粉体碳包覆设备_产品中心_安徽贝意克设备技术有限公司

名称

自动进料回转CVD系统 BTF-1200C-R-CVD

型号：BTF-1200C-R-CVD

名称

等离子体增强回转PECVD系统 BTF-1200C-R-PECVD

设备型号：BTF-1200C-R-PECVD 设备简介：我司研制的回转PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆积现象；该款设备选用特殊形状(两头细中间粗)的石英管作为化学气相沉积的反应室;加热的同时炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉体材料翻炒有助于烧结得更均匀;而且炉体可左右大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0~35°可调。设备应用：此款设备现广泛应用于低温石墨烯制备实验、粉体材料碳包覆实验。

名称

小型回转PECVD系统 BTF-1200C-R-S-PECVD

设备型号：BTF-1200C-R-S-PECVD 设备简介：BTF-1200C-R-S-PECVD是一款小型回转PECVD，该设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀；可左右大角度倾斜，方便出放料，倾斜角度在0~35°之间；该款设备是全自动Plasma增强CVD系统(PECVD)，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以实现低压条件下的实验，针对低温石墨烯、碳纳米管生长等。PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆积现象；本款设备可以做金属复合石墨烯材料，是目前最高端的金属复合材料制备设备。

名称

连续进出料等离子体增强回转PECVD设备 BTF-1200C-RP-PECVD

设备型号：BTF-1200C-RP-PECVD 设备简介：该款设备是全自动Plasma增强CVD系统(PECVD)，连续可控温度以及Plasma强度等，配备真空系统，可以低压条件下实现工艺，PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光相对均匀等效，很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，该设备炉管可360°旋转，有助于粉料的烧结更均匀，可大角度倾斜，方便进出料，倾斜角度在0-35°之间，所有物料经过的管道都选用非金属材质，如：进出料腔体选用石英材质，推料杆选用石英及聚四氟材质。