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1200℃双炉膛滑动CVD控制系统 BTF-1200C-II-SL-210

设备型号:BTF-1200C-II-SL-210 设备简介:该设备为二维材料生长炉,可快速推炉到样品区,实现快速升温沉积,沉积后快速拉离,实现快速冷却,抑制缺陷,提升石墨烯质量。

关键词:

CVD

滑轨式CVD

双炉膛CVD

石墨烯生长

所属分类:

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  • 主要特点

    · 滑轨式快速升温炉是专为生长石墨烯研制的石墨烯生长专用炉,也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验

    · 这款设备操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处,使样品能得到一个快速的升温速度,同样也可将高温的管式炉直接推离样品处,使样品直接暴露在室温环境下,得到快速的降温速率

    · 此款设备提供两个独立滑动的温场,两温场独立控制,可在实验过程中推进或推离样品,提供两个位置的快升降温

    · 真空和设备采用模块化设计,便于维护保养

    · 采用触摸屏和工控电脑自动控制,参数设置和操作直观方便,参数自动记录保持

    主要参数

    · 额定电压:AC 220-380V 50/60Hz,额定功率:16KW

    · 最高温度:1200℃

    · 持续工作温度:≤1100℃

    · 最大升/降温速率:≤20℃/s

    · 加热区长度:500+500mm,恒温区长度:200+200mm

    · 加热元件:电阻丝(掺钼铁铬铝合金)

    炉管&法兰

    · 炉管规格:高纯石英管 Φ210 x 2000mm

    · 可使用两个管堵阻挡管中心产生的热辐射,须在加热前塞进炉膛的正确位置(石英或氧化铝管堵可选)

    · 真空法兰:两端为KF25/16快速卡箍法兰

    温控系统

    · 触摸屏控制加PLC控制和和模糊PID自整定调节

    · 智能化30段可编程控制

    · 具有超温和断偶报警功能

    · 控温精度:±1℃

    真空压力

    · 机械泵可达0.5Pa

    · 分子泵可达10-4Pa

    尺寸&重量

    · 炉体尺寸:2700*1500*1650mm(长*宽*高  不含炉管和法兰)

    · 设备净重:约580kg

    质保期

    · 一年质保,终身维护

    · 耗材部分如热电偶、密封圈、炉管等不包含在内

    · 因人为使用不当或使用腐蚀性气体、酸性气体造成的相关问题不在保修范围内

    注意事项

    · 管内气压不可高于0.02MPa(相对气压)

    · 由于气瓶内部气压较高,所以向石英管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀。为了确保安全,减压后压力在0.2~0.4MPa,减压后的气体须经过流量计控制流量进入炉管

    · 对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉管破裂,法兰飞出等)

    · 如工艺原因需要使用易燃易爆和有毒气体,请自行做好相关防护和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒气体过程误操作而造成的相关问题,本公司概不负责

    · 随着使用时间的延长,炉膛可能会出现小裂纹,这是正常情况,裂纹可以用高纯氧化铝修复涂料修复

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