粉状基底石墨烯生长设备_产品中心_安徽贝意克设备技术有限公司

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粉状基底石墨烯生长设备

名称

公斤级回转炉 BTF-1200C-III-R-150

设备型号：BTF-1200C-III-R-150 设备简介：本设备集成了一台1200C的三温区管式炉，温区长：300*300*300和一台三温区预热炉，温区长：200*200*200；2路气体流量和通过蠕动泵控制的液体一起进入盘管中，通过三温区预热炉预热后导入右端法兰进气口；通过法兰内导液（气）管进入异形石英管反应区与储料罐通过送料机构送入的粉料混合参与反应；左右端配置水冷磁流体法兰；通过旋转异形石英管搅拌试验样品；出料取样通过电动推杆升起抬高设备平台，倾斜卸料；法兰左端（末端）配备过滤冷凝装置，用于未参与反应的液体。设备同时配套真空泵和冷水机，通过触摸屏操控。

名称

连续送料出料回转PECVD系统 BTF-1200C-R-PECVD-AD2

设备型号：BTF-1200C-R-PECVD-AD2 设备简介：BTF-1200C-R-PECVD-AD2设备是全自动Plasma增强PECVD系统，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以低压条件下进行实验，PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，有效的解决了传统等离子工作不稳定状态，该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-30°之间。

名称

回转放气炉 BTF-700C-III-R

设备型号：BTF-700C-III-R 设备简介：本设备加热炉采用电阻丝加热，技术成熟质量可靠，温场均匀。炉管内部带粉尘挡板，两端为磁流体旋转密封，炉管整体由伺服电机驱动在加热炉膛内旋转，转速可调。气体缓冲罐，设计容量600L设置压力泄放安全装置。缓冲罐接口开关控制全部为PLC智能电动控制。高真空机组使用罗茨泵机组带粉尘过滤器，抽速300L/S，真空度≤10pa，设置有粗真空旁抽管路，安全保护程序。广泛应用于电池正负极材料、无强酸碱性粉体材料、颗粒状物料等。

名称

多功能回转CVD系统 BTF-1400C-II-OP-R

设备型号：BTF-1400C-II-OP-R

名称

回转CVD系统 BTF-1200C-III-R-CVD-150

设备型号：BTF-1200C-III-R-CVD-150

名称

1200℃连续进出料回转CVD系统 BTF-1200C-RB-D-CVD

设备型号：BTF-1200C-RB-D-CVD 设备简介：该款CVD设备配备加热系统、进料系统、出料系统、触摸屏控制系统、气路系统、真空系统、平台升降装置等；该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-25°之间；真空系统由一个PCG550真空计和一台DRV-16机械泵组成，右端法兰上配有压力保护装置和一个截止阀控制的进气口；同时右端作为进料端，配有进料罐和送料机构作为进料使用；左端法兰上配有PCG550真空计和一个球阀控制的出气口以及一个KF25真空接口；同时左端作为出料端，配有出料系统和收料罐。设备用途：广泛应用于电池正负极材料，无强酸碱性粉体材料，颗粒状物料等。

名称

小型回转PECVD系统 BTF-1200C-R-S-PECVD

设备型号：BTF-1200C-R-S-PECVD 设备简介：BTF-1200C-R-S-PECVD是一款小型回转PECVD，该设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀；可左右大角度倾斜，方便出放料，倾斜角度在0~35°之间；该款设备是全自动Plasma增强CVD系统(PECVD)，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以实现低压条件下的实验，针对低温石墨烯、碳纳米管生长等。PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆积现象；本款设备可以做金属复合石墨烯材料，是目前最高端的金属复合材料制备设备。

名称

自动进料回转CVD系统 BTF-1200C-R-CVD

型号：BTF-1200C-R-CVD

名称

回转PECVD BTF-1200C-R-PECVD

设备型号：BTF-1200C-R-PECVD 设备简介：本款设备可以做金属复合石墨烯材料，是目前最高端的金属复合材料制备设备。可以用于动力电池，提升电池内阻和能量密度，有效解决新能源汽车电池的问题。设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀；可左右大角度倾斜，方便出放料，倾斜角度在0~35°之间。全自动Plasma增强CVD系统(PECVD)，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以实现低压条件下的实验，针对低温石墨烯、碳纳米管生长等。PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆积现象。

名称

等离子体增强回转PECVD系统 BTF-1200C-R-PECVD

设备型号：BTF-1200C-R-PECVD 设备简介：我司研制的回转PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆积现象；该款设备选用特殊形状(两头细中间粗)的石英管作为化学气相沉积的反应室;加热的同时炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉体材料翻炒有助于烧结得更均匀;而且炉体可左右大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0~35°可调。设备应用：此款设备现广泛应用于低温石墨烯制备实验、粉体材料碳包覆实验。

名称

连续回转PECVD系统 BTF-1200C-RP-PECVD

设备型号：BTF-1200C-RP-PECVD 设备简介：连续回转PECVD系统BTF-1200C-RP-PECVD是全自动Plasma增强CVD系统(PECVD)，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以低压条件下实现工艺，PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-35°之间，所有物料经过的管道都选用非金属材质，如：进出料腔体选用石英材质，推料杆选用石英及聚四氟材质。