硫化钼制备

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1200℃前端预热法硫化钼制备CVD设备 BTF-1200C-III-S-400C-D

1200℃前端预热法硫化钼制备CVD设备 BTF-1200C-III-S-400C-D

设备型号：BTF-1200C-Ⅲ-S-400C-D 设备简介：前端预热法硫化钼制备CVD设备由预热炉、三温区管式炉、低真空机组和供气系统组成。前端配有可加热到500℃的预加热器，辅助硫粉蒸发，后端为三温区硫化炉，温度控制精确，操作简便。同时搭配三路质量流量计系统，可以精确控制实验所需的气体流量，低真空机组可以满足抽真空的需求。

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CVD

三温区

硫化钼制备