等效,这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态,这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍,并解决了物料不均匀堆积现象。与传统CVD系统比较,生长温度更低。使用滑轨炉实现快速升温和降温,设备特有的专利技术使得整管辉光均匀等效,均匀生长。
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产品描述
产品参数

1、薄膜沉积速率高:射频辉光技术,大大的提高了薄膜的沉积速率,沉积速率可达10Å/S。
2、大面积均匀性高:采用了先进的多点射频馈入技术,特殊气路分布和加热技术等,使得薄膜均匀性指标达到8%。
3、一致性高:用半导体行业的先进设计理念,使得一次沉积的各基片之间偏差低于2%。
4、工艺稳定性高:高度稳定的设备保证了工艺的连续和稳定。
5、专利号:ZL201320052532.0  (专利产品,防伪必究)。

 

单温区加热系统

输入电源

单相,220V  50Hz

额定功率

3KW

最高温度

1200℃

使用温度

≤1100℃

控温方式

30段可编程控温,PID参数自整定

操作界面为10”工控电脑,内置PLC控制程序

可将温控系统、滑轨炉滑动(时间和距离)设定为程序控制

加热区长度

440mm

恒温区长度

200mm

控温精度

±1℃

炉膛有效尺寸

Ф60*1650mm

加热元件

电阻丝(掺钼铁铬铝合金)

热电偶

K型热电偶

炉膛材料

氧化铝、高温纤维制品

PE射频电源

该CVD系统可配备PE射频电源,将CVD系统升级为PECVD。当参与反应的气氛进入炉管在射频电源的作用下产生离子体,可使反应更加充分。同时等离子体起增强的作用,从而很大程度上优化实验的工艺条件。

信号频率

13.56MHz±0.005%

功率输出范围

500W

射频输出接口

50 Ω, N-type, female

功率稳定度

±0.1%

谐波分量

≤-50dbc

供电电压

单相交流(187V-253V) 频率50/60HZ

整机效率

≥70%

功率因素

≥90%

冷却方式

强制风冷

五路质子流量控制系统

供气系统是一种可控制4种气体按不同流量进行混合配比,也可根据实验需求加装洗气装置,质量流量计安装于密封的可移动机柜内,由超洁双抛不锈钢管与精密双卡套接头连接组成,触摸屏控制。

连接头类型

双卡套不锈钢接头

标准量程(N2)

氩气:1000sccm,氢气:300sccm,甲烷:100sccm,氮气:500sccm,氧气:100sccm

准确度

±1.5%

线性

±0.5~1.5%

重复精度

±0.2%

响应时间

气特性:1~4 Sec,电特性:10 Sec

工作压差范围

0.1~0.5 MPa

最大压力

3MPa

接口

Φ6或者1/4''可选

显示

4位数字显示

工作环境温度

5~45高纯气体

压力真空表

-0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格

真空机组

真空机组,内部安装双极旋片机械泵1台,电容真空计1套,并含有配套使用的波纹管,手动挡板阀,卡箍等连接部件。设备冷态极限真空可达0.5Pa。

工作电压

220V±10%  50~60HZ

功率

1KW

抽气速率

16m³/h

极限真空

0.5Pa

进气口口径

KF25

排气口口径

KF25

连接方式

采用波纹管,手动挡板阀与波纹管相连

电容真空计

ZDM-I(带通讯),可以和触摸屏通讯上

真空规管测量范围可选5-5000pa

不需因测量气体种类不同而需要系数转换

具有较高的精确度和重复性,响应时间较短

压力控制系统

主要部件

蝶阀、压力控制器、电容真空计组成

作用

根据实验要求,在出气端和泵之间增加蝶阀(调节阀)和真空计

真空计可检测管内压力,通过 PLC 调节蝶阀(调节阀)开启的大小

以达到控制管内压力不变

压力范围

100~100000Pa

控制精度

测量值±5%

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