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连续生长型

名称

连续送料出料回转PECVD系统 BTF-1200C-R-PECVD-AD2

设备型号：BTF-1200C-R-PECVD-AD2 设备简介：BTF-1200C-R-PECVD-AD2设备是全自动Plasma增强PECVD系统，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以低压条件下进行实验，PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，有效的解决了传统等离子工作不稳定状态，该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-30°之间。

名称

连续进出料等离子体增强回转PECVD设备 BTF-1200C-RP-PECVD

设备型号：BTF-1200C-RP-PECVD 设备简介：该款设备是全自动Plasma增强CVD系统(PECVD)，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以低压条件下实现工艺，PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-35°之间，所有物料经过的管道都选用非金属材质，如：进出料腔体选用石英材质，推料杆选用石英及聚四氟材质。

名称

卷对卷连续生长PECVD设备 RTR-III-150

设备型号：RTR-III-150 设备简介：该设备为我司研发用于材料连续生长的专用设备，此款设备是快速冷却卷对卷CVD连续生长炉，它由高温生长腔体，质量流量计气路系统，真空机组，压力控制系统，射频控制系统、石英管，冷却装置，收放卷的密封装置，自动化控制系统组成，两端分别安装有进料进气真空腔室和出料排气真空腔室（即收放卷的密封装置），收放密封装置内分别对应安装有放卷滚轮和收卷滚轮，所输出料排气腔体与炉体之间安装有冷却装置。相对于现有技术具有快速冷却、连续生长的优点。