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台面式等离子体增强真空回转炉 BTF-1200C-R-PECVD
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产品名称

台面式等离子体增强真空回转炉 BTF-1200C-R-PECVD

设备型号:BTF-1200C-R-PECVD
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产品描述
产品参数

该款设备是全自动Plasma增强PECVD系统,连续可控温度以及Plasma强度等,配备真空系统,可以低压条件下进行实验,PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区,辉光相对均匀等效,有效的解决了传统等离子工作不稳定状态,该设备炉管可360°旋转,有助于粉料的烧结更均匀。
 

1)加热系统2)Plasma系统3)炉管转动系统4)触屏操作系统5)进出气法兰组件6)炉管 7)真空系统。

(1)加热系统:

该加热系统的加热腔体采用氧化铝纤维制品,其极低的热导率和比热容,保证了炉膛的快速升温和低蓄热,该系统设置有超温、欠温、断偶报警保护功能,大大降低了对操作人员经验的要求。温区为单温区,温区长440mm,异形石英管规格采用Φ60*Φ100*1200。

(2)Plasma系统:

本系统借助于辉光放电产生等离子体,辉光放电等离子体中,电子密度高,通过反应气态放电,有效利用了非平衡等离子体的反应特征,从根本上改变了反应体系的能量供给方式。

(3)炉管转动系统:

炉管转动系统可以让炉管360°匀速转动,转速在0.25-25r/min连续可调。

(4)触屏操作系统:该系统可以让设备在自动模式下高度自动化运行,所有参数程序设定好后自动运行:可实现按照设定程序连续工作,可设置多工作段不同参数,并可进行某工作段循环工作及某程序循环工作。

(5) 进出气法兰组件:设备法兰左端为进气端,一侧配有球阀控制的进气口,另一侧预留KF25接口,上部配有压力表,左侧端面为KF50接口。右端为出气端,一侧由球阀控制的出气口,另一侧为KF25抽口,上部配有真空计,右侧端面为KF50接口。

(6)炉管:炉管为异形石英管,通过左右两端磁流体密封法兰实现真空下的回转,

(7)真空系统:由一个电容真空计和一台DRV16机械泵组成,抽口端由KF25手动挡板阀控制,并配有粉尘过滤器。

 

额定功率

4KW

额定电压

AC 220V

最高温度

1200℃

使用温度

≤1100℃

炉管尺寸

异型管 Φ60*100*1200mm一根

炉管旋转速率

3~13r/min

热电偶类型

K型热电偶

控温精度

±1℃

控温方式

模糊PID控制和自动整定调节,智能化30段可编程控制,具有超温和断偶报警功能

射频功率范围

0-500W

加热长度

440mm

恒温长度

200mm

加热元件

电阻丝

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