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1100℃真空淬火炉 BTF-1100C-H
设备型号:BTF-1100C-H 设备简介:该设备为真空淬火炉,设备上端为进气端,下端为出气端。控制箱独立设计,设备外观结构简约稳重,操作直观方便。电气控制使用内置控温仪表,其采用智能PID控制和自动整定调节,高达30段可编程序控制。控温精度±1℃,带有超温、断偶,报警功能。炉膛使用氧化铝纤维材质,K型热电偶测温搭配优质电阻丝为加热原件,内部温场均匀。
1100℃真空淬火炉 BTF-1100C-H
设备型号:BTF-1100C-H 应用领域:广泛应用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门。
1100℃立式高温熔融炉 BTF-1100C-H-VT
设备型号:BTF-1100C-H-VT
1200℃小型立式管式炉 BTF-1200C-S-VT
设备型号:BTF-1200C-S-VT 设备简介:BTF-1200C-S-VT是一款通过CE认证的小型开启式立式管式炉,其炉管直径为25mm或50mm,最高工作温度为1200℃,额定功率为2KW。适合于对样品在真空或气氛保护环境下吊烧和淬火。
1200℃小型开启式立式管式炉 BTF-1200C-S-VT
设备型号:BTF-1200C-S-VT 设备简介:一款小型开启式立式管式炉,其炉管直径为25mm或50mm,适合于对样品在真空或气氛保护环境下吊烧和淬火。
1200℃小型立式滑轨炉 BTF-1200C-S-VT-SL
设备型号:BTF-1200C-S-VT-SL 设备简介:开启式立式真空管式炉炉体小巧,升温速度极快(最快可达到50℃/分钟),它不仅可以抽真空,也可以通气体保护。其结构使得拆装炉管方便,操作简捷,使用者可直接将密封腔体移出炉体,加快降温过程,透明石英管腔体可直观的看到样品烧结状态。 炉管工件横穿与进口电阻丝的炉膛,温场均匀,内外温差可控制在正负3度左右。是一款性价比极高的快速升降温炉。于法兰处向下样品吊烧,待炉体加热到目标温度后,通过电机带动炉体向下滑动到样品处。
1200℃单温区立式管式炉 BTF-1200C-VT
设备型号:BTF-1200C-VT 设备简介:BTF-1200C-VT是一款通过CE认证的单温区立式管式炉,其炉管管径最大能到100mm,最高工作温度为1200℃,额定功率为3KW。适合于对样品在真空或气氛保护环境下吊烧和淬火。
1200℃单温区立式炉 BTF-1200C-VT-100
设备型号:BTF-1200C-VT-100
1200℃带高温屏蔽功能立式管式炉 BTF-1200C-VT
设备型号:BTF-1200C-VT 设备简介:VT系列立式真空管式炉特殊设计的移管装置,可自动将炉管移出炉腔,方便更换炉管和取放物料,并能实现快速降温。这款设备的独特设计使得升温速率高达100℃/min,是一款实实在在的快速升降温炉。管内设计了微妙的气氛喷射器可将实验所需气氛直接喷射在物料处,有助于反应更充分,样品平放在内管上可以实现内管和外管同时通气体,平放的样品有助于薄膜生长,电极测试,温度更均匀。该设备也具有可作为氧化物晶体生长,退火等功能。
1200℃单温区立式管式炉 BTF-1200C-VT-150
设备型号:BTF-1200C-VT-150 设备简介:该设备为立式结构,可广泛用于材料的制备,退火等工艺要求。该炉具有使用温度高、高精度控温、操作简单、维修方便等优点。
1200℃定制立式炉 BTF-1200VT-200
设备型号:BTF-1200VT-200
1200℃双温区立式管式炉 BTF-1200C-VT-II
设备型号:BTF-1200C-VT-II 设备简介:该设备为立式结构,可广泛用于碳纳米线,碳纳米管等材料的制备等工艺要求。该炉具有使用温度高、高精度控温、操作简单、维修方便等优点。本设备可以和其他装置相连,使整个生产制备可实现连续性和规模化。
1200℃立式双温区管式炉 BTF-1200C-II-VT
设备型号:BTF-1200C-II-VT 设备简介:VT系列立式真空管式炉特炉管内设计了微妙的气氛喷射器可将实验所需气氛直接喷射在物料处,有助于反应更充分,样品平放在内管上可以实现内管和外管同时通气体,平放的样品有助于薄膜生长,电极测试,温度更均匀。该设备也具有可作为氧化物晶体生长,退火等功能。
1200℃三温区立式管式炉 BTF-1200C-VT-III-S
设备型号:BTF-1200C-III-S-VT 设备简介:BTF-1200C-VT-III-S是一款通过CE认证的三温区立式管式炉,该设备为立式结构,可广泛用于碳纳米线,碳纳米管等材料的制备等工艺要求。该炉具有使用温度高、高精度控温、操作简单、维修方便等优点。立式炉分为三段加热,每段可以独立控温,本设备可以和其他装置相连,使整个生产制备可实现连续性和规模化。
1200℃三温区立式管式炉 BTF-1200C-VT-III
设备型号:BTF-1200C-III-VT 设备简介:BTF-1200C-VT-III是一款通过CE认证的三温区立式管式炉,该设备为立式结构,可广泛用于碳纳米线,碳纳米管等材料的制备等工艺要求。该炉具有使用温度高、高精度控温、操作简单、维修方便等优点。立式炉分为三段加热,加热区为300+300+300mm,通过设置可获得超长恒温温区,本设备可以和其他装置相连,使整个生产制备可实现连续性和规模化。
1400℃真空淬火炉 BTF-1400C-BVT
设备型号:BTF-1400C-BVT 设备简介:BTF-1400C-BVT是一款立式真空淬火炉,配有一个密封的储液罐;可在真空或气氛环境下对各种样件进行淬火,从最高温度1400度快速落入冰水或油中,很大程度上减少了样件的氧化和形变,适用于各种金属样件的淬火。
1600℃立式管式炉 VTF-1600C
设备型号:VTF-1600C 设备简介:VT系列立式真空管式炉采用硅钼棒进行加热,专门设计针对于材料在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结,采用双层壳体结构,使得壳体表面温度小于65℃,高纯度氧化铝纤维作为炉膛保温材料,主要应用领域如碳纳米管生长,陶瓷烧结退火,单晶生长等。
1700℃立式管式炉 VTF-1700C
设备型号:VTF-1700C 设备简介:VTF-1700C是一款通过CE认证的高温立式管式炉,采用硅钼棒进行加热。专门设计针对于材料在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结,最高温度可以达到1700℃。温控系统方面,采用PID方式调节温度,可设置30段升降温程序,其控温精确度为+/-1℃。
1700℃三温区立式管炉 VTF-1700C-III
设备型号:VTF-1700C-III 设备简介:该款设备是我司新制的三温区立式管式炉,温区长750mm,分三段控温;设备加热数据集成到触摸屏显示操控;整机采用承重框架结合钣金包围形式。炉体和门板颜色采用时尚高光白。设备简约又不乏稳重,更具备操作直观方便、控温精确等性能。
1700℃高温立式炉 BTF-1700C-VT
设备型号:BTF-1700C-VT 设备简介:VT系列立式真空管式炉采用硅钼棒进行加热,专门设计针对于材料在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结,最高温度可以达1700℃,采用双层壳体结构,使得壳体表面温度小于60℃,高纯度氧化铝纤维作为炉膛保温材料,主要应用领域如碳纳米管生长,陶瓷烧结退火,单晶生长等。
升降双温区立式管式炉 VTF-1700C-SL-80-A
设备型号:VTF-1700C-SL-80-A 设备简介:该款设备是双温区立式管式炉(1400℃+1700℃),最高温度可以达1700度,采用双层壳体结构,使得壳体表面温度<65℃,高纯度氧化铝纤维作为炉膛保温材料,主要应用领域如碳纳米管生长,陶瓷烧结退火,单晶生长等。
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