粉状基底石墨烯生长设备_产品中心_安徽贝意克设备技术有限公司

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我与贝意克的故事---人物专访

最新：ESI大学及材料学科排行榜发布！

近日，科睿唯安公布了ESI最新统计数据。ESI收录了12000多种学术期刊上发表的SCIE和SSCI近十年发表的论文和被引数据，具有广泛的代表性，已经被全球普遍认可。
中国大陆一共418所高校有学科进入全球前1%，其中新增9所，无退出。新增高校为：西南民族大学、上海纽约大学、江苏海洋大学、宁波工程学院、天津大学-新加坡国立大学福州联合学院、陕西中医药大学、湖南工程学院、湖北经济学院、山东工商学院。

展会邀约 | 贝意克与您相约2023中国国际先进陶瓷展览会

2023中国国际粉末冶金、硬质合金与先进陶瓷展览会将于2023年5月31日至6月2日在上海世博展览馆H1&H2举行。作为我国材料装备行业标杆企业的贝意克设备也将携旗下产品参加此次展会，展位号E662，欢迎各界朋友莅临展位参观洽谈。

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粉状基底石墨烯生长设备

名称

小型回转PECVD系统 BTF-1200C-R-S-PECVD

设备型号：BTF-1200C-R-S-PECVD 设备简介：BTF-1200C-R-S-PECVD是一款小型回转PECVD，该设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀；可左右大角度倾斜，方便出放料，倾斜角度在0~35°之间；该款设备是全自动Plasma增强CVD系统(PECVD)，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以实现低压条件下的实验，针对低温石墨烯、碳纳米管生长等。PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆积现象；本款设备可以做金属复合石墨烯材料，是目前最高端的金属复合材料制备设备。

名称

自动进料回转CVD系统 BTF-1200C-R-CVD

型号：BTF-1200C-R-CVD

名称

回转PECVD BTF-1200C-R-PECVD

设备型号：BTF-1200C-R-PECVD 设备简介：本款设备可以做金属复合石墨烯材料，是目前最高端的金属复合材料制备设备。可以用于动力电池，提升电池内阻和能量密度，有效解决新能源汽车电池的问题。设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀；可左右大角度倾斜，方便出放料，倾斜角度在0~35°之间。全自动Plasma增强CVD系统(PECVD)，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以实现低压条件下的实验，针对低温石墨烯、碳纳米管生长等。PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆积现象。

名称

等离子体增强回转PECVD系统 BTF-1200C-R-PECVD

设备型号：BTF-1200C-R-PECVD 设备简介：我司研制的回转PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆积现象；该款设备选用特殊形状(两头细中间粗)的石英管作为化学气相沉积的反应室;加热的同时炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉体材料翻炒有助于烧结得更均匀;而且炉体可左右大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0~35°可调。设备应用：此款设备现广泛应用于低温石墨烯制备实验、粉体材料碳包覆实验。

名称

连续回转PECVD系统 BTF-1200C-RP-PECVD

设备型号：BTF-1200C-RP-PECVD 设备简介：连续回转PECVD系统BTF-1200C-RP-PECVD是全自动Plasma增强CVD系统(PECVD)，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以低压条件下实现工艺，PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-35°之间，所有物料经过的管道都选用非金属材质，如：进出料腔体选用石英材质，推料杆选用石英及聚四氟材质。