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我与贝意克的故事---人物专访
2019年开始使用贝意克的设备，作为一名科研人员，真心感觉贝意克的设备很人性化真的做到为科研精益求精服务，操作简单又很高效。这次奖学金活动的开展在一定程度上极大鼓舞了研究者的热情，真心觉得很赞！
（在sciencedirect中发表的论文中提到的贝意克设备）
很高兴在这里分享我与贝意克之间的一点故事。研究的初期是想得到具有高导热率和完美形貌的氮化硼纳米管，实验的条件是在1300℃氨气氛围中反应一段时间后快速降低到室温，这就需要两路进气通道，一路用于反应气体氨气（氨气具有强腐蚀性且具有刺激性气味，需要一根专门的通路管道），令一路用于后期惰性气体降温过程。而实验室当时的设备，远不能满足实验条件的要求。
出于对贝意克设备的信任和出色的售后服务我们最终选购了贝意克BTF-1700C-CVD这套设备，它是由1700度管式炉、三路质量流量计系统和高真空系统三部分组成。此设备三路质量流量计系统可以在触摸屏幕上精准设定三路气体的流速，而真空系统的设计对我的实验可以说是如虎添翼，因为氨气和一定比例空气在1300℃高温条件下极具危险性，实验开始前的绝对真空环境是必不可少的。而且该设备用于我后期其他实验中材料的碳化处理（在惰性氛围中）也相当方便。
最后希望贝意克企业继续不忘初心，研制出更多更好的产品为我国的科研事业助力，同时期待贝意克企业牛气冲天，助力全球材料研发！
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产品描述
产品参数
主要特点
此设备特点是将硫粉放于左端冷区，当硫化过程开始时利用拉杆式将硫粉推进热场。控制电路选用模糊PID程控技术，具有控温精度高，温冲幅度小，性能可靠，简单易操作。同样也适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
技术参数
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炉管尺寸：
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外径Φ25/50/60/80/100*1000mm（可选）
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极限温度：
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1200℃
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工作温度：
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≤1100 ℃
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温度控制器：
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PID自动控制晶闸管（可控硅）输出功率， 30段可编程控制器
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升温速率：
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≤50℃/min
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加热区：
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200+200mm
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恒温区：
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100+100mm
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控温精度：
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±1 ℃
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电源：
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单相220V，交流50Hz
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3路质量流量供气系统
（触摸屏控制）
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最大电压：
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185~245V/50Hz
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最大输出功率：
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18W
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流量计标准量程：
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100 ，200，500SCCM
（非特殊指定以氮气标定，量程可选定）
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工作温度：
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5~45 ºC
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工作压差：
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0.1～0.5 MPa
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最大压力：
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3MPa
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准确度：
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±1.5% FS
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低真空系统
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抽速：
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8.11 m³/h
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极限总压：
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3×10-3 mabr
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进排气口：
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DN 25 KF
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噪音
（气镇开关时，距离1米处测量）
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54 dB
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注油量：
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0.7- 1.1 L
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重量：
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21 Kg
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工作温度：
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10~40 ℃
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功率：
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550W
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