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1200℃双独立温区滑轨炉CVD设备(可用于生长硫化钼)BTF-1200C-II-SSL-CVD

设备型号:BTF-1200C-II-SSL-CVD

关键词:

CVD

低真空CVD

硫化钼生长制备

双温区

双独立温区滑轨炉

所属分类:

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  • 主要特点

    · 此款设备提供两个独立滑动的温场,两温场独立控制,每个温场的加热区的长度为230mm,可在实验过程中推进或推离样品,提供两个位置的快升降温

    · 纵向多接口真空法兰设计,各种附加接口具有高度可扩展性。航空铝合金法兰支架外形美观,轻便坚固耐腐蚀,安装调节简便易学。避免传统钣金法兰支架的安装调节不便,在安装多种附件时容易导致法兰偏斜漏气甚至石英管意外破碎的情况

    · 同时法兰端采用卡箍密封,这样就使进料出料更加的方便

    · 采用触摸屏和工控电脑自动控制,参数设置和操作直观方便,参数自动记录保持

    · 进气系统可以按照客户的实验需求配置几路质量流量计,流量计的量程也可以选择不同的配置,真空系统也可以根据客户的需求选择配置各种真空泵

    主要参数

    · 电压:AC 220V 50Hz,额定功率:4KW

    · 最高温度:1200℃

    · 工作温度:≤1100℃

    · 升温速率:20℃/min

    · 加热区长度:230+230mm,恒温区长度:80+80mm

    · 加热元件:电阻丝

    加热炉

    · 保温材料:采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料

    · 炉门结构:开启式

    · 炉管规格:高纯石英管 外径Φ25/50mm(管径可选)

    温控系统

    · 模糊PID控制和自整定调节

    · 智能化30段可编程控制,客户可根据不同的需求来设定升降温程序

    · 具有超温和断偶报警功能

    · 控温精度:±1℃

    供气系统

    · 标准量程(N2):100sccm、200sccm、500sccm(可根据用户需求定制)

    · 准确度:±1.5%

    · 线性:±0.5~1.5%

    · 重复精度:±0.2%

    · 响应时间:气特性:1~4Sec,电特性:10Sec

    · 工作压差范围:0.1~0.5MPa

    · 最大压力:3MPa

    · 连接头类型:双卡套不锈钢接头Φ6

    低真空系统

    · 电源:220V±10%V 50~60Hz,电机功率:1KW

    · 空气相对湿度:≤85%

    · 抽气速率:4L/s

    · 极限真空度:4x10-2Pa

    · 实验真空度:1.0X10-1Pa

    质保期

    · 一年质保,终身维护

    · 耗材部分如热电偶、密封圈、炉管等不包含在内

    · 因人为损坏/使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内

    注意事项

    · 管内气压不可高于0.02MPa(相对气压)

    · 对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉管破裂,法兰飞出等)

    · 如工艺原因需要使用易燃易爆和有毒气体,请自行做好相关防护和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒气体过程误操作而造成的相关问题,本公司概不负责

    · 随着使用时间的延长,炉膛可能会出现小裂纹,这是正常情况,裂纹可以用氧化铝涂层修复

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