前开式真空井式坩埚炉 BTF-1200C-VF-B

设备型号：BTF-1200C-VF-B 设备简介：BTF-1200C-VF-B是一款通过CE认证的真空井式坩埚炉，集控制系统与炉膛为一体。其炉膛保温材料采用整体真空吸附成型，程控镶嵌进口电阻丝。超大口径的石英炉腔和真空密封法兰系统，可以在流动气氛和真空状态下快速加热样品，能很好的替代真空箱式炉。炉体的控制面板配有智能温度调节仪，控制电源开关、主加热工作/停止按钮，工作状态指示灯，以便随时观察本系统的工作状态。 工艺应用：它是专为高等院校﹑科研院所及工矿企业对金属，非金属及其它化和物材料在气氛或真空状态下进行快速烧结﹑融化﹑分析而研制的专用设备。

1400℃ 真空气氛箱式炉 ZMF-1400C

设备型号：ZMF-1400C 设备简介：贝意克自主研发生产的ZMF-1400C真空箱式炉系列用于在1350℃以下金属材料的热处理和还原性烧结等工艺，也可用于产品的炭化试验。该炉采用优质U型硅棒加热，PID程序控温仪控制，温控仪可设定30段升温曲线、PID控制参数自整定、并具有断偶、超温报警保护等功能。炉体采用超轻质高铝纤维材料，具有热容小、温度升降控制灵活、节能等特点，真空加热室由双层钢板焊成圆桶形密封套，内装炉膛和端盖，为设备提供优良的真空加热环境；同时利用钢板夹层隔绝热量，降低了炉体表面温度，防止灼伤。设备可根据真空度的需要分别选用机械泵或真空机组， 非常适合于试验和小批量生产之用。

真空中频感应熔炼纺丝设备 BMF-1800C-D

设备型号：BMF-1800C-D 设备简介：真空中频感应熔炼炉为立式炉壳型的真空感应电炉。专供特殊钢、高温合金、精密合金等在真空或保护气氛下进行熔炼和铸锭之用，亦可供小型零件的真空精密铸造使用。

1200℃真空气氛滑轨炉 BTF-1200C-DSL

设备型号：BTF-1200C-DSL 设备简介：BTF-1200C-DSL 是一款精巧型快速热处理管式炉，配有石英管和真空水冷法兰，它是专为半导体或太阳能电池基片的退火而设计，采用电阻丝为加热元件。温度控制位30 段可编程温度控制器，控温精度为±1°C。内部配有石英材质样品架，可以自由滑动实现快速升降温功能。根据工艺需要，炉管内部可引入电极，适合更多数据采集需要。 承载样品的托架可直接划出炉腔，使进出样品更方便简易，同时能实验高温条件下进出样品。

前端预热法硫化钼制备设备

设备简介：前端配有可加热到400℃的预加热器，辅助硫粉蒸发，后端为双温区硫化炉，温度控制精确，操作简便。并配有气氛微调装置，可以准确的反应腔体内部的气体压力，带刻度的调节阀对于做低压CVD非常实用，重复性好。

1700℃ 18.7L真空气氛箱式炉 ZMF-1700C-III

设备型号：ZMF-1700C-III 设备简介：ZMF-1700C真空箱式炉系列用于在1600℃以下金属材料的热处理和还原性烧结等工艺，也可用于产品的炭化试验。该炉采用优质U型硅棒加热，PID程序控温仪控制，温控仪可设定30段升温曲线、PID控制参数自整定、并具有断偶、超温报警保护等功能。炉体采用超轻质高铝纤维材料，具有热容小、温度升降控制灵活、节能等特点，真空加热室由双层钢板焊成圆桶形密封套，内装炉膛和端盖，为设备提供优良的真空加热环境；同时利用钢板夹层隔绝热量，降低了炉体表面温度，防止灼伤。设备可根据真空度的需要分别选用机械泵或真空机组，非常适合于试验和小批量生产之用。

1700℃高温CVD系统 BTF-1700C-CVD

设备型号：BTF-1700C-CVD 设备简介：由1700℃管式炉、三路质量流量计系统以及国产高真空系统（有高、低真空系统可选）所组成；设备技术成熟、质量可靠，温场均匀，结构合理，气路选用液晶屏触摸界面，使得操作异常简单、方便；设备的各项技术参数，30段可编程温控系统更是一目了然,使整个实验的运行状态尽在您的掌控之中。 工艺应用：主要用于真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。

高温石墨热压炉 BTF-2300C-VP-120

设备型号：BTF-2300C-VP-120 设备简介：该设备将真空、气氛、热压成型、高温烧结结合在一起，适用于粉末冶金、功能陶瓷等新材料的高温热成型，如应用于透明陶瓷、工业陶瓷等金属以及由难熔金属组成的合金材料的真空烧结以及陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结，也可用于粉末或压坯在低于主要组分熔点的温度下的热处理，目的在于通过颗粒间的冶金结合以提高其强度。 设备组成：真空热压炉主要由炉体、炉盖、炉盖升降系统、炉底、加热与保温及测温系统、加压系统、真空系统、水冷系统、控制系统等组成。