设备型号:BTF-1200C-II-CVD 设备简介:此套设备是由1200℃双温区开启式管式炉、三路质量流量计及低真空系统组成,根据工艺要求亦可选配高真空系统。设备可以抽真空通气体保护。气动弹簧支撑结构使开启更加方便、简捷,使用者可直接将样品放到恒温区加热,在快速降温过程,透明石英管腔体可直观的看到样品烧结状态。法兰采用卡箍快捷接头,减去了取放料时的繁琐操作, 炉管工件横穿与上下各8组进口电阻丝的炉膛,温场均匀,内外温差可控制在3度左右。 应用领域:广泛应用在半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。
设备型号:BTF-1200C-II-SL-CVD 设备简介:此款CVD系统前端配有可加热到400℃的预加热器,辅助二维材料蒸发,后端为双温区管式炉,温度控制精确,操作简便。并配质量流量计系统和真空系统,可以准确的反应腔体内部的气体压力和气体流量,对于做低压CVD实验非常实用,重复性好。