石墨真空烧结炉

设备简介：此款设备采用石墨为加热体，可在真空或者惰性气氛下2000℃长期工作；可供功能陶瓷、光学材料、碳复合材料、硬质合金、粉末冶金等在高温条件下进行烧结处理，也可在充气保护情况下成型烧结。

高温石墨炉 GRF-2000C

设备型号：GRF-2000C 设备用途：广泛应用于功能陶瓷、光学材料、碳复合材料，硬质合金，粉末冶金等在高温下进行烧结处理，也可在充气保护情况下成型烧结。