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三温区管式炉 BTF-1200C-III-D80
设备型号:BTF-1200C-III-D80
1700℃高温箱式炉 MF-1700C-D80L
设备型号:MF-1700C-D80L
高温高压炉 BTF-1200C-III-HP-132
设备型号:BTF-1200C-III-HP-132
双温区PVD设备 BTF-1200C-II-100-PVD-R
设备型号:BTF-1200C-II-100-PVD-R 设备简介:PVD设备是 物理气相沉积设备 的简称,是一种通过物理过程在材料表面沉积薄膜的技术设备,广泛应用于半导体、光学、电子、航空航天等领域。
定制热解设备 BTF-1200C-III-CVD-D60
设备型号:BTF-1200C-III-CVD-D60
高真空CVD系统及原位监测系统 BTF-1200C-VI-CVD-G
设备型号:BTF-1200C-VI-CVD-G 设备简介:该款设备集成了一台六温区管式炉,温区长:200*200*200*200*200*200。左右侧法兰都配有3个由截止阀控制的进气口,以及1个球阀控制的出气口,可左右切换;左侧法兰上方配有压力传感器和电磁阀控制;左侧法兰配有测温组件和观察窗组件分别使用,观察组件可通过红外枪测温。右侧法兰垂直对接高真空系统,插板阀控制通过冷井对接真空泵组。CVD实验时通过单独的机械泵配置使用;右侧法兰配备过渡仓,方便实验过程中的取放样,同时最右端配备测温组件和观察窗组件分别使用;设备整机采用框架和钣金结构,稳固牢靠,涂色采用橘纹白搭配深灰,简洁美观。
高温退火系统 BTF-1000C-VF-300-II
设备型号:BTF-1000C-VF-300-II
液相蒸发仪 BTF-350C-UM
设备型号:BTF-350C-UM
纳米粒度电位分析仪 BTF-2100
设备型号:BTF-2100 设备简介:BTF-2100纳米粒度电位仪广泛应用于科研院校、陶瓷、硅溶胶、水油乳液、油漆、涂料、颜料、油墨、电子、核材料、化妆品以及其它纳米材料研究、制备与应用等领域。 全密封的金属外壳,具有良好的电磁屏蔽抗干扰性能,将光电子、样品池、循环系统等设置于仪器内部,自动选择的通道数和延时时间等参数,达到最高的测试精度和重复性。在电脑控制下全自动连续测试。并具有动态光浓度测试功能和静态光分子量检测功能,可以快速定性测试溶液的浓度。 原理采用动态光散射技术,冷凝控制采用干燥空气或者氮气。
激光粒度分析仪 BTF-2300
设备型号:BTF-2300 设备简介:BTF-2300激光粒度分析仪广泛应用于科研院校、陶瓷、硅溶胶、水油乳液、油漆、涂料、颜料、油墨、电子、核材料、化妆品以及其它纳米材料研究、制备与应用等领域。 全密封的金属外壳,具有良好的电磁屏蔽抗干扰性能,将光电子、样品池、循环系统等设置于仪器内部,自动选择的通道数和延时时间等参数,达到最高的测试精度和重复性。在电脑控制下全自动连续测试。并具有动态光浓度测试功能和静态光分子量检测功能,可以快速定性测试溶液的浓度。 原理采用动态光散射技术,冷凝控制采用干燥空气或者氮气。
1200℃高温高压滑轨炉 BTF-1200C-SL-D20
设备型号:BTF-1200C-SL-D20
宽幅卷对卷连续生长石墨烯CVD设备
设备型号:RTR-CVD-500
高温升降箱式炉 ZZL-1700C-L
设备型号:ZZL-1700C-L 设备简介:这是一款高温升降箱式炉设备。该设备主要分为高温加热炉、自动送料平台、以及智能工控操作系统。
小型三温区PECVD设备 BTF-1200C-III-S-PECVD
设备型号:BTF-1200C-III-S-PECVD
实验级流化床设备 BTF-1200C-D-CVD
设备型号:BTF-1200C-D-CVD 设备简介:该款设备为立式实验级流化床制备设备,设备配有上端进料装置,中部反应炉管,下部收集装置;实验通过上端螺旋送粉料至管内内管,反应气体通过下端法兰内管进入,与落入内管的粉料混合并将粉料吹入到内管外,在内管外自由落入下端法兰直至收集罐中;通过收集罐收集取出产物。
1200℃三温区管式CVD设备 BTF-1200C-III-3ZL-CVD
设备型号:BTF-1200C-III-3ZL-CVD 设备组成:该设备主要由多路供气系统、三温区加热炉、低真空系统、以及智能控压组件组成。
滑轨式4英寸三温区管式炉 BTF-1200C-VB-SL-D100
设备型号:BTF-1200C-VB-SL-D100 设备简介:这是一款滑轨式4英寸管式炉。该设备主要包含4大部分:前端预热炉、三温区滑轨炉、压力控制系统、真空系统组成。
智能型连续进出料CVD设备 BTF-1200C-III-3D-CVD-D210
设备型号:BTF-1200C-III-3D-CVD-D210 设备简介:此款定制智能型连续进出料CVD设备包含主要由七大部分,进料腔,大口径管式炉、出料腔、推拉机构、供气系统、真空系统、以及自动化控制软件组成。
PECVD系统 BTF-1400C-D-CVD
设备型号:BTF-1400C-D-CVD 设备简介:这是一款定制多功能PECVD设备。该设备主要由开启式加热炉、气路系统、反应管、射频组件、蒸发系统、真空系统、智能控制系统等部件组成。
高温真空退火CVD系统 BTF-1200C-VI-SL-CVD-D210
设备型号:BTF-1200C-VI-SL-CVD-D210 设备简介:这是一款定制退火管式炉。该设备主要由开启式加热炉、预热炉、气路系统、反应管系统、智能控制系统组成。
双温区旋转雾化管式炉 BTF-1200C-II-UAR-SL
设备型号:BTF-1200C-II-UAR-SL 设备简介:这是一款双温区旋转雾化管式炉。该设备主要包含5大部分:双温区管式炉、电气控制系统、旋转机构、超声波雾化装置以及滑轨机构。
1700℃下装载式箱式炉 ZZL-1700C-S
设备型号:ZZL-1700C-S
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