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产品描述
产品参数
1、铝型材机架+防指纹拉丝不锈钢面板，触摸屏人机操作。
2、样品台尺寸：最大可放置4英寸样品，兼容4inch及以下样品尺寸。
3、样品加热温度：300℃，控制精度±0.5℃；样品台表面设置有阳极氧化铝片托， 方便清洗和维护保养。
4、本底真空1：配置高性能双极旋片真空泵，抽速不小于16 m3/h，满足对本底真 空和原子层沉积工艺的要求。
5、真空计：美国MKS数字式压力传感器，检测范围10-5至105 Torr。
6、反应腔室：沉积腔室下腔室为316不锈钢电抛光处理，上腔盖为6061铝材阳极 氧化。腔室内有可拆卸阳极氧化铝内衬，方便清洗；腔室及真空抽气管路的 采用全氟橡胶O型圈密封，真空漏率小于5*10-7Pa.L/s。
7、独立前驱体源：配置2路加热金属前驱体源和1路水前驱体源，金属前驱体源 和水前驱体源采用两个独立的进气口输运到真空反应腔室，每个进气口配置独 立的吹扫流量计和管道；在未进入反应腔室前不能混合，避免前驱体源在输运 管道到发生交叉污染。
8、每路加热前驱体源系统的最大加热温度可达到200℃，温度控制精度±0.5℃。配Swagelok高温ALD专用阀门，高温手动隔膜阀，50mL不锈钢源瓶；
尾气处理装置：外热式不锈钢真空热阱前驱体处理器，最高加热温度600℃。
9、控制精度±1.0℃。
10、吹扫流量计：2路模拟量质量流量计，控制精度为满量程的1%。
11、电源：50-60Hz，功率5KW，380V交流电源。
12、控制方式：PLC+工控机+悬停触摸屏操作。
13、沉积非均匀性：4英寸内沉积300cycle氧化铝非均匀性<±1%。
14、维修工具1套、说明书及其它技术资料。
15、配套工艺：提供沉积氧化铝、氧化铪、氧化钛、氧化锌、氧化锆等材料的标准沉积工艺。
16、提供设备改造和根据工艺需求升级。
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