1200℃ 智能型PECVD系统 PECVD-500A

设备型号：PECVD-500A 设备简介：该设备是将所有的控制部分集为一体的一款智能型PECVD系统，设备配备PE射频电源，将CVD系统升级为PECVD。当参与反应的气氛进入炉管在射频电源的作用下产生离子体，可使反应更加充分。同时等离子体起增强的作用，从而很大程度上优化实验的工艺条件。与传统CVD系统比较，生长温度更低。使用滑轨炉实现快速升温和降温，设备特有的专利技术使得整管辉光均匀等效，均匀生长。

1200℃ 三温区滑轨PECVD系统 PECVD-500A-III

设备型号：PECVD-500A-III 设备简介：这是一款由三温区加热炉、射频组件、气路系统、及自动化控制软件集成的智能型PECVD系统。开启式加热炉炉膛采用超轻氧化铝纤维材料，配K型热电偶。设备升降温控制灵活、加热炉可开启方便客户更换维修反应管；气路系统由质量流量计精确控制多路气体按不同流量进行混合配比后进入反应管内，500W高性能射频辉光均匀，可使整个反应腔体都处于辉光产生区。

宽幅卷对卷连续生长石墨烯CVD设备 RTR-CVD-500

设备型号：RTR-CVD-500

1200℃小型滑轨式快速升降温炉 BTF-1200C-S-SL

设备型号：BTF-1200C-S-SL 设备简介：BTF-1200C-S-SL小型滑轨炉是根据开启式真空管式炉改装而来的，操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。这款设备是专为生长石墨烯而研制的石墨烯生长专用炉，也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验。