1200℃ 粉体碳纳米管生长设备 BTF-1200C-3VT-6ZW

设备型号：BTF-1200C-3VT-6ZW

1200℃ 回转CVD系统 BTF-1200C-III-R-CVD-D210

设备型号：BTF-1200C-III-R-CVD-D210 设备简介：该款设备由控制柜和加热炉组成，控制柜为防爆柜体，内置电路板和气路板，外部可通过触摸屏及手阀操控电路和气路；加热炉由一台三温区开启式管式炉及相应配件组成，炉管可回转，平台可升降；设备左端法兰是进气端，配有截止阀和压力表控制，法兰上部配有真空计，抽口由手动挡板阀搭配防爆变频真空泵组成，最左侧为收集罐供设备倾斜收料，收料同时管壁上配有气锤供防止粘料；设备中部为三温区加热炉，炉盖可电动开启关闭；设备右端法兰为出气端，由真空球阀+转接头组成出气端，法兰后端配有自动泄压装置（传感器+电磁阀），同时配有点火装置；炉管同时配有金属管（可气锤敲击）和石英管（不需要气锤）可相互切换使用。

宽幅卷对卷连续生长石墨烯CVD设备 RTR-CVD-500

设备型号：RTR-CVD-500

多壁碳纳米管生长设备 BST-1200C-CVD

设备型号：BST-1200C-CVD（年产量：2吨）