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1200℃前端预热法硫化钼制备CVD设备 BTF-1200C-Ⅲ-S-400C-D
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产品名称

1200℃前端预热法硫化钼制备CVD设备 BTF-1200C-Ⅲ-S-400C-D

设备型号:BTF-1200C-Ⅲ-S-400C-D 设备简介:前端预热法硫化钼制备CVD设备由预热炉、三温区管式炉、低真空机组和供气系统组成。前端配有可加热到500℃的预加热器,辅助硫粉蒸发,后端为三温区硫化炉,温度控制精确,操作简便。同时搭配三路质量流量计系统,可以精确控制实验所需的气体流量,低真空机组可以满足抽真空的需求。
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产品描述
产品参数

预热系统

前端预热器在二硫化钼实验中,可对硫,磷等固态源进行加热蒸发

型号

BTF-500C

工作温度

500℃

最高温度

800℃

最快升温速率

30℃/min

推荐升温速率

10℃/min

控温方式

智能化30段可编程控制

工作电压

AC 220V

额定功率

800W

控温精度

±1℃

加热元件

电阻丝

加热系统

额定功率

7KW

额定电压

AC 208-240V Single Phase,50/60 Hz

最高温度

1200℃

持续工作温度

≤1100℃

推荐升温速率

15℃/min

炉管尺寸

高纯石英管Φ80mm

加热区长度

200+200+200mm

恒温区长度

300mm

控温方式

模糊PID控制和自整定调节,智能化30段可编程控制,具有超温和断偶报警功能

加热元件

电阻丝

供气系统(3路)

该供气系统是一种可控制三种气体按不同流量进行混合配比,也可根据实验需求加装洗气装置,质量流量计安装于密封的可移动机柜内,由超洁双抛不锈钢管与精密双卡套接头连接组成。触摸屏控制,此款设备与各款真空管式炉和真空机组组成CVD系统。

工作电压

185~245V,50 Hz

最大输出功率

18W

进出气

3路进气,2路出气

其中2路气体经过质量流量计进入混气罐混合后输出,1路气体进入质量流量计后单独输出

流量计标准

MFC1、MFC2:Ar、O2;MFC3:Ar

(量程可选,根据需求定制)

工作温度

4~45℃

工作压差

0.1~0.5Mpa

最大压力

3Mpa

准确度

±1.5%F.S

压力表测量范围

-0.1~0.15 MPa(0.01 MPa/grid)

混气罐

Φ80*120mm

截止阀

Φ6mm

尺寸

600*600*650mm

低真空机组

VAU-02是一套低真空机组,内部安装机械泵1台,复合真空计1套,并含有配套使用的波纹管,手动挡板阀,卡箍等连接部件。

空气相对湿度

≤85%

工作电电压

220V±10% 50~60HZ

功率

1千瓦

抽气速率

10m3/h

极限真空

4X10-2Pa

实验真空度

1.0X10-1Pa

容油量

1.1L

进气口口径

KF25

排气口口径

KF25

转速

1450rpm

噪音

50dB

外型尺寸

600×600×650m

真空计参数

型号

PPG-800K

适用范围

适合于各类气体或甚至于混合气体的场合

测量范围

1.0×10-3~1.33×105Pa

测量精度

1.33×102~1.33×105Pa ±0.15%的满量程

安装方向

任意无限制

电源电压

18~30VDC

电源功率

1.4W(开机时2W)

外型尺寸(含规管)

48×30×68(93)mm

尾气处理系统

双级尾气处理气体,前级做一个液封安全瓶,后期为NaOH溶剂吸收 瓶。瓶体为304不锈钢材质,内喷四氟。

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