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贝意克学术论文奖荐读 | 宁夏大学朱涛涛 SiC陶瓷膜的制备研究
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贝意克学术论文奖荐读 | 复旦大学 曹永杰：独立思考，发现问题，解决问题！
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冷壁卷对卷连续生长石墨烯CVD设备
名称

冷壁卷对卷连续生长石墨烯CVD设备
设备型号：RTR-CVD-500
全自动气氛退火管式炉
名称

全自动气氛退火管式炉
台车式热处理升降炉
名称

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高温升降箱式炉 ZZL-1700C-L
名称

高温升降箱式炉 ZZL-1700C-L
设备型号：ZZL-1700C-L 设备简介：这是一款高温升降箱式炉设备。该设备主要分为高温加热炉、自动送料平台、以及智能工控操作系统。
小型三温区PECVD设备 BTF-1200C-III-S-PECVD
名称

小型三温区PECVD设备 BTF-1200C-III-S-PECVD
设备型号：BTF-1200C-III-S-PECVD
实验级流化床设备 BTF-1200C-D-CVD
名称

实验级流化床设备 BTF-1200C-D-CVD
设备型号：BTF-1200C-D-CVD 设备简介：该款设备为立式实验级流化床制备设备，设备配有上端进料装置，中部反应炉管，下部收集装置；实验通过上端螺旋送粉料至管内内管，反应气体通过下端法兰内管进入，与落入内管的粉料混合并将粉料吹入到内管外，在内管外自由落入下端法兰直至收集罐中；通过收集罐收集取出产物。
1200℃三温区管式CVD设备 BTF-1200C-III-3ZL-CVD
名称

1200℃三温区管式CVD设备 BTF-1200C-III-3ZL-CVD
设备型号：BTF-1200C-III-3ZL-CVD 设备组成：该设备主要由多路供气系统、三温区加热炉、低真空系统、以及智能控压组件组成。
卷对卷连续走丝CVD沉积系统 RTR-1700C-III-CVD
名称

卷对卷连续走丝CVD沉积系统 RTR-1700C-III-CVD
智能型CVD系统 BTF-1400C-OP-4ZL-CVD
名称

智能型CVD系统 BTF-1400C-OP-4ZL-CVD
滑轨式4英寸三温区管式炉 BTF-1200C-VB-SL-D100
名称

滑轨式4英寸三温区管式炉 BTF-1200C-VB-SL-D100
设备型号：BTF-1200C-VB-SL-D100 设备简介：这是一款滑轨式4英寸管式炉。该设备主要包含4大部分：前端预热炉、三温区滑轨炉、压力控制系统、真空系统组成。
智能型连续进出料CVD设备 BTF-1200C-III-3D-CVD-D210
名称

智能型连续进出料CVD设备 BTF-1200C-III-3D-CVD-D210
设备型号：BTF-1200C-III-3D-CVD-D210 设备简介：此款定制智能型连续进出料CVD设备包含主要由七大部分，进料腔，大口径管式炉、出料腔、推拉机构、供气系统、真空系统、以及自动化控制软件组成。
PECVD系统 BTF-1400C-D-CVD
名称

PECVD系统 BTF-1400C-D-CVD
设备型号：BTF-1400C-D-CVD 设备简介：这是一款定制多功能PECVD设备。该设备主要由开启式加热炉、气路系统、反应管、射频组件、蒸发系统、真空系统、智能控制系统等部件组成。
高温真空退火CVD系统 BTF-1200C-VI-SL-CVD-D210
名称

高温真空退火CVD系统 BTF-1200C-VI-SL-CVD-D210
设备型号：BTF-1200C-VI-SL-CVD-D210 设备简介：这是一款定制退火管式炉。该设备主要由开启式加热炉、预热炉、气路系统、反应管系统、智能控制系统组成。
双温区旋转雾化管式炉 BTF-1200C-II-UAR-SL
名称

双温区旋转雾化管式炉 BTF-1200C-II-UAR-SL
设备型号：BTF-1200C-II-UAR-SL 设备简介：这是一款双温区旋转雾化管式炉。该设备主要包含5大部分：双温区管式炉、电气控制系统、旋转机构、超声波雾化装置以及滑轨机构。
升降式箱式炉 ZZL-1700C-M
名称

升降式箱式炉 ZZL-1700C-M
小型单温区三工位立式炉 VTF-1200C-S-III-D50
名称

小型单温区三工位立式炉 VTF-1200C-S-III-D50
1100℃升降式箱式炉 ZZL-1100C-S
名称

1100℃升降式箱式炉 ZZL-1100C-S
小型双温区回转炉 BTF-1200C-S-R-II
名称

小型双温区回转炉 BTF-1200C-S-R-II
1700℃下装载式箱式炉 ZZL-1700C-S
名称

1700℃下装载式箱式炉 ZZL-1700C-S
设备型号：ZZL-1700C-S
1100℃真空淬火炉 BTF-1100C-H
名称

1100℃真空淬火炉 BTF-1100C-H
设备型号：BTF-1100C-H 设备简介：该设备为真空淬火炉，设备上端为进气端，下端为出气端。控制箱独立设计，设备外观结构简约稳重，操作直观方便。电气控制使用内置控温仪表，其采用智能PID控制和自动整定调节，高达30段可编程序控制。控温精度±1℃，带有超温、断偶，报警功能。炉膛使用氧化铝纤维材质，K型热电偶测温搭配优质电阻丝为加热原件，内部温场均匀。
1700℃箱式热循环炉
名称

1700℃箱式热循环炉
设备型号：MF-1700C-VT-II 设备简介：MF-1700C-VT-II是我司根据客户需求定制的一款箱式热循环炉，系统主要由高温箱式加热炉、升降滑轨系统、风冷系统、PLC控制系统组成。以硅钼棒为加热元件，通过下装载炉门和侧面防护门配合实现对样品热氧老化实验（对样品重复多次加热和冷却），安装操作简单，使用方便。炉膛采用高纯氧化铝纤维材料，最高温度能达到1700℃，可连续工作温度≤1600℃，控温精度±1℃。该炉使用温场均匀、表面温度低、智能操作，设定烧结工艺可重复性强。
1200℃单温区立式管式炉 BTF-1200C-VT-150
名称

1200℃单温区立式管式炉 BTF-1200C-VT-150
设备型号：BTF-1200C-VT-150 设备简介：该设备为立式结构，可广泛用于材料的制备，退火等工艺要求。该炉具有使用温度高、高精度控温、操作简单、维修方便等优点。
WFY-100型颚式粉碎机
名称

WFY-100型颚式粉碎机
设备型号：WFY-100 设备简介：WFY-100型颚式粉碎机适于实验室对中硬性、硬性、脆性和硬韧性的材料样品提供快速的粗粉碎或预粉碎处理。该机型具有多种不同材料的颚板可供针对性选择。大流量处理能力，优异的设备性能和安全性能，是您在实验室和企业生产中进行样品前处理的理想选择。 应用领域：工程/电子, 建筑原料, 化学 / 合成材料, 地质矿产 / 冶金, 环境 / 资源回收利用, 玻璃/ 陶瓷
双管式高真空管式设备 BSL-1ZH-D80-2D
名称

双管式高真空管式设备 BSL-1ZH-D80-2D
设备型号：BSL-1ZH-D80-2D 设备简介：双管式高真空管式设备BSL-1ZH-D80-2D，配备真空系统、手摇升降机构、触摸屏控制系统、气路组件、真空系统、防护组件等；设备平台可0-20度手动升降，双管高真空实验；设备左端法兰上每管配有压力表和2个截止阀控制的进气口，其中一个为备用扣；右端法兰上端配有压力保护装置，出气口对接点火装置，方便处理尾气；后部通过手动插板阀对接冷井至真空泵组合：分子泵+干泵。
摇摆管式炉（Swing tube furnace）
名称

摇摆管式炉（Swing tube furnace）
型号：BTF-1200C-SK 关键词：摇摆管式炉BTF-1200C-SK是一款管式摇摆炉，最高温度可达1200℃，30段可编程精密温度控制器,可根据不同的客户需求来设定升降温程序，设备可设定取放料工位（如垂直取放料），并设定摇摆起始工位（如垂直作为起始工位），可实现液晶屏一键归位，速度范围为0-30次/min，倾斜角度可达±30度。内置310不锈钢防护管，可很好的在石英样管出现特殊情况爆管的时候起到保护作用。 产品用途：可通过摇摆提高熔体均匀性、细化晶粒，广泛应用于热电材料制备工艺中。
双独立温场高温滑轨炉（High temperature slide furnace with double independent temperature field）
名称

双独立温场高温滑轨炉（High temperature slide furnace with double independent temperature field）
型号：BTF-1400C-II-SSL 关键词：BTF-1400C-II-SSL是一款两个完全独立温场的高温滑轨炉，采为卡箍快捷密封法兰，安装拆卸取放样品简便快捷，两个数字温度控制器可独立控制温度，并可设置30段升降温程序，加热区均采用硅碳棒进行加热，连续使用温度可达1300度；两个独立的炉体可靠近亦可分离，可以灵巧的控制整个温度分布。 适用范围：广泛用于CVD实验、荧光粉制备、真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境中。
1200℃智能型PECVD系统（含压力控制系统） PECVD-500A-D
名称

1200℃智能型PECVD系统（含压力控制系统） PECVD-500A-D
设备型号： PECVD-500A-D 设备简介：智能PECVD-500A-D是将所有的控制部分集为一体且目前最新型的一款设备。可配备PE射频电源，将CVD系统升级为PECVD。当参与反应的气氛进入炉管在射频电源的作用下产生离子体，可使反应更加充分。同时等离子体起增强的作用，从而很大程度上优化实验的工艺条件。我公司研制的滑轨式PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆积现象。与传统CVD系统比较，生长温度更低。使用滑轨炉实现快速升温和降温，设备特有的专利技术使得整管辉光均匀等效，均匀生长。
全自动电加热蒸汽发生器
名称

全自动电加热蒸汽发生器
分体式升华设备手套箱（简易款）
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分体式升华设备手套箱（简易款）
设备简介：此款设备简易分体式结构，能将升华体置于手套箱内部，控制部分及真空部分置于手套箱外，成本低，操作简易。能初步满足材料进出及升华过程中的气氛保护要求。法兰为球头真空吸附方式密封，无需工具操作，大大降低了手套箱内的操作难度，整个操作过程材料与大气隔绝，避免了大气中水、氧的影响以及灰尘的污染，是制备高纯度半导体前驱体及相关材料的最佳选择。
新款智能型等离子体增强化学气相沉积系统 PECVD-500A
名称

新款智能型等离子体增强化学气相沉积系统 PECVD-500A
设备型号：PECVD-500A
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