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一、设备特点
前端预热法硫化钼制备CVD设备由预热炉、三温区管式炉、低真空机组和供气系统组成。
前端配有可加热到500℃的预加热器，辅助硫粉蒸发，后端为三温区硫化炉，温度控制精确，操作简便。同时搭配三路质量流量计系统，可以精确控制实验所需的气体流量，低真空机组可以满足抽真空的需求。
二、技术参数
| 系统热场Φ80mm |
主要特点： 1、可通气氛抽真空，其开启式结构使得拆装炉管方便，操作简捷，使用者可直接将密封腔体移出炉体，加快降温过程； 2、根据管径不同，法兰分为卡箍和折页两种密封方式，安装拆卸简便快捷，减去了取放料时的繁琐操作 3、炉管工件横穿与上下各6组进口电阻丝的炉膛，温场均匀，内外温差可控制在3度左右； 4、体积小，性价比高。 该设备广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。 5、法兰进气端装有两个进气口和截止阀。
前端预热设备指标： 前端预热器在二硫化钼实验中，可对硫，磷等固态源进行加热蒸发。 型号：BTF-500C 工作温度：500℃ 最高温度：800℃ 最快升温速率：30℃/min 推荐升温速率：10℃/min 控温方式：智能化30段可编程控制 工作电压：AC220 V 额定功率：800W 控温精度：±1℃ 加热元件：电阻丝
反应腔体指标： 额定功率：7KW 额定电压：AC 208-240V Single Phase，50/60 Hz 最高温度：1200℃ 持续工作温度≤1100℃ 推荐升温速率：15℃/min |
| 系统热场 Φ80mm |
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| 供气系统（3路） |
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| 低真空机组 |
设备特点： VAU-02是一套低真空机组，内部安装机械泵1台，复合真空计1套，并含有配套使用的波纹管，手动挡板阀，卡箍等连接部件。
技术参数： 1、技术参数： 空气相对湿度≤85% 工作电电压：220V±10% 50~60HZ 功率：1千瓦 抽气速率：10m3/h 极限真空：4X10-2Pa 实验真空度：1.0X10-1Pa 容油量：1.1L 进气口口径：KF25 排气口口径：KF25 转速：1450rpm 噪音：50dB
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| 尾气处理系统 | 双级尾气处理气体，前级做一个液封安全瓶，后期为NaOH溶剂吸收 瓶。瓶体为304不锈钢材质，内喷四氟。 |