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1200℃双温区CVD系统(低真空、高真空) BTF-1200C-II-CVD
设备型号:BTF-1200C-II-CVD 设备简介:此套设备是由1200℃双温区开启式管式炉、三路质量流量计及低真空系统组成,根据工艺要求亦可选配高真空系统。设备可以抽真空通气体保护。气动弹簧支撑结构使开启更加方便、简捷,使用者可直接将样品放到恒温区加热,在快速降温过程,透明石英管腔体可直观的看到样品烧结状态。法兰采用卡箍快捷接头,减去了取放料时的繁琐操作, 炉管工件横穿与上下各8组进口电阻丝的炉膛,温场均匀,内外温差可控制在3度左右。 应用领域:广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。
双温区滑轨式PECVD系统 PECVD-II-500A
设备型号:PECVD-II-500A 设备简介:本设备主要针对实验中试石墨烯生长和制备使用,同时该设备可以用于碳纳米管的生长。可制备出高质量的透明导电膜,用作手机触摸屏,平板电脑,智能穿戴,传感器等领域。 PECVD-II-500A高温真空炉加热腔体采用氧化铝纤维制品,其极低的热导率和比热容,保证了炉膛的快速升温和低蓄热,特别适合于科研单位的材料工艺研究。加热元件选用电阻丝加热,有利于炉内温度场的均匀分布。高温真空电阻炉温度控制系统采用经典的闭环负反馈控制系统,控温仪表选用智能型程序温度调节仪表控温,电力调制器控制;负载采用小电压大电流控制,从而大大提高了发热元件的寿命,测温元件采用K型热偶。采用单回路温控仪能够自整定PID 参数,无须操作人员的干预,可自行根据不同温度曲线的升、降温要求调整输出信号,同时系统设置了超温、欠温、断偶报警保护功能,大大降低了对操作人员经验的要求,关键电气元件采用优质的进口产品,做到高性能、免维护,提高了设备质量的可靠性。
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