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1200℃连续送料出料回转PECVD系统 BTF-1200C-R-PECVD-AD2

设备型号:BTF-1200C-R-PECVD-AD2 设备简介:BTF-1200C-R-PECVD-AD2设备是全自动Plasma增强PECVD系统,连续可控温度以及Plasma强度等,配备真空系统,可以低压条件下进行实验,PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区,辉光相对均匀等效,有效的解决了传统等离子工作不稳定状态,该设备炉管可360°旋转,有助于粉料的烧结更均匀,可大角度倾斜,方便进出料,倾斜角度在0-30°之间。

关键词:

PECVD

回转PECVD

Plasma增强PECVD系统

粉料烧结

粉状碳包覆

石墨烯制备

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    · 加热系统:加热腔体采用氧化铝纤维制品,其极低的热导率和比热容,保证了炉膛的快速升温和低蓄热,该系统设置有超温、欠温、断偶报警保护功能,大大降低了对操作人员经验的要求。温区为单温区,温区长440mm,异形石英管规格采用Φ60*Φ100*1200

    · Plasma系统:本系统借助于辉光放电产生等离子体,辉光放电等离子体中,电子密度高,通过反应气态放电,有效利用了非平衡等离子体的反应特征,从根本上改变了反应体系的能量供给方式

    · 炉管转动系统:可以让炉管360°匀速转动,转速在0-20rpm连续可调

    · 搅拌转动系统:可以实现360°匀速转动,转速在0-30rpm连续可调

    · 炉管倾斜系统:可以大角度倾斜,方便进出料,倾斜角度在0-30°之间

    · 触屏操作系统:该系统可以让设备在自动模式下高度自动化运行,所有参数程序设定好后自动运行:可实现按照设定程序连续工作,可设置多工作段不同参数,并可进行某工作段循环工作及某程序循环工作

    · 进出料组件:进料端由进料罐+送料机构组成,出料端由收集罐+手动辅助升降组件组成

    · 进出气法兰组件:设备法兰左端为进气端,一侧配有截止阀控制的进气口,对接混气罐输出的气体。另一侧预留KF25接口。右端为出气端,一侧由球阀控制的出气口,另一侧为KF25抽口

    · 炉管及安全保护组件:炉管为异形石英管,通过左右两端磁流体密封法兰实现真空下的回转,设备左端法兰配有SMC安全保护组件

    · 真空系统:由一个PCG550真空计和一台DRV16机械泵组成,抽口端由KF25手动挡板阀控制

    · 场内小电流装置:设备左端为正极,由不锈钢杆和导电片组成;右端为负极,由不锈钢导电片固定在送料杆端头。正极配有外端接线棒

    加热系统

    · 额定电压:AC 220V,额定功率:4KW

    · 最高温度:1200℃

    · 使用温度:950~1000℃

    · 升温速率:≤20℃/min,建议10℃/min

    · 加热区长度:440mm,恒温区长度:200mm

    · 炉管规格:异形石英管,两端Φ60*420mm,中间Φ100*360mm,总长1200mm

    · 炉管旋转速率:0~20rpm

    · 搅拌旋转速率:0~30rpm

    · 炉体倾斜角度:0~35°(可调)

    · 加热元件:电阻丝

    · 热电偶类型:K型

      

    温控系统

    · 模糊PID控制和自整定调节

    · 智能化30段可编程控制

    · 具有超温和断偶报警功能

    · 控温精度:±1℃

    质保期

    · 一年质保,终身维护

    · 耗材部分如热电偶、密封圈、炉管等不包含在内

    · 因人为损坏/使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内

    注意事项

    · 炉管内气压不可高于0.02MPa(相对气压)

    · 对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉管破裂,法兰飞出等)

    · 如工艺原因需要使用易燃易爆和有毒气体,请自行做好相关防护和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒气体过程误操作而造成的相关问题,本公司概不负责

    · 随着使用时间的延长,炉膛表面可能会出现小裂纹,这是正常情况,裂纹可以用氧化铝涂层修复

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