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BTF-1200C-Ⅲ-S-400C-D 前端预热法硫化钼制备CVD设备
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产品名称

BTF-1200C-Ⅲ-S-400C-D 前端预热法硫化钼制备CVD设备

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产品描述
产品参数

一、设备特点

前端预热法硫化钼制备CVD设备由预热炉、三温区管式炉、低真空机组和供气系统组成。

前端配有可加热到500℃的预加热器,辅助硫粉蒸发,后端为三温区硫化炉,温度控制精确,操作简便。同时搭配三路质量流量计系统,可以精确控制实验所需的气体流量,低真空机组可以满足抽真空的需求。

 

二、技术参数

系统热场Φ80mm

 主要特点:

 1、可通气氛抽真空,其开启式结构使得拆装炉管方便,操作简捷,使用者可直接将密封腔体移出炉体,加快降温过程;

 2、根据管径不同,法兰分为卡箍和折页两种密封方式,安装拆卸简便快捷,减去了取放料时的繁琐操作

 3、炉管工件横穿与上下各6组进口电阻丝的炉膛,温场均匀,内外温差可控制在3度左右;

 4、体积小,性价比高。

    该设备广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。

 5、法兰进气端装有两个进气口和截止阀。

 

 前端预热设备指标

 前端预热器在二硫化钼实验中,可对硫,磷等固态源进行加热蒸发。

 型号:BTF-500C

 工作温度:500℃

 最高温度:800℃

 最快升温速率:30℃/min

 推荐升温速率:10℃/min

 控温方式:智能化30段可编程控制

 工作电压:AC220 V

 额定功率:800W

 控温精度:±1℃

 加热元件:电阻丝

 

 反应腔体指标:

 额定功率:7KW

 额定电压:AC 208-240V Single Phase50/60 Hz

 最高温度:1200

 持续工作温度≤1100

 推荐升温速率:15/min

系统热场 Φ80mm

炉管尺寸:高纯石英管Φ80mm

加热区长度:200+200+200mm

恒温区长度:300mm

控温方式:模糊PID控制和自整定调节,智能化30段可编程控制,具有超温和断偶报警功能。

 加热元件:电阻丝
供气系统(3路)

主要特点:

该供气系统是一种可控制三种气体按不同流量进行混合配比,也可根据实验需求加装洗气装置,质量流量计安装于密封的可移动机柜内,由超洁双抛不锈钢管与精密双卡套接头连接组成。触摸屏控制,此款设备与各款真空管式炉和真空机组组成CVD系统。

 

技术参数:

工作电压:185~245V50 Hz

最大输出功率:18W

进出气:3路进气,2路出气。其中2路气体经过质量流量计进入混气罐混合后输出,1路气体进入质量流量计后单独输出。

流量计标准:MFC1MFC2ArO2;

MFC3Ar

量程可选,根据需求定制

工作温度:4~45

工作压差:0.1~0.5Mpa

最大压力:3Mpa

准确度:±1.5%F.S

压力表测量范围:-0.1~0.15 MPa0.01 MPa/grid

混气罐:Φ80*120mm

截止阀:Φ6mm

 尺寸:600*600*650mm
低真空机组

 设备特点:

 VAU-02是一套低真空机组,内部安装机械泵1台,复合真空计1套,含有配套使用的波纹管,手动挡板阀,卡箍等连接部件。

 

 技术参数:

 1、技术参数:

 空气相对湿度≤85%

 工作电电压:220V±10% 50~60HZ

 功率:1千瓦

 抽气速率:10m3/h

 极限真空:4X10-2Pa

 实验真空度:1.0X10-1Pa

 容油量:1.1L

 进气口口径:KF25

 排气口口径:KF25

 转速:1450rpm

 噪音:50dB

外型尺寸:600×600×650m

2、真空计参数:

型号:PPG-800K

适用范围:适合于各类气体或甚至于混合气体的场合

测量范围:1.0×10-3~1.33×105Pa

测量精度:1.33×102~1.33×105Pa ±0.15%的满量程

安装方向:任意无限制

电源电压:18~30VDC

电源功率:1.4W(开机时2W

外型尺寸(含规管):48×30×6893mm

 

尾气处理系统  双级尾气处理气体,前级做一个液封安全瓶,后期为NaOH溶剂吸收 瓶。瓶体为304不锈钢材质,内喷四氟。

 

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