单晶生长炉

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1600℃立式管式炉 VTF-1600C


设备型号:VTF-1600C 设备简介:VT系列立式真空管式炉采用硅钼棒进行加热,专门设计针对于材料在真空或多种气氛保护环境下进行烧结,采用双层壳体结构,使得壳体表面温度小于65℃,高纯度氧化铝陶瓷纤维作为炉膛保温材料。 应用领域:主要应用于碳纳米管生长,陶瓷烧结退火,单晶生长等。