800℃三温区回转炉 BTF-800C-III-R

设备型号：BTF-800C-III-R 设备简介：BTF-800C-III-R是一款通过CE认证的三温区回转管式炉，其最高工作温度为800℃，额定功率为12KW。该设备炉管可360度旋转，310S耐高温不锈钢炉管放置于炉体中间，炉管一端采用磁流体密封，炉管另一端采用卡箍连接旋转密封组件，方便物料出入及管内气压监测。炉管旋转过程中粉料能均匀搅拌不堆积，出料的过程中也能一个方向完全自动出料，没有滞留。 工艺应用：该设备专业应用于电池正负极材料、无强酸碱性粉体材料、颗粒状物料的实验室煅烧及干燥，用户可根据所要烧制的材料选择在真空下或气氛保护下进行烧制。

1100℃大口径石英管式炉 BTF-1100C-IIIA

设备型号：BTF-1100C-IIIA 设备简介：1100度大口径石英管式炉管径大，恒温区长，温度精确，适用于多样品烧结或中试实验；在大石英管内可选加装内管，可做大面积单层石墨烯生长；配备数控显示屏让操作更简单，更方便。 适用范围：该款广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等领域，是一款性价比极高的设备。

900℃迷你管式炉 BTF-900C-SS

设备型号：BTF-900C-SS 设备简介：该设备是一款小型迷你管式炉，加热炉膛材料氧化铝纤维，加热区长度90mm，最高温度可达900℃。设备配有高纯石英管，可抽真空和通保护性气氛；另外该设备体积小巧，加热炉膛和电控箱采用分体设计，用快插航空接头连接，方便拆卸，非常适用于实验室等科研场所使用。

1200℃单温区滑轨式快速升降温炉 BTF-1200C-SL

设备型号：BTF-1200C-SL 设备简介：BTF-1200C-SL单温区滑轨炉是根据开启式真空管式炉改装而来的，操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。这款设备不仅适用于石墨烯的生长实验，也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验。

1200℃双温区滑轨炉 BTF-1200C-II-SL

设备型号：BTF-1200C-II-SL 设备简介：BTF-1200C-II-SL温区滑轨炉是根据开启式真空管式炉改装而来的，操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。这款设备是专为生长石墨烯而研制的石墨烯生长专用炉，也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验。

1200℃三温区滑轨式快速升降温炉 BTF-1200C-III-SL

设备型号：BTF-1200C-III-SL 设备简介：BTF-1200C-III-SL温区滑轨炉是根据开启式真空管式炉改装而来的，操作时可将实验需要的恒定温场直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的温场直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到一个快速的降温速率。这款设备是专为生长二维材料而研制的二维材料生长专用炉，也同样适用于要求升降温速度比较快的实验。

滑轨式4英寸四温区管式炉 BTF-1200C-VB-SL-D100

设备型号：BTF-1200C-VB-SL-D100 设备简介：这是一款滑轨式4英寸管式炉。该设备主要包含4大部分：前端预热炉、四温区滑轨炉、压力控制系统、真空系统组成。

1700℃快速取样小型滑轨炉 BTF-1700C-SL

设备型号：BTF-1700C-SL 设备简介：BTF-1700C-S是一款通过CE认证的滑轨式高温管式炉，其最高工作温度为1700℃，额定功率为4KW。此款滑轨式高温管式炉广泛用于：真空或气氛烧结、基片镀膜等要求加热温度较高的实验环境。该设备技术成熟、质量可靠，温场均匀，结构合理，尺寸小巧，节能。周到的界面操作提示，使得设备的操作异常简单、方便;设备的各项技术参数，温度曲线更是一目了然，使得整个实验的运行状态尽在您的掌控之中，根据管径不同，法兰分为卡箍和折页两种密封方式，安装拆卸简便快捷。该设备的主要特点是样品可以通过滑轨自动划出，取放样品方便可靠，是各大材料实验室必备的理想设备之一。

1200℃四通道集成管式炉 BTF-1200C-S-4D

设备型号：BTF-1200C-S-4D 设备简介：BTF-1200C-S-4D是一款四通道集成管式炉设备。该设备主要分为上部可开启管式、中部封闭式管式炉以及智能工控操作系统。

1200℃真空密封坩埚移动管式炉

设备型号：BTF-1200C-III-D210 设备简介：该款设备是一款真空或气氛下坩埚可在炉管内移动小型开启式管式炉，最高温度1200℃，此设备可以进行材料退火处理、快速热处理，混合物理化学沉积，以及在各种气氛下进行的水平布里奇曼晶体生长等。

1700℃布里奇曼单晶生长炉（坩埚移动）

设备型号：VTF-1700C-SL 设备简介：这是一款坩埚下降法单晶体生长炉，双温区炉立式管式炉，最高温度可达1700℃。可应用于单晶生长、碳纳米管生长等。

智能型连续进出料CVD设备 BTF-1200C-III-3D-CVD-D210

设备型号：BTF-1200C-III-3D-CVD-D210 设备简介：此款定制智能型连续进出料CVD设备包含主要由七大部分，进料腔，大口径管式炉、出料腔、推拉机构、供气系统、真空系统、以及自动化控制软件组成。

高温真空退火CVD系统 BTF-1200C-VI-SL-CVD-D210

设备型号：BTF-1200C-VI-SL-CVD-D210 设备简介：这是一款定制退火管式炉。该设备主要由开启式加热炉、预热炉、气路系统、反应管系统、智能控制系统组成。

高温真空退火管式炉

设备型号：BTF-1200C-VI-SL-CVD-D210

公斤级回转炉 BTF-1200C-III-R-150

设备型号：BTF-1200C-III-R-150 设备简介：本设备集成了一台1200C的三温区管式炉，温区长：300*300*300和一台三温区预热炉，温区长：200*200*200；2路气体流量和通过蠕动泵控制的液体一起进入盘管中，通过三温区预热炉预热后导入右端法兰进气口；通过法兰内导液（气）管进入异形石英管反应区与储料罐通过送料机构送入的粉料混合参与反应；左右端配置水冷磁流体法兰；通过旋转异形石英管搅拌试验样品；出料取样通过电动推杆升起抬高设备平台，倾斜卸料；法兰左端（末端）配备过滤 冷凝装置，用于未参与反应的液体。设备同时配套真空泵和冷水机，通过触摸屏操控。

1200℃智能型PECVD系统 PECVD-III-500A-D210

设备型号：PECVD-III-500A-D210 设备简介：这是一款智能型PECVD系统。该设备主要分为四大部分：多温区管式炉、射频组件、气路系统、及自动化控制软件集成系统。