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前端预热式CVD设备
前端预热法硫化钼制备设备
名称

前端预热法硫化钼制备设备
设备简介：前端配有可加热到400℃的预加热器，辅助硫粉蒸发，后端为双温区硫化炉，温度控制精确，操作简便。并配有气氛微调装置，可以准确的反应腔体内部的气体压力，带刻度的调节阀对于做低压CVD非常实用，重复性好。
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