真空气氛管式炉

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1100℃大口径真空气氛管式炉 BTF-1100C-III

1100℃大口径真空气氛管式炉 BTF-1100C-III

设备型号：BTF-1100C-III 设备简介:大口径真空气氛管式炉，管径大，恒温区长，温度精确，适用于多样品烧结或中试实验；在大石英管内可选加装内管，可做大面积单层石墨烯生长。 工艺应用：广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等领域，是一款性价比极高的设备。

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