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一、设备特点
前端预热法硫化钼制备CVD设备由预热炉、三温区管式炉、低真空机组和供气系统组成。
前端配有可加热到500℃的预加热器,辅助硫粉蒸发,后端为三温区硫化炉,温度控制精确,操作简便。同时搭配三路质量流量计系统,可以精确控制实验所需的气体流量,低真空机组可以满足抽真空的需求。
二、技术参数
系统热场Φ80mm |
主要特点: 1、可通气氛抽真空,其开启式结构使得拆装炉管方便,操作简捷,使用者可直接将密封腔体移出炉体,加快降温过程; 2、根据管径不同,法兰分为卡箍和折页两种密封方式,安装拆卸简便快捷,减去了取放料时的繁琐操作 3、炉管工件横穿与上下各6组进口电阻丝的炉膛,温场均匀,内外温差可控制在3度左右; 4、体积小,性价比高。 该设备广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。 5、法兰进气端装有两个进气口和截止阀。
前端预热设备指标: 前端预热器在二硫化钼实验中,可对硫,磷等固态源进行加热蒸发。 型号:BTF-500C 工作温度:500℃ 最高温度:800℃ 最快升温速率:30℃/min 推荐升温速率:10℃/min 控温方式:智能化30段可编程控制 工作电压:AC220 V 额定功率:800W 控温精度:±1℃ 加热元件:电阻丝
反应腔体指标: 额定功率:7KW 额定电压:AC 208-240V Single Phase,50/60 Hz 最高温度:1200℃ 持续工作温度≤1100℃ 推荐升温速率:15℃/min |
系统热场 Φ80mm |
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供气系统(3路) |
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低真空机组 |
设备特点: VAU-02是一套低真空机组,内部安装机械泵1台,复合真空计1套,并含有配套使用的波纹管,手动挡板阀,卡箍等连接部件。
技术参数: 1、技术参数: 空气相对湿度≤85% 工作电电压:220V±10% 50~60HZ 功率:1千瓦 抽气速率:10m3/h 极限真空:4X10-2Pa 实验真空度:1.0X10-1Pa 容油量:1.1L 进气口口径:KF25 排气口口径:KF25 转速:1450rpm 噪音:50dB
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尾气处理系统 | 双级尾气处理气体,前级做一个液封安全瓶,后期为NaOH溶剂吸收 瓶。瓶体为304不锈钢材质,内喷四氟。 |