工艺定制CVD系统_产品中心_安徽贝意克设备技术有限公司

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工艺定制CVD系统

名称

定制热解设备 BTF-1200C-III-CVD-D60

设备型号：BTF-1200C-III-CVD-D60

名称

高真空CVD系统及原位监测系统 BTF-1200C-VI-CVD-G

设备型号：BTF-1200C-VI-CVD-G 设备简介：该款设备集成了一台六温区管式炉，温区长：200*200*200*200*200*200。左右侧法兰都配有3个由截止阀控制的进气口，以及1个球阀控制的出气口，可左右切换；左侧法兰上方配有压力传感器和电磁阀控制；左侧法兰配有测温组件和观察窗组件分别使用，观察组件可通过红外枪测温。右侧法兰垂直对接高真空系统，插板阀控制通过冷井对接真空泵组。CVD实验时通过单独的机械泵配置使用；右侧法兰配备过渡仓，方便实验过程中的取放样，同时最右端配备测温组件和观察窗组件分别使用；设备整机采用框架和钣金结构，稳固牢靠，涂色采用橘纹白搭配深灰，简洁美观。

名称

智能型CVD系统 BTF-1400C-OP-4ZL-CVD

名称

智能型连续进出料CVD设备 BTF-1200C-III-3D-CVD-D210

设备型号：BTF-1200C-III-3D-CVD-D210 设备简介：此款定制智能型连续进出料CVD设备包含主要由七大部分，进料腔，大口径管式炉、出料腔、推拉机构、供气系统、真空系统、以及自动化控制软件组成。

名称

高温真空退火CVD系统 BTF-1200C-VI-SL-CVD-D210

设备型号：BTF-1200C-VI-SL-CVD-D210 设备简介：这是一款定制退火管式炉。该设备主要由开启式加热炉、预热炉、气路系统、反应管系统、智能控制系统组成。

名称

小型浮动催化系统 BST-1400C-CVD

名称

回转放气炉 BTF-700C-III-R

设备型号：BTF-700C-III-R 设备简介：本设备加热炉采用电阻丝加热，技术成熟质量可靠，温场均匀。炉管内部带粉尘挡板，两端为磁流体旋转密封，炉管整体由伺服电机驱动在加热炉膛内旋转，转速可调。气体缓冲罐，设计容量600L设置压力泄放安全装置。缓冲罐接口开关控制全部为PLC智能电动控制。高真空机组使用罗茨泵机组带粉尘过滤器，抽速300L/S，真空度≤10pa，设置有粗真空旁抽管路，安全保护程序。广泛应用于电池正负极材料、无强酸碱性粉体材料、颗粒状物料等。

名称

间歇式CVD回转炉 BTF-1200C-III-150-CVD

设备型号：BTF-1200C-III-150-CVD

名称

小型浮动催化系统 BTF-1500C-CVD

设备型号：BTF-1500C-CVD

名称

多功能回转CVD系统 BTF-1400C-II-OP-R

设备型号：BTF-1400C-II-OP-R

名称

等离子增加化学气相沉积系统 BTF-1200C-SL-A

设备型号：BTF-1200C-SL-A 设备简介：BTF-1200C-SL-A是一款新型智能型滑轨CVD系统。本设备集真空系统、供气流量系统、自动推进、加热于一体，并将所有控制集成于触屏操控界面之中，使设备更加智能化，便于使用者操作。温度范围宽：100-1200度可调，加热区域长度：1650mm。适用范围宽:金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，连续生长各种薄膜等。

名称

回转CVD系统 BTF-1200C-III-R-CVD-150

设备型号：BTF-1200C-III-R-CVD-150

名称

流化床系统 BST-1200C-CVD

设备型号：BST-1200C-CVD

名称

1200℃连续进出料回转CVD系统 BTF-1200C-RB-D-CVD

设备型号：BTF-1200C-RB-D-CVD 设备简介：该款CVD设备配备加热系统、进料系统、出料系统、触摸屏控制系统、气路系统、真空系统、平台升降装置等；该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-25°之间；真空系统由一个PCG550真空计和一台DRV-16机械泵组成，右端法兰上配有压力保护装置和一个截止阀控制的进气口；同时右端作为进料端，配有进料罐和送料机构作为进料使用；左端法兰上配有PCG550真空计和一个球阀控制的出气口以及一个KF25真空接口；同时左端作为出料端，配有出料系统和收料罐。设备用途：广泛应用于电池正负极材料，无强酸碱性粉体材料，颗粒状物料等。

名称

1600℃多源高温CVD系统 BTF-1600C-CVD-D2

设备型号：BTF-1600C-CVD-D2 设备简介：这是一台非标定制的多源高温CVD系统。本设备按客户要求加装刚玉管一支，加热炉，循环泵、排风系统、机架等。电气控制采用内置控温仪表，其控温精准且操作直观简便。仪表采用国内著名品牌，质量精确可靠。炉管为刚玉管，外径￠60m，长度1000mm。炉管横放固定于炉膛内。左端法兰为进气端，配有压力保护组件和2个进气口，其中一路由截止阀控制，为进混气；另外一路为环硼氮烷，通过电磁阀+单向阀控制；右端法兰为出气端，配有蝶阀控制的压力控制系统和真空泵组成，法兰前端配有搅拌机构，对于尾端沉积物料具有清理作用，同时配有过滤组件。设备进气端液态源蒸发组件制冷制热由循环泵工作，通过循环泵工作，以及管道保温及腔体保温隔绝等方法实现低温、高温下的切换。液态源密封腔室和加热炉密封腔室，均通过PVC管道连接至腔室顶部，通过管道风机与客户排风系统对接。本设备采用承重框架结合钣金包围形式。炉体和门板颜色采用深灰+时尚橘纹白。设备简约又不乏稳重，更具备操作直观方便、控温精确等性能。

名称

1200℃前端预热法硫化钼制备CVD设备 BTF-1200C-Ⅲ-S-400C-D

设备型号：BTF-1200C-Ⅲ-S-400C-D 设备简介：前端预热法硫化钼制备CVD设备由预热炉、三温区管式炉、低真空机组和供气系统组成。前端配有可加热到500℃的预加热器，辅助硫粉蒸发，后端为三温区硫化炉，温度控制精确，操作简便。同时搭配三路质量流量计系统，可以精确控制实验所需的气体流量，低真空机组可以满足抽真空的需求。

名称

1200℃连续进出料回转CVD生长设备 BTF-1200C-II-R-CVD

设备型号：BTF-1200C-II-R-CVD

名称

1200℃双炉膛滑动CVD控制系统 BTF-1200C-II-SL-210

设备型号：BTF-1200C-II-SL-210

名称

流化床—粉体碳纳米管生长设备

设备简介：流化床—化学气相沉积法可控及批量制备碳纳米管设备，该设备包括有：自动加液装置、超声波雾化发生装置、气体供应装置、气体流量控制装置、三温区流化床反应器及加热装置、旋风分离器、固体收集装置、净化处理装置。气体供应装置出气口在经过气体流量控制装置后与超声波雾化装置进气口相连接，自动加液装置出液口与超声波雾化发生装置进液口相连接，通过雾化装置内部的液体控制装置来控制加液。超声波雾化装置的出口与三温区流化床反应器的进料口相连接，反应器的出料口通过透明管与旋风分离器相连接，旋风分离器上面的气体出口与净化处理装置相连接，下面的固体捕集出口与固体收集器相连接。经过旋风分离器后，大量的气体向上通过净化装置后排向大气，而固体则捕集到固体收集装置中。碳纳米管生长最难控制的就是气场和流场温度差异相互影响，由于变量太多，无法确保生长的碳纳米管形态一致，从而质量非常低，本方案完全解决气场和流场及温度变量的相互影响。本方案通过流量计和静态混气室把气体均匀混拌，通过上通气，气体通过双层管(夹层管预热气体，内腔体生长碳纳米管)确保通入的气体进入生长腔体内温度一直，通过多空陶瓷网的结构设计，从而解决均匀进气的问题。使的生长腔体热场流场稳定，确保得到高质量重复性好的碳纳米管。

名称

复合氧化物氢分离膜制备用CVD设备

名称

1200℃高真空自动循环设备 BTF-1200C-HV

设备型号：BTF-1200C-HV 设备简介：该款设备由我公司和中国科学院新疆理化技术研究所共同研制的高真空自动循环设备，内外双热电偶控制，内热电偶制动，使用者可以设定设备循环温度点，可根据内热电偶测得的温度制动，推动炉管进出加热腔体，整个实验过程可自动控制无需人工干涉。设备310S不锈钢棒整棒掏空无焊接处理，CF法兰无氧铜密封，能达到极高的真空度。