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磁力拉杆式硫化钼制备CVD设备
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产品名称

磁力拉杆式硫化钼制备CVD设备

设备简介:此设备特点是将硫粉放于左端冷区,当硫化过程开始时利用拉杆式将硫粉推进热场。控制电路选用模糊PID程控技术,具有控温精度高,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作。同样也适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
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产品描述
产品参数

加热炉

电源

单相220V,50Hz

极限温度

1200℃

工作温度

≤1100℃

温度控制器

PID自动控制晶闸管(可控硅)输出功率, 30段可编程控制器

升温速率

≤50℃/min

加热区长度

200+200mm

恒温区长度

100+100mm

控温精度

±1℃

炉管尺寸

外径Φ25/50/60/80/100*1000mm(可选)

3路质量流量供气系统(触摸屏控制)

最大电压

185~245V  50Hz

最大输出功率

18W

流量计标准量程(N2)

100sccm、200sccm、500sccm

(非特殊指定以氮气标定,量程可选定)

工作温度

5~45℃

准确度

±1.5%FS

工作压差

0.1~0.5 MPa

最大压力

3MPa

低真空系统

抽速

8.11m³/h

极限总压

3x10-3mabr

进排气口

DN 25KF

噪音

(气镇开关时,距离1米处测量)

54dB

注油量

0.7-1.1L

重量

21Kg

工作温度

10~40℃

功率

550W

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