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产品名称

原子层沉积设备 BTF-ALD-100

设备型号:BTF-ALD-100
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产品描述
产品参数
1、铝型材机架+防指纹拉丝不锈钢面板,触摸屏人机操作。
2、样品台尺寸:最大可放置4英寸样品,兼容4inch及以下样品尺寸
3、样品加热温度:300℃,控制精度±0.5℃;样品台表面设置有阳极氧化铝片托,    方便清洗和维护保养。
4、本底真空1:配置高性能双极旋片真空泵,抽速不小于16 m3/h,满足对本底真    空和原子层沉积工艺的要求。
5、真空计:美国MKS数字式压力传感器,检测范围10-5至105 Torr。
6、反应腔室:沉积腔室下腔室为316不锈钢电抛光处理,上腔盖为6061铝材阳极    氧化。腔室内有可拆卸阳极氧化铝内衬,方便清洗;腔室及真空抽气管路的    采用全氟橡胶O型圈密封,真空漏率小于5*10-7Pa.L/s。
7、独立前驱体源:配置2路加热金属前驱体源和1路水前驱体源,金属前驱体源   和水前驱体源采用两个独立的进气口输运到真空反应腔室,每个进气口配置独   立的吹扫流量计和管道;在未进入反应腔室前不能混合,避免前驱体源在输运   管道到发生交叉污染。
8、每路加热前驱体源系统的最大加热温度可达到200℃,温度控制精度±0.5℃。配Swagelok高温ALD专用阀门,高温手动隔膜阀,50mL不锈钢源瓶;
尾气处理装置:外热式不锈钢真空热阱前驱体处理器,最高加热温度600℃。
9、控制精度±1.0℃。
10、吹扫流量计:2路模拟量质量流量计,控制精度为满量程的1%。
11、电源:50-60Hz,功率5KW,380V交流电源。
12、控制方式:PLC+工控机+悬停触摸屏操作
13、沉积非均匀性:4英寸内沉积300cycle氧化铝非均匀性<±1%。
14、维修工具1套、说明书及其它技术资料。
15、配套工艺:提供沉积氧化铝、氧化铪、氧化钛、氧化锌、氧化锆等材料的标准沉积工艺。
16、提供设备改造和根据工艺需求升级。
未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加
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